JPS62117611A - 濾過装置 - Google Patents
濾過装置Info
- Publication number
- JPS62117611A JPS62117611A JP60257114A JP25711485A JPS62117611A JP S62117611 A JPS62117611 A JP S62117611A JP 60257114 A JP60257114 A JP 60257114A JP 25711485 A JP25711485 A JP 25711485A JP S62117611 A JPS62117611 A JP S62117611A
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- silicon
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- Pending
Links
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Landscapes
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Weting (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明はシリコン板を基体とした半導体装置を製造する
際に用いられる薬液中に含まれる異物粒子を除去するた
めの濾過装置に関する。
際に用いられる薬液中に含まれる異物粒子を除去するた
めの濾過装置に関する。
［従来の技術］
半導体装置を製造する際に用いられる薬液中のたとえば
構成成分の結晶、フォトレジスト残などの貢物粒子が半
導体に付着したばあい、たとえばパターン欠陥などの欠
陥が生じるため、薬液中に含まれている異物粒子を除去
する必要がある。従来より薬液中の異物粒子の除去方法
としてたとえば、第２図に示されるような濾過膜を用い
たちのが用いられている。第２図においで、００）は薬
液中の異物粒子を除去するための濾過膜、（Ｉｌｌは薬
液中に含まれている異物粒子を示す。
構成成分の結晶、フォトレジスト残などの貢物粒子が半
導体に付着したばあい、たとえばパターン欠陥などの欠
陥が生じるため、薬液中に含まれている異物粒子を除去
する必要がある。従来より薬液中の異物粒子の除去方法
としてたとえば、第２図に示されるような濾過膜を用い
たちのが用いられている。第２図においで、００）は薬
液中の異物粒子を除去するための濾過膜、（Ｉｌｌは薬
液中に含まれている異物粒子を示す。
第２図に示されるように薬液に含まれている異物粒子は
、ｉ濾過膜００１のｔｌ雑の隙間あるいは濾過膜（１０
）に設けられた孔を通過することができないので濾過ｆ
ｌｌＱＯ１の表面あるいはその内部で捕捉されるのであ
る。
、ｉ濾過膜００１のｔｌ雑の隙間あるいは濾過膜（１０
）に設けられた孔を通過することができないので濾過ｆ
ｌｌＱＯ１の表面あるいはその内部で捕捉されるのであ
る。
しかしながら上記のように従来のン濾過装置では薬液中
の貢物粒子の除去は物理的方法によるため、ン濾過膜に
設けられた細孔よりも小さな異物粒子は除去されない。
の貢物粒子の除去は物理的方法によるため、ン濾過膜に
設けられた細孔よりも小さな異物粒子は除去されない。
ざらに異物粒子のシリコン製半導体基体への付着のしや
すさは、濾過膜の除去効果とは無関係であり、製造途中
の半導体に付着した異物粒子の優と消過腰の異物粒子の
除去効果とは必ずしも相関関係があるわけではない。
すさは、濾過膜の除去効果とは無関係であり、製造途中
の半導体に付着した異物粒子の優と消過腰の異物粒子の
除去効果とは必ずしも相関関係があるわけではない。
そこで本発明者らは上記問題点を解決しうるン濾過装置
をうるべく鋭意研究を重ねたところ、清浄なシリコン表
面は異物粒子の捕獲効果が大きいことを見出し、本発明
を完成するに至った。
をうるべく鋭意研究を重ねたところ、清浄なシリコン表
面は異物粒子の捕獲効果が大きいことを見出し、本発明
を完成するに至った。
［問題点を解決するための手段］
本発明はン濾過装置本体内にシリコン板を設けてなるこ
とを特徴とする濾過装置に関する。
とを特徴とする濾過装置に関する。
［作 用］
本発明のン濾過装置は異物粒子の大きさに関係なく、と
くにシリコン製半導体基体に付着しやすい異物粒子を優
先的に清適装置内のシリコン表面に捕捉するので、該濾
過装置で濾過した半導体装置の製造に用いられる薬液を
用いたばあい清浄度の高い半導体基体をうろことができ
る。
くにシリコン製半導体基体に付着しやすい異物粒子を優
先的に清適装置内のシリコン表面に捕捉するので、該濾
過装置で濾過した半導体装置の製造に用いられる薬液を
用いたばあい清浄度の高い半導体基体をうろことができ
る。
［実施例］
つぎに本発明の濾過Ｖｔ置の一実施悪様に基づいて説明
するが本発明はかかる一実ｔＡ１９様のみに限定される
ものではない。
するが本発明はかかる一実ｔＡ１９様のみに限定される
ものではない。
第１図は本発明の濾過装置の一実施態様の断面図を示す
。
。
濾過装置本体（１）の上部には薬液注口（３）を有する
蓋［２１が、また該濾過装置（１）の底面には薬液出口
（４）が設けられている。
蓋［２１が、また該濾過装置（１）の底面には薬液出口
（４）が設けられている。
濾過装置本体（１）の内部には多層に設けられたシリコ
ン板（５）を、スリン１−をイ１するシリコン板支持部
（６）で固定してなるン濾過器（７１が設けられている
１、第１図において、薬液？１人口（３）および薬液抽
出口（４）はそれぞれ並（２）および濾過装置本体（１
）下面に設けられているが、たとえばン濾過装置本体（
１）の側面に設けてもよい。
ン板（５）を、スリン１−をイ１するシリコン板支持部
（６）で固定してなるン濾過器（７１が設けられている
１、第１図において、薬液？１人口（３）および薬液抽
出口（４）はそれぞれ並（２）および濾過装置本体（１
）下面に設けられているが、たとえばン濾過装置本体（
１）の側面に設けてもよい。
またシリコン板（５）は単体でも使用しうるが、薬液中
に含まれている異物粒子の大きｔｆ除去効果をうるため
には第１図に示されるごとく任意に複数のシリコン板（
５）を設けるのが好ましい。該シリコン板（５）の形状
は任意であるが、薬液との接触しやすさの点で矩形のも
のが好ましく、さらに必要（、：応じてシリコン板（５
）の表面には孔を設【プてもよい。
に含まれている異物粒子の大きｔｆ除去効果をうるため
には第１図に示されるごとく任意に複数のシリコン板（
５）を設けるのが好ましい。該シリコン板（５）の形状
は任意であるが、薬液との接触しやすさの点で矩形のも
のが好ましく、さらに必要（、：応じてシリコン板（５
）の表面には孔を設【プてもよい。
また濾過器（刀は、カートリッジ形態をなし、濾過装置
本体（１）とシールパツキン（８）によって一体化され
ているが、該ン濾過器（７）は直接濾過装置本体（１）
内に設けたものであってもよい。
本体（１）とシールパツキン（８）によって一体化され
ているが、該ン濾過器（７）は直接濾過装置本体（１）
内に設けたものであってもよい。
使用に際し、薬液注入口（３）から流出した薬液はシリ
コン支持部（６）に設けられたスリットを通り、シリコ
ン板（５）と接触する。ここで薬液中に含まれている異
物粒子がシリコン板（５）に捕獲され、清浄化された薬
液はｉ濾過水路（９）を通り、薬液注出口（４）から流
出する。
コン支持部（６）に設けられたスリットを通り、シリコ
ン板（５）と接触する。ここで薬液中に含まれている異
物粒子がシリコン板（５）に捕獲され、清浄化された薬
液はｉ濾過水路（９）を通り、薬液注出口（４）から流
出する。
また使用しているうちにシリコン板（５）の表面には異
物粒子が付着するが、適時ン濾過装置内にフッ化水素酸
を注入してシリコン板（５）を洗浄してもよく、また濾
過器（７１はカートリッジとして交換しうるようにして
もよい。
物粒子が付着するが、適時ン濾過装置内にフッ化水素酸
を注入してシリコン板（５）を洗浄してもよく、また濾
過器（７１はカートリッジとして交換しうるようにして
もよい。
「発明の効果」
本発明の濾過装置は１１′導体装置を製造する際に用い
る薬液中の異物粒子の大きさに関係なく捕獲できるが、
さらにシリコン製半導体基板には付着しやすい異物粒子
の捕捉に優れており、本発明のび過装置を使用すればパ
ターン欠陥などの欠陥の１５い層れた半導体基体をうろ
ことができるという効果を奏する。
る薬液中の異物粒子の大きさに関係なく捕獲できるが、
さらにシリコン製半導体基板には付着しやすい異物粒子
の捕捉に優れており、本発明のび過装置を使用すればパ
ターン欠陥などの欠陥の１５い層れた半導体基体をうろ
ことができるという効果を奏する。
第１図は本発明の一実施態様を示す濾過装置の断面図、
第２図は従来の薬液中の異物粒子の除去方法を示す図で
ある。 （図面の主要符号） （１）：濾過装置本体 （３）：薬液注入口 （４）：薬液注出口 （５）：シリコン板 （６）：シリコン板支持部
第２図は従来の薬液中の異物粒子の除去方法を示す図で
ある。 （図面の主要符号） （１）：濾過装置本体 （３）：薬液注入口 （４）：薬液注出口 （５）：シリコン板 （６）：シリコン板支持部
Claims (1)
- （１）濾過装置本体内にシリコン板を設けてなることを
特徴とする濾過装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60257114A JPS62117611A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 濾過装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60257114A JPS62117611A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 濾過装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62117611A true JPS62117611A (ja) | 1987-05-29 |
Family
ID=17301924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60257114A Pending JPS62117611A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 濾過装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62117611A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH049634U (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-28 |
-
1985
- 1985-11-15 JP JP60257114A patent/JPS62117611A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH049634U (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-28 |
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