JPS62118945A - 中子コ−テイング装置 - Google Patents
中子コ−テイング装置Info
- Publication number
- JPS62118945A JPS62118945A JP25792485A JP25792485A JPS62118945A JP S62118945 A JPS62118945 A JP S62118945A JP 25792485 A JP25792485 A JP 25792485A JP 25792485 A JP25792485 A JP 25792485A JP S62118945 A JPS62118945 A JP S62118945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- core
- liquid tank
- slide base
- coating solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ０発明の目的
（１） 産業上の利用分野
本発明は、ダイカストその他の鋳造用の中子の製造に際
して、中子にコーティング層を施す装置に関する。
して、中子にコーティング層を施す装置に関する。
（２）従来の技術
従来、鋳造用の中子は、砂を有機バインダー等で固めて
形成されており、このような中子においては、耐圧性の
大きいこと、表面にクランクや空孔等が生じないこと、
等が要求されており、これらの要求を満たすために、た
とえば特公昭５７−５９０１３号公報に記載されている
ように、中子の表面にコーティング層を施すことが行わ
れている。そして、中子の表面にコーティング層を施す
方法としては、液槽内のコーティング溶液（粉末状の耐
火物や熱硬化性樹脂等の溶けた溶液）の成分が沈澱しな
いように、コーティング溶液を撹拌しながら、このコー
ティング溶液中に、中子を浸漬させた後、コーティング
溶液中から引き上げて乾燥させる方法が知られている。
形成されており、このような中子においては、耐圧性の
大きいこと、表面にクランクや空孔等が生じないこと、
等が要求されており、これらの要求を満たすために、た
とえば特公昭５７−５９０１３号公報に記載されている
ように、中子の表面にコーティング層を施すことが行わ
れている。そして、中子の表面にコーティング層を施す
方法としては、液槽内のコーティング溶液（粉末状の耐
火物や熱硬化性樹脂等の溶けた溶液）の成分が沈澱しな
いように、コーティング溶液を撹拌しながら、このコー
ティング溶液中に、中子を浸漬させた後、コーティング
溶液中から引き上げて乾燥させる方法が知られている。
従来のこの種の方法において使用される中子コーティン
グ装置は、コーティング溶液中で回転する撹拌機を液槽
の一方に偏らせて配設し、他方側に中子浸漬用のスペー
スを設けたり、または、左右に細長い直方体形状の液槽
の左右両端部に前記撹拌機を配設し、中央部に中子浸漬
用のスペースを設けたりしていた。
グ装置は、コーティング溶液中で回転する撹拌機を液槽
の一方に偏らせて配設し、他方側に中子浸漬用のスペー
スを設けたり、または、左右に細長い直方体形状の液槽
の左右両端部に前記撹拌機を配設し、中央部に中子浸漬
用のスペースを設けたりしていた。
（３）発明が解決しようとする問題点
前記従来の中子コーティング装置は、液槽中における撹
拌機の位置が固定されているため、撹拌機の位置から離
れた位置では、コーティング溶液の撹拌が充分に行われ
ないことがある。したがって、撹拌機から離れた液槽部
分においては、コーティング溶液の成分が沈澱したりし
て、コーティング溶液の全体的な均一性が確保できない
ので、中子のコーテイング品質の均一性を確保できない
という問題点があった。
拌機の位置が固定されているため、撹拌機の位置から離
れた位置では、コーティング溶液の撹拌が充分に行われ
ないことがある。したがって、撹拌機から離れた液槽部
分においては、コーティング溶液の成分が沈澱したりし
て、コーティング溶液の全体的な均一性が確保できない
ので、中子のコーテイング品質の均一性を確保できない
という問題点があった。
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、液槽
内のコーティング溶液を、その成分が沈澱することのな
いように撹拌して、コーティング溶液の均一性を確保す
ることを目的とする。
内のコーティング溶液を、その成分が沈澱することのな
いように撹拌して、コーティング溶液の均一性を確保す
ることを目的とする。
Ｂ０発明の構成
（１１問題点を解決するための手段
前記目的を達成するために、本発明の中子コーティング
装置は、液槽内のコーティング溶液を撹拌する撹拌装置
を備えた中子コーティング装置において、前記撹拌装置
を、前記液槽の上面に沿って往復動するスライドベース
で支持したことを特徴とする。
装置は、液槽内のコーティング溶液を撹拌する撹拌装置
を備えた中子コーティング装置において、前記撹拌装置
を、前記液槽の上面に沿って往復動するスライドベース
で支持したことを特徴とする。
（２）作 用
前述の構成を備えた本発明の中子コーティング装置は、
スライドベースが液槽の上面に沿った所定位置に在ると
き、中子浸潤スペース（すなわちスライドベースに支持
された撹拌装置が存在しない液槽内のスペース）に中子
を浸漬してから引き上げる。それから、スライドベース
を液槽の上面に沿って往復動させると、スライドベース
に支持された撹拌装置も、コーティング溶液を撹拌しな
がら、往復動する。このとき、前記撹拌装置は、液槽内
の中子浸漬用のスペースを含む略全域を撹拌するので、
液槽全域にわたってコーティング溶液の成分が沈澱する
のが防止される。それから、前記スライドベースが往復
動じて前記所定位置に戻った状態で、前記中子浸漬スペ
ースに新たな別の中子を浸漬してから引き上げる。これ
を繰り返すことにより、液槽中のコーティング溶液を広
範囲に撹拌して常に均一状態に保ちながら、中子表面に
コーティング溶液を付着させる。そして、付着したコー
ティング溶液を乾燥させると、中子表面に均一なコーテ
ィング層が形成される。
スライドベースが液槽の上面に沿った所定位置に在ると
き、中子浸潤スペース（すなわちスライドベースに支持
された撹拌装置が存在しない液槽内のスペース）に中子
を浸漬してから引き上げる。それから、スライドベース
を液槽の上面に沿って往復動させると、スライドベース
に支持された撹拌装置も、コーティング溶液を撹拌しな
がら、往復動する。このとき、前記撹拌装置は、液槽内
の中子浸漬用のスペースを含む略全域を撹拌するので、
液槽全域にわたってコーティング溶液の成分が沈澱する
のが防止される。それから、前記スライドベースが往復
動じて前記所定位置に戻った状態で、前記中子浸漬スペ
ースに新たな別の中子を浸漬してから引き上げる。これ
を繰り返すことにより、液槽中のコーティング溶液を広
範囲に撹拌して常に均一状態に保ちながら、中子表面に
コーティング溶液を付着させる。そして、付着したコー
ティング溶液を乾燥させると、中子表面に均一なコーテ
ィング層が形成される。
（３）実施例
以下、図面により本発明の一実施例について説明する。
第１図及び第２図において、直方体伏の液槽１は、側壁
２および底壁３から構成されており、側壁２の上部外周
には、側壁２よりも高さの高い外壁を有する樋４が配設
されている。そして、液槽Ｉ内に入れたコーティング溶
液が側壁２を越えて溢流したときには、樋４に流れ、こ
れに連なる溢流槽１４に溜まるようになっている。なお
溢流槽１４内のコーティング溶液は適宜液槽１内に戻さ
れる。
２および底壁３から構成されており、側壁２の上部外周
には、側壁２よりも高さの高い外壁を有する樋４が配設
されている。そして、液槽Ｉ内に入れたコーティング溶
液が側壁２を越えて溢流したときには、樋４に流れ、こ
れに連なる溢流槽１４に溜まるようになっている。なお
溢流槽１４内のコーティング溶液は適宜液槽１内に戻さ
れる。
前記液槽１の対向する部分の上端部には、一対のレール
ガイド５が平行に配設されている。この一対のレールガ
イド５には、これと直交する方向に延設され、前記液槽
１を跨いでスライドベース６が配設され、このスライド
ベース６には、複数のローラ７が設けられている。これ
らの複数のローラ７は、前記一対のレールガイド５によ
って転勤可能に支持されている。
ガイド５が平行に配設されている。この一対のレールガ
イド５には、これと直交する方向に延設され、前記液槽
１を跨いでスライドベース６が配設され、このスライド
ベース６には、複数のローラ７が設けられている。これ
らの複数のローラ７は、前記一対のレールガイド５によ
って転勤可能に支持されている。
また、前記液槽１には、ラック８が、第１図に示すよう
に、前記レールガイド５の外側に位置するように配設さ
れており、前記スライドベース６には、前記ラック８と
噛み合うピニオン９およびこのピニオン９を駆動する往
復用モータ１ｏが取付けられている。そして、この往復
用モータ１゜を、正逆両方向に回転制御することにより
、前記スライドベース６は、前記レールガイド５に案内
され、液槽ｌの上面に沿って、第１図に実線で示した所
定位置Ｐ、と二点鎖線で示した他の位置Ｐ８との間で、
往復動するようになっている。
に、前記レールガイド５の外側に位置するように配設さ
れており、前記スライドベース６には、前記ラック８と
噛み合うピニオン９およびこのピニオン９を駆動する往
復用モータ１ｏが取付けられている。そして、この往復
用モータ１゜を、正逆両方向に回転制御することにより
、前記スライドベース６は、前記レールガイド５に案内
され、液槽ｌの上面に沿って、第１図に実線で示した所
定位置Ｐ、と二点鎖線で示した他の位置Ｐ８との間で、
往復動するようになっている。
そして、スライドベース６が前記所定位置Ｐｌにあると
き、液槽１内には、中子浸漬用のスペースＳ（第１図参
照）が形成されるようになっている。このスペースＳは
、第１図実線状態において、スライドベース６およびこ
れに支持された後述の撹拌装置が存在せず、中子を自由
に出入させることのできる液槽１内のスペースである。
き、液槽１内には、中子浸漬用のスペースＳ（第１図参
照）が形成されるようになっている。このスペースＳは
、第１図実線状態において、スライドベース６およびこ
れに支持された後述の撹拌装置が存在せず、中子を自由
に出入させることのできる液槽１内のスペースである。
スライドベース６の中央部下面には、スクレーバｌｌが
垂設され、このスクレーバ１１は、断面略菱形の角柱に
形成されて、前記液槽１の底壁３に近接する位置迄延設
されている。前記スライドベース６下面の、前記スクレ
一バ１１の両側には、一対の撹拌ｊａ１２，１２が垂設
されており、これらの撹拌機１２．１２は、それぞれの
位置に対応してスライドベース６上面に配設されたモー
タ１３．１３によって、第１図矢印Ｒの方向に回転駆動
される。
垂設され、このスクレーバ１１は、断面略菱形の角柱に
形成されて、前記液槽１の底壁３に近接する位置迄延設
されている。前記スライドベース６下面の、前記スクレ
一バ１１の両側には、一対の撹拌ｊａ１２，１２が垂設
されており、これらの撹拌機１２．１２は、それぞれの
位置に対応してスライドベース６上面に配設されたモー
タ１３．１３によって、第１図矢印Ｒの方向に回転駆動
される。
この実施例では、前記スクレーバ１１、一対の撹拌機１
２．１２およびモータＬ３．１３により、本発明でいう
撹拌装置Ｕが構成されている。
２．１２およびモータＬ３．１３により、本発明でいう
撹拌装置Ｕが構成されている。
次にこの実施例の作用について説明する。
前述の構成をそなえた中子コーティング装置は、液槽１
の上面に沿って往復動するスライドベース６が、前記所
定位Ｈｐ ＋に在るとき、中子浸漬用のスペースＳに中
子を？ｌ ｔ１４してから引き上げる。
の上面に沿って往復動するスライドベース６が、前記所
定位Ｈｐ ＋に在るとき、中子浸漬用のスペースＳに中
子を？ｌ ｔ１４してから引き上げる。
それから、前記撹拌装置Ｕの一対の撹拌機１２を第２図
矢印Ｒ方向に示すように互いに逆向きに回転させながら
、スライドベース６を液槽１の上面に沿って、前記撹拌
装置Ｕとともに、前記所定位置Ｐ、と他の位置Ｐ２との
間で往復動させる。そうすると、液槽１内の撹拌機１２
が通過するスペースに存在するコーティング溶液は、撹
拌機１２によって撹拌され、また、液槽１中央部のコー
ティング溶液も、スクレーバ１１によって撹拌されると
ともに、撹拌＠１２に近づく方へ案内されて、撹拌機１
２によっても撹拌される。したがって、液槽１内のコー
ティング溶液は、液槽ｌ内の中子浸漬用のスペースＳを
含む広い範囲にわたって撹拌されるので、液槽内の略全
スペースにわたってコーティング溶液の成分が沈澱する
のが防止される。このようにして、前記スライドベース
６が１回往復動じて前記第２図の所定位Ｃｐ ＋に戻っ
た状態で、前記中子浸漬スペースＳに新たな別の中子を
浸漬してから引き上げる。これを操り返すことより、液
槽１中のコーティング溶液を広範囲に撹拌して、常に均
一状態に保ちながら、中子表面にコーティング溶液を付
着させる。そして、付着したコーティング溶液を乾燥さ
せると、中子表面に均一なコーティング層が形成される
。
矢印Ｒ方向に示すように互いに逆向きに回転させながら
、スライドベース６を液槽１の上面に沿って、前記撹拌
装置Ｕとともに、前記所定位置Ｐ、と他の位置Ｐ２との
間で往復動させる。そうすると、液槽１内の撹拌機１２
が通過するスペースに存在するコーティング溶液は、撹
拌機１２によって撹拌され、また、液槽１中央部のコー
ティング溶液も、スクレーバ１１によって撹拌されると
ともに、撹拌＠１２に近づく方へ案内されて、撹拌機１
２によっても撹拌される。したがって、液槽１内のコー
ティング溶液は、液槽ｌ内の中子浸漬用のスペースＳを
含む広い範囲にわたって撹拌されるので、液槽内の略全
スペースにわたってコーティング溶液の成分が沈澱する
のが防止される。このようにして、前記スライドベース
６が１回往復動じて前記第２図の所定位Ｃｐ ＋に戻っ
た状態で、前記中子浸漬スペースＳに新たな別の中子を
浸漬してから引き上げる。これを操り返すことより、液
槽１中のコーティング溶液を広範囲に撹拌して、常に均
一状態に保ちながら、中子表面にコーティング溶液を付
着させる。そして、付着したコーティング溶液を乾燥さ
せると、中子表面に均一なコーティング層が形成される
。
以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実
施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載
された本発明を逸脱することなく、種々の小変更を行な
うことが可能である。
施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載
された本発明を逸脱することなく、種々の小変更を行な
うことが可能である。
例えば、撹拌装置に１個のスクレーバとその両側に配設
した合計２個の回転する撹拌機とを備える代わりに、２
個のスクレーバと１個の撹拌機とを備えたり、スクレー
バまたは撹拌機のいずれか一方のみを備えたりすること
も可能である。
した合計２個の回転する撹拌機とを備える代わりに、２
個のスクレーバと１個の撹拌機とを備えたり、スクレー
バまたは撹拌機のいずれか一方のみを備えたりすること
も可能である。
また、スライドベースを往復動させる手段としては、ピ
ニオンとランクを使用する代わりに、油圧シリンダや駆
動輪等地の駆動手段を使用することも可能である。
ニオンとランクを使用する代わりに、油圧シリンダや駆
動輪等地の駆動手段を使用することも可能である。
Ｃ０発明の効果
以上の実施例により明らかなように本発明によれば、撹
拌装置を、前記液槽の上面に沿って往復動するスライド
ベースで支持することにより、液槽内の略全域にわたっ
てコーティング溶液を撹拌することができるので、液槽
内のコーティング溶液の成分の沈澱を防止することがで
きる。
拌装置を、前記液槽の上面に沿って往復動するスライド
ベースで支持することにより、液槽内の略全域にわたっ
てコーティング溶液を撹拌することができるので、液槽
内のコーティング溶液の成分の沈澱を防止することがで
きる。
したがって、コーティング溶液の均一性が確保できるの
で、中子のコーテイング品質の均一性を確保することが
できる。
で、中子のコーテイング品質の均一性を確保することが
できる。
第１図は、本発明中子コーティング装置の平面図、第２
図は第１図ｎ−ｎ線に沿う縦断面図である。 １・・・液槽、６・・・スライドベース、１１・・・ス
クレーバ、１２・・・撹拌機、Ｕ・・・撹拌装置時 許
出 願 人 本田技研工業株式会社第１図 第２図
図は第１図ｎ−ｎ線に沿う縦断面図である。 １・・・液槽、６・・・スライドベース、１１・・・ス
クレーバ、１２・・・撹拌機、Ｕ・・・撹拌装置時 許
出 願 人 本田技研工業株式会社第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］液槽（１）内のコーティング溶液を撹拌する撹拌
装置（Ｕ）を備えた中子コーティング装置において、前
記撹拌装置（Ｕ）を、前記液槽（１）の上面に沿って往
復動するスライドベース（６）で支持したことを特徴と
する中子コーティング装置。 ［２］特許請求の範囲第１項に記載された中子コーティ
ング装置において、前記撹拌装置（Ｕ）は、コーティン
グ溶液中で回転する撹拌機（１２）を備えていることを
特徴とする中子コーティング装置。 ［３］特許請求の範囲第１項に記載された中子コーティ
ング装置において、前記撹拌装置（Ｕ）は、コーティン
グ溶液中で回転する撹拌機（１２）とコーティング溶液
中に垂設されたスクレーバ（１１）とを備えていること
を特徴とする中子コーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25792485A JPS62118945A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 中子コ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25792485A JPS62118945A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 中子コ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62118945A true JPS62118945A (ja) | 1987-05-30 |
| JPS6358663B2 JPS6358663B2 (ja) | 1988-11-16 |
Family
ID=17313079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25792485A Granted JPS62118945A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 中子コ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62118945A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100591561B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2006-06-19 | (주)씨제이이엔지 | 코어의 도형제 방울 제거장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4996563U (ja) * | 1972-12-12 | 1974-08-20 | ||
| JPS5720255U (ja) * | 1980-07-10 | 1982-02-02 |
-
1985
- 1985-11-18 JP JP25792485A patent/JPS62118945A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4996563U (ja) * | 1972-12-12 | 1974-08-20 | ||
| JPS5720255U (ja) * | 1980-07-10 | 1982-02-02 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100591561B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2006-06-19 | (주)씨제이이엔지 | 코어의 도형제 방울 제거장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6358663B2 (ja) | 1988-11-16 |
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