JPS6211832B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6211832B2
JPS6211832B2 JP55020251A JP2025180A JPS6211832B2 JP S6211832 B2 JPS6211832 B2 JP S6211832B2 JP 55020251 A JP55020251 A JP 55020251A JP 2025180 A JP2025180 A JP 2025180A JP S6211832 B2 JPS6211832 B2 JP S6211832B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
charge transfer
signal
photoelectric conversion
photodiode
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55020251A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56116376A (en
Inventor
Masaru Yoshino
Takamichi Wada
Mitsuo Nakayama
Yasuaki Terui
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2025180A priority Critical patent/JPS56116376A/ja
Publication of JPS56116376A publication Critical patent/JPS56116376A/ja
Publication of JPS6211832B2 publication Critical patent/JPS6211832B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14645Colour imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一次元あるいは二次元に発生する光情
報を電気信号として得るための固体撮像装置に関
するものである。
従来、光情報を電気信号に変換するための装置
として、ホトダイオード等の光センサーと自己走
査機能を持たせるための電荷転送素子とを組合せ
た装置がいろいろ発表されているが、そのうちで
光センサー部と電荷転送部との間の光電変換信号
のやりとりを、特別の制御ラインを付加すること
なく、単に電荷転送のためのクロツク信号ライン
(二相またはそれ以上)に制御パルスを印加する
ことだけにより、光電変換信号を電荷転送部に読
み込むことを可能にするものに、特願昭50―
58826号(特開昭51―134089号公報に記載するも
のがある。しかるに上記発明では、ホトダイオー
ドから光電変換信号を電荷転送素子列に読み込む
ための制御パルスの電位は、電荷転送素子列を駆
動するためのクロツク信号の電位よりも高電位で
あることが適正な動作のための条件である。一方
半導体基板上に上記クロツク信号を印加するため
のゲート回路を実現するためにはMOSトランジ
スタを構成するのが適当であるが、このMOSト
ランジスタの耐圧が、上記ゲート回路に印加しう
る最大の電圧を規定する。したがつて、上述の様
な制御パルスの電位がクロツク信号電位よりも高
電位である駆動方式では、そのゲート回路の耐圧
により制御パルスの電位が規定されるため、クロ
ツク信号の電位はより小さく規定されて、転送さ
れる信号量を大きく出来なかつた。そのための
S/N比が一定レベル以上に向上できなかつた。
また一方上記制御パルスの存在のために、装置の
低電圧駆動をも妨げる結果となつていた。さら
に、電荷転送型の固体撮像装置では、ブルーミン
グの防止も大きな問題である。
ところで、光感知素子で受光した光電変換信号
を電荷転送素子列に読み込むインターライン方式
の固体撮像装置においては、光感知素子に光を照
射し、電荷転送素子列には光を照射しないために
電荷転送素子列の真上に光遮蔽電極を設け、光遮
蔽電極を一定電位に保持することにより、電荷転
送動作を妨げない様にすることは、一般的に知ら
れた構成である。
本発明の固体撮像装置では上述の様な不都合を
上述の様な光遮蔽電極の一部を工夫することによ
り、解決して、低電圧で動作可能で、信号荷量も
大きくS/Nの大きな、高密度化可能な自己走査
型の固体撮像装置を提供するものである。
以下、図面を用いて本発明の詳細を説明する。
第1図は本発明を半導体基板表面上に実現した
場合の一実施例を示す。同図においては、1は半
導体基板、2,3は基板とは逆導電型の拡散層で
あり、2は電荷を転送するためのBBD転送段の
ソース(ドレイン)電極を構成し、3は光感知の
ためのホトダイオードを構成する。4は絶縁のた
めの酸化膜であり、5は光電変換信号を転送する
ためのクロツク電極とホトダイオードから電荷転
送段へ光電変換信号を読み込むためのゲート電極
とを兼ねた電極、6が電荷転送段への光遮蔽電極
を表わしており、この電極はホトダイオード3と
の容量性結合を有し、電荷転送素子列を駆動する
ためのパルス信号と同期関係を持つパルス信号を
印加する電極である。また8はホトダイオード3
への光照射を妨げないための光照射窓である。
第2図には、第1図の本発明の一実施例を上面
より見た図を示した。第2図において、21〜2
3および31〜33は基板と逆導電型(ここでは
n+)の拡散層であり、21〜23は電荷を転送す
るためのBBD転送段のソース(ドレイン)電極
を構成し、31〜33は光感知のためのホトダイ
オードを構成する。41は絶縁のための酸化膜で
あり、51〜53が光電変換信号を転送するため
のクロツク電極とホトダイオードから電荷転送段
へ光電変換信号を読み込むためのゲート電極とを
兼ねた電極、61が光遮蔽電極であり電荷転送素
子列への光電変換信号の読み込みを制御するため
の制御信号印加用電極を兼ねたものを表わす。ま
た、81〜83はホトダイオードへ光を照射する
ための窓である。31〜33の各ホトダイオード
より得られた光電変換信号は第2図に示した信号
の転送方向に転送されたのち、出力部へ信号が送
られる。なお、本装置ではインタレース走査を行
なわせるため、ホトダイオード31,33の光電
変換信号が転送されるフイールドと、ホトダイオ
ード32の光電変換信号が転送されるフイールド
はそれぞれ別で、お互いを合わせて1フレームの
映像信号となる。
次に第1図,第2図の様な本発明の一実施例の
固体撮像装置を実際に駆動するためのパルス列と
ホトダイオードの電位を説明するための図を第3
図に示した。第3図において、φ,φで示し
たパルス列のうちφTなる部分が光電変換信号を
転送するためのクロツクパルスであり、φR
φRがホトダイオードから電荷転送段へ光電変
換信号を読み込むためのパルスである。なお、φ
,φなるパルス列は第1図の電極5に印加さ
れるが、紙面に垂直な方向の電荷転送段の電極
(第2図では例えば51と52)には交互にφ
とφが繰り返し印加されて電荷の転送が行なわ
れる。なお、ホトダイオードから電荷転送段への
光電変換信号の読み込みは電荷転送が行なわれて
いない期間(φTが加わつていない期間)に行な
われ、しかもφRとφRはそれぞれ交互に印加
されているが、これは相隣るホトダイオードにお
いてインターレース走査を行なわせているからで
ある。また、φなるクロツクが第1図の光遮蔽
電極6に印加されている。
次に第1図の紙面に垂直方向の相隣るホトダイ
オード,(第2図では例えば32,31が
にあたる)における電位をクロツクタイミング
毎に見てみよう。(第3図参照)タイミングか
らの間はホトダイオードから信号転送段に読み
込まれた光電変換信号が出力段に転送される期間
で、各々のダイオードの電位は光情報の多少によ
り、タイミングまでの間に図の様に減少する。
タイミングではホトダイオードと容量性結合を
有する光遮蔽電極に印加されていたV2なる電圧
のφパルスが零電圧近くになるため各々のホト
ダイオード,ではV2′(V2′<V2,V2′V2)な
る電位だけ電位が降下する。次にタイミング
で、ホトダイオードからの光電変換信号読み込
みパルスφRがホトダイオードにのみ印加さ
れるため、ホトダイオードの光電変換信号が電荷
転送段に転送されるかわりに電荷転送段から充電
されてホトダイオードの電位はVR(ここで、
φRの電圧をV1とすると、VRV1−VT,VT
はMOSトランジスタのしきい値電圧)なる電位
まで引き上げられる。この時のVRなる電位がホ
トダイオードで感知しうる最大の電位であり、光
情報の多少によりVRなる電位からダイオード電
位が降下した値つまり(VR−VS)が光電変換
信号として、出力段へ転送されて出力される訳で
ある。ここで正常なる動作を行なわせるために
(VR−VR)がマイナスとならない様光量を調
節するる必要がある。タイミングでは以上の動
作が完全に終了し、タイミングでクロツクφ
が再び印加されるとホトダイオードと光遮蔽電極
とは容量性結合を有しているのでホトダイオード
の電位は(VR+V2′)となり、次のタイミング
からの間に光情報の多少によりホトダイオー
ド電位として感知するための準備がなされる。
なお、タイミング〜の間にホトダイオード
には、φRは印加されず、φのみが変化する
ため、ホトダイオードの電位は変化しない。タ
イミングからの間に光情報が各々のホトダイ
オード,に蓄積された後、今度はタイミング
からの間に、ホトダイオードの電位(VR
−VS)が電荷転送段へ読み出されて、ホトダ
イオードの電位がVRにリセツトされ、ホトダ
イオードの電位は変化しない。以上のような動
作で光電変換信号の読み込みと転送が繰り返され
て画像信号を生み出すのが本固体撮像装置であ
る。ここで、光電変換信号の転送期間(第3図A
〜BおよびE〜F)には各ホトダイオードにはφ
なるパルスによりV2電位が印加されているた
め信号の転送のみが行なわれ、読み込み期間(第
3図B〜EおよびF〜I)にはV2電位が印加さ
れていないので信号の読み込みが行なわれる。な
お本装置では光情報の蓄積時間TWは2回の信号
転送期間すなわち2フイールド分の時間を有す
る。また、第3図でも示した様に、ホトダイオー
ドから電荷転送への信号読み込みパルスφR
φRの電圧は電荷転送のためのクロツクパルス
φTと同程度の電圧で良い。なお、φR,φR
の電圧がφTよりも低くても、φの電圧V2を適
当な値にすることにより、本装置は正常動作させ
ることができるが、理想的な動作条件は、φR
,φRの電圧、φTの電圧そしてφの電圧を
それぞれ同電圧とすることである。この様な動作
条件では、ゲート回路の耐圧を気にすることなく
動作可能で、得られる信号量も大きくできるから
である。
第4図には、本発明の第1図とは別の実施例を
示した。第4図では、第1図のホトダイオードと
容量性結合を有する光遮蔽電極6の代わりに、
3′と7′とのそれぞれ逆導電型の不純物拡散層で
構成されるダイオードと容量性結合された光遮蔽
電極6′で第1図と同様の効果を得ようとするも
のである。
また、第1図、第4図では半導体基板としてP
型の基板を用いた場合を示したが、N型基板を用
いた場合も同様である。またホトダイオード、
BBD以外の光感知素子、電荷転送素子を用いた
場合も同様である。
次に、第1図の6、第2図の61、第4図の
6′の様な光遮蔽電極において、電荷転送動作中
には、V2なる電位の一定電位が印加されている
ため、光電変換信号の電位VS,VSの値が
V2′の値より小さくなるほどの過度の光量の時は
第3図B〜EあるいはF〜Iの時刻に基板または
光遮蔽電極より不足の電荷が供給されることによ
り、光電変換信号の電位VS,VSは、光遮蔽
電極の電位V2′より低下することなく、したがつ
て通常の電荷転送型の固体撮像装置でよく見られ
る様なブルーミング現象を抑制することも可能と
なる。
以上述べた様に、本発明によれば、ホトダイオ
ードから光電変換信号を電荷転送素子に読み込む
ためのパルス電圧は、電荷転送クロツクパルス電
圧と同電圧で良く、したがつて低電圧で動作可能
で、ゲート回路の耐圧を越えない程度に信号電荷
量(センサのダイナミツク・レンジとも呼ぶ)を
大きく取ることができ、S/N比の大きな固体撮
像装置を得ることができる。これは、本固体撮像
装置の駆動電源を固定電圧の一電源で実現できる
効果に加えて、固体撮像装置の駆動方法の簡素化
に貢献し、固体撮像装置の発展に多大な効果を及
ぼすものである。また、別の効果として、本発明
によれば光遮蔽電極に一定のパルス状電圧を印加
した状態で、本発明を駆動させるので、電荷転送
型の固体撮像装置に特有のブルーミングを大巾に
改善することができるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図,第2図は本発明の一実施例を示す構成
断面図および平面図、第3図は第1図を駆動する
ためのクロツクパルス列とホトダイオード電位の
説明図、第4図は本発明の実施例を示す構成断面
図である。 1,1′……半導体基板、2,2′,21,2
2,23……信号転送段としての拡散層、3,
3′,31,32,33……ホトダイオード、
4,4′,41……絶縁膜、5,5′,51,5
2,53……信号読み込みと転送とを兼ねた電
極、6,6′,61……信号読み込みの制御用電
極、8,81,82,83……受光窓、71,7
2,73……信号の転送ゲート。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数の光感知素子と、前記光感知素子で受光
    した光電変換信号を読み出すための電荷転送素子
    と、前記光感知素子との間に容量性結合を有する
    様に形成した前記電荷転送素子の光遮蔽電極と、
    前記電荷転送素子を駆動するクロツク電極と共通
    に形成した前記光電変換信号を該電荷転送素子に
    移送するためのゲート電極とを有し、前記ゲート
    電極に前記光電変換信号を前記電荷転送素子に移
    送するためのクロツク信号とほぼ同電圧のパルス
    信号を印加すると同時に、前記光遮蔽電極に前記
    パルス信号と同期関係を持つパルスを印加するこ
    とにより、前記光感知素子を一定時間一定電位に
    設定保持するとともに前記光電変換信号を前記電
    荷転送素子に移送し、しかるのち前記クロツク電
    極にクロツク信号を印加することにより前記光電
    変換信号を一連の直列信号として読み出すことを
    特徴とする固体撮像装置。
JP2025180A 1980-02-19 1980-02-19 Solidstate image sensor Granted JPS56116376A (en)

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JP2025180A JPS56116376A (en) 1980-02-19 1980-02-19 Solidstate image sensor

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JPS56116376A JPS56116376A (en) 1981-09-12
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JP (1) JPS56116376A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH057290B2 (ja) * 1985-08-28 1993-01-28 Nisuka Kk

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH057290B2 (ja) * 1985-08-28 1993-01-28 Nisuka Kk

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JPS56116376A (en) 1981-09-12

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