JPS62112767A - 浸漬被覆形成装置 - Google Patents
浸漬被覆形成装置Info
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- JPS62112767A JPS62112767A JP60253185A JP25318585A JPS62112767A JP S62112767 A JPS62112767 A JP S62112767A JP 60253185 A JP60253185 A JP 60253185A JP 25318585 A JP25318585 A JP 25318585A JP S62112767 A JPS62112767 A JP S62112767A
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- partition wall
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
- C23C2/36—Elongated material
- C23C2/38—Wires; Tubes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/008—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths of clad ingots, i.e. the molten metal being cast against a continuous strip forming part of the cast product
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野コ
本発明は、安定した特性を何する被覆線を形成できる浸
漬被覆形成装置に関する乙のである。
漬被覆形成装置に関する乙のである。
「従来の技術」
第３図は従来の浸漬被覆形成装置を示すしので、この浸
漬被覆形成装置Ａは、種線Ｂを通過させる挿通孔１を底
部に形成したグラファイト圧縮形成体からなるるつぼ２
と、このるつぼ２に連結された溶湯供給炉３とを主体と
してｔ（■成されている。
漬被覆形成装置Ａは、種線Ｂを通過させる挿通孔１を底
部に形成したグラファイト圧縮形成体からなるるつぼ２
と、このるつぼ２に連結された溶湯供給炉３とを主体と
してｔ（■成されている。
前記るつぼ２は、その外周に加熱装置５を備えモ断熱容
器６の内部に収納されたもので、断熱容器６の天井部は
冷却室７に、また、断熱容器６の底部は気密ハウジング
８に各々連結されている。
器６の内部に収納されたもので、断熱容器６の天井部は
冷却室７に、また、断熱容器６の底部は気密ハウジング
８に各々連結されている。
この気密ハウジング８は内部にストレーナ９と引き取り
装置１０を備えたものである。また、前記るつぼ２の底
壁の挿通孔ｌにはノズル１２が装ｆｆｆされている。
装置１０を備えたものである。また、前記るつぼ２の底
壁の挿通孔ｌにはノズル１２が装ｆｆｆされている。
また、前記溶湯供給炉３は、圧力炉１５と出湯炉１６と
移送管１７とを主体として構成されている。圧力炉１５
は、その上部に連結されたガスｆＪ’−給管１８と図示
略のダイヤフラム式圧力調整装置を介して還元性ガス供
給源に連結されていて、圧力炉１５内に還元性ガスを供
給できるようになっている。前記出渇炉１６はその底部
を圧力炉Ｉ５に連結し、その上部を移送管１７によって
前記断熱容器６を介してるっぽ２の側底部に連結して設
けられている。
移送管１７とを主体として構成されている。圧力炉１５
は、その上部に連結されたガスｆＪ’−給管１８と図示
略のダイヤフラム式圧力調整装置を介して還元性ガス供
給源に連結されていて、圧力炉１５内に還元性ガスを供
給できるようになっている。前記出渇炉１６はその底部
を圧力炉Ｉ５に連結し、その上部を移送管１７によって
前記断熱容器６を介してるっぽ２の側底部に連結して設
けられている。
前記るつぼ２の底部の挿通孔ＩにはノズルＩ２が嵌合さ
れ、このノズル１２は断熱容器６の底部を貫通して、気
密、ハウジング８に通じている。
れ、このノズル１２は断熱容器６の底部を貫通して、気
密、ハウジング８に通じている。
なお、第３図において２０は溶湯供給口、２１は溶湯量
検知装置を示している。
検知装置を示している。
前記のように構成された浸漬被覆形成装置Ａにあっては
、ガス供給管１８を介して圧力炉１５内の溶湯に一定の
圧力を付加して出湯炉Ｉ６内の溶湯レベルを上昇させ、
るっぽ２内に溶ｍ Ｙを所定量供給した後に、あらかじ
め表面洗浄された種線Ｂを巻き取り装置１０とストレー
ナ９によってノズル１２を介してるつぼ２内に供給し、
連続して引き−ｌ−げつつ種線Ｂの周囲に溶湯Ｙを付着
凝固させて被覆線Ｃを連続製造するものである。
、ガス供給管１８を介して圧力炉１５内の溶湯に一定の
圧力を付加して出湯炉Ｉ６内の溶湯レベルを上昇させ、
るっぽ２内に溶ｍ Ｙを所定量供給した後に、あらかじ
め表面洗浄された種線Ｂを巻き取り装置１０とストレー
ナ９によってノズル１２を介してるつぼ２内に供給し、
連続して引き−ｌ−げつつ種線Ｂの周囲に溶湯Ｙを付着
凝固させて被覆線Ｃを連続製造するものである。
「発明が解決しようとする問題点」
ところで従来、前記浸漬被覆形成装置Ａによって、種線
Ｂに種線Ｂとは異種の金属被覆層を形成して被覆線（例
えば銅被覆鋼線）Ｃを製造することがなされている。そ
して、近年では、前記浸漬被覆形成装置Ａを用いて銅被
覆鋼線を製造する場合に、特に銅被覆率の小さいものの
製造要求が高まっているが、銅被覆率の小さい鋼線を製
造する場合には、被覆率のバラツキから生じろ導電率お
よび引張り強さの変動を最小限に抑えるために、るつぼ
２における溶湯Ｙの湯面高さく溶湯の深さ）を数十ｍｍ
とする必要があり、その液面変動範囲を＝散ｍｍの範囲
に制御する必要がある。
Ｂに種線Ｂとは異種の金属被覆層を形成して被覆線（例
えば銅被覆鋼線）Ｃを製造することがなされている。そ
して、近年では、前記浸漬被覆形成装置Ａを用いて銅被
覆鋼線を製造する場合に、特に銅被覆率の小さいものの
製造要求が高まっているが、銅被覆率の小さい鋼線を製
造する場合には、被覆率のバラツキから生じろ導電率お
よび引張り強さの変動を最小限に抑えるために、るつぼ
２における溶湯Ｙの湯面高さく溶湯の深さ）を数十ｍｍ
とする必要があり、その液面変動範囲を＝散ｍｍの範囲
に制御する必要がある。
ところが、前記浸漬被覆形成装置Ａにあっては、ダイヤ
フラム式圧力調整装置を用いて還元生ガスにより圧力炉
！５内の溶湯を加圧する関係から、±０ 、０１ ｋｇ
ｆ／ ｅ１ｍ’程度の精度で溶湯Ｙを加圧するのが限度
である。即ち、＋ ０００ Ｏｎ＋ｍ＋８．９（ＣＵの
比１）ｘ Ｏ，０！ ４ Ｉ Ｉｎｓの計算式から算出
されるように、±１１ｍｍ程度の場面レベル変動を余儀
なくされる訳である。
フラム式圧力調整装置を用いて還元生ガスにより圧力炉
！５内の溶湯を加圧する関係から、±０ 、０１ ｋｇ
ｆ／ ｅ１ｍ’程度の精度で溶湯Ｙを加圧するのが限度
である。即ち、＋ ０００ Ｏｎ＋ｍ＋８．９（ＣＵの
比１）ｘ Ｏ，０！ ４ Ｉ Ｉｎｓの計算式から算出
されるように、±１１ｍｍ程度の場面レベル変動を余儀
なくされる訳である。
従って従来の浸漬被覆形成装置Ａにあっては、銅被覆率
の小さな被覆鋼線を製造する場合、厳しい規格に収まる
ような安定した導電率や引張り強さを有する被覆鋼線を
製造できない問題があった。
の小さな被覆鋼線を製造する場合、厳しい規格に収まる
ような安定した導電率や引張り強さを有する被覆鋼線を
製造できない問題があった。
なお、前記浸漬被覆形成装置Ａによって、従来、被覆率
が６０〜７０％の被覆鋼線を製造する場合には、るつぼ
２内の液面高さが数百ｍｍであり、圧力炉１５内の圧力
変動に伴う湯面レベルの変動値が湯面高さに対して小さ
いために、従来は面述の問題を生じなかったのである。
が６０〜７０％の被覆鋼線を製造する場合には、るつぼ
２内の液面高さが数百ｍｍであり、圧力炉１５内の圧力
変動に伴う湯面レベルの変動値が湯面高さに対して小さ
いために、従来は面述の問題を生じなかったのである。
ちなみに、溶湯への浸漬時間と被覆層への付着量（被覆
率）との間の関係を第４図に示す。第・１図から、付着
率を２０％ないし３０％の低い値とした場合には、浸漬
時間を従来の１／１０以下とする必要があり、従って液
面高さら１／ｌＯ以下と少なくする必要かある。この状
聾て銅被覆鋼線を製造した場合において、銅被覆鋼線の
長さ方向における銅付着率の分布は第５図の点線に示す
ようになり、付着率の変動か大きいことが明らかである
。このように付着率が大きく変動する原因は、湯面レベ
ルの変動値が従来と同一であっても、溶湯の深さに対す
る変動値の割合が大きいためである。
率）との間の関係を第４図に示す。第・１図から、付着
率を２０％ないし３０％の低い値とした場合には、浸漬
時間を従来の１／１０以下とする必要があり、従って液
面高さら１／ｌＯ以下と少なくする必要かある。この状
聾て銅被覆鋼線を製造した場合において、銅被覆鋼線の
長さ方向における銅付着率の分布は第５図の点線に示す
ようになり、付着率の変動か大きいことが明らかである
。このように付着率が大きく変動する原因は、湯面レベ
ルの変動値が従来と同一であっても、溶湯の深さに対す
る変動値の割合が大きいためである。
従って従来の浸漬被覆形成装置Ａにあっては、小さな被
覆率で被覆線を製造した場合、局面変動率（湯面高さに
対する湯面レベル変動量の割合）か大きくなって被覆率
の変動割合が大きくなる欠点があり、このため製造され
た被覆ｗ４線の強度と導電率の変動が大きくなって品質
が低下する問題かあった。
覆率で被覆線を製造した場合、局面変動率（湯面高さに
対する湯面レベル変動量の割合）か大きくなって被覆率
の変動割合が大きくなる欠点があり、このため製造され
た被覆ｗ４線の強度と導電率の変動が大きくなって品質
が低下する問題かあった。
「発明の目的」
本発明は、前記問題に鑑みてなされたちので、被覆率の
小さな被覆線を製造しても安定した被覆率を得ることか
でき、強度と導電率の安定した被覆鋼線を製造できる浸
漬ｖＬ覆影形成装置提供することを目的とする。
小さな被覆線を製造しても安定した被覆率を得ることか
でき、強度と導電率の安定した被覆鋼線を製造できる浸
漬ｖＬ覆影形成装置提供することを目的とする。
「問題点を解決するための手段号
本発明は、前記問題点を解決するために、種線の挿通孔
が設けられたるつぼと、溶湯に圧力を付加して前記るつ
ぼに溶湯を供給する溶湯供給炉とを具備して構成された
浸漬被覆形成装置において、溶湯通過経路に溶湯の上流
側と下流側を仕切る隔壁を形成し、この隔壁に、小孔を
形成したらのである。
が設けられたるつぼと、溶湯に圧力を付加して前記るつ
ぼに溶湯を供給する溶湯供給炉とを具備して構成された
浸漬被覆形成装置において、溶湯通過経路に溶湯の上流
側と下流側を仕切る隔壁を形成し、この隔壁に、小孔を
形成したらのである。
「作用 」
溶湯供給炉に付加するガス下に変動を生じて上流側の溶
湯レベルが変動した場合に、上流側から下流側に、ある
いは下流側から上流側に流動する溶湯量を小孔が規制し
て種線の通過領域における湯面レベルの変位を減少させ
る。
湯レベルが変動した場合に、上流側から下流側に、ある
いは下流側から上流側に流動する溶湯量を小孔が規制し
て種線の通過領域における湯面レベルの変位を減少させ
る。
「実施例Ｊ
第１図は、本発明の一実施例の浸漬被覆形成装置りを示
すもので、第５図に示す従来の浸漬被覆装置Ａと同一の
構成部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略す
る。
すもので、第５図に示す従来の浸漬被覆装置Ａと同一の
構成部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略す
る。
浸漬被覆装置りにおいては、るつぼ２の内部に、るつぼ
２の直径の１（分程度の直径を存し、るつぼ２の高さに
相当４゛る高さの筒状のグラファイト圧縮形成体からな
る隔壁３０が、るつぼ２と同軸位置に種線Ｂの通過領域
を囲んで設置され、隔壁３０が溶湯Ｙを種線Ｂの通過領
域に近い下流側と、その他の上流側に区画している。そ
して移送管１７に近い側の隔壁３０の側底部には、小孔
３１が形成されている。なお、この小孔３１の直ぢは、
るつぼ２内に溶湯Ｙを満たして種線Ｂを通過させた場合
、隔壁３０の内側の、湯面レベルが、隔壁３０の外側の
４面レベルよりも低くなるように設定する。即ち、小孔
３１を介して流出入可能な溶ｌ易Ｙの最大虫が、種線Ｂ
に付着して持ち去られる溶湯量よりも若干多くなるよう
に、かつ、隔壁３０の内側の湯面レベルの変動が外側の
馬面レベルの変動に適当な時間差を打、シて追従するよ
うに、小孔３１の直径を設定するのである。
２の直径の１（分程度の直径を存し、るつぼ２の高さに
相当４゛る高さの筒状のグラファイト圧縮形成体からな
る隔壁３０が、るつぼ２と同軸位置に種線Ｂの通過領域
を囲んで設置され、隔壁３０が溶湯Ｙを種線Ｂの通過領
域に近い下流側と、その他の上流側に区画している。そ
して移送管１７に近い側の隔壁３０の側底部には、小孔
３１が形成されている。なお、この小孔３１の直ぢは、
るつぼ２内に溶湯Ｙを満たして種線Ｂを通過させた場合
、隔壁３０の内側の、湯面レベルが、隔壁３０の外側の
４面レベルよりも低くなるように設定する。即ち、小孔
３１を介して流出入可能な溶ｌ易Ｙの最大虫が、種線Ｂ
に付着して持ち去られる溶湯量よりも若干多くなるよう
に、かつ、隔壁３０の内側の湯面レベルの変動が外側の
馬面レベルの変動に適当な時間差を打、シて追従するよ
うに、小孔３１の直径を設定するのである。
前記の如く構成された浸漬被覆装置りによって被覆線Ｃ
を製造する場合には、まず、圧力炉Ｉ５にガス供給管１
８を介し還元生ガスを供給して圧力炉１５内の溶湯に所
定の圧力を付加し、出湯炉１６内の溶湯の場面レベルを
上昇させてるつぼ２に溶〆易を供給する。
を製造する場合には、まず、圧力炉Ｉ５にガス供給管１
８を介し還元生ガスを供給して圧力炉１５内の溶湯に所
定の圧力を付加し、出湯炉１６内の溶湯の場面レベルを
上昇させてるつぼ２に溶〆易を供給する。
この状態で種線Ｂを引き取り装置１０とストレーナ９を
介してノズルＩ２からるっぽ２内に供給し、溶湯Ｙを通
過させ、引き上げ、冷却室７で冷却して被覆線Ｃを製造
する。この際、隔壁３０の゛内側の溶ｉＱ Ｙは種線Ｂ
に付着して消費されるが、同時に小孔３１を介して外側
の溶湯Ｙが流入する。
介してノズルＩ２からるっぽ２内に供給し、溶湯Ｙを通
過させ、引き上げ、冷却室７で冷却して被覆線Ｃを製造
する。この際、隔壁３０の゛内側の溶ｉＱ Ｙは種線Ｂ
に付着して消費されるが、同時に小孔３１を介して外側
の溶湯Ｙが流入する。
ここで隔壁３０の内側の湯面レベルは、種線Ｂの引き上
げ速度を所定値にするならば、第１図に示すように、隔
壁３０の外側の場面レベルより６低い所定の高さで安定
する。これは被覆線Ｃの製造に消費される溶？ＪＬ’ｉ
ｔに応じた流入墳を確保するためには、小孔３１の抵抗
（圧力損失）分か捕われな（上ればならないからである
。
げ速度を所定値にするならば、第１図に示すように、隔
壁３０の外側の場面レベルより６低い所定の高さで安定
する。これは被覆線Ｃの製造に消費される溶？ＪＬ’ｉ
ｔに応じた流入墳を確保するためには、小孔３１の抵抗
（圧力損失）分か捕われな（上ればならないからである
。
この状態で被覆線Ｃの製造を続行し、■内室１５に付加
される圧力に多少の変動を生じてるつぼ２の湯面レベル
に変動を生じた場合であって乙、小孔３Ｉが溶湯の移動
Ｈ１を規制′４゛るために、隔壁３０内の場面レベルの
変動ｍは制限されて従来より小さな値になる。このため
従来装置を用いて製造した場合に比較して、種線Ｂの外
方に形成されるＩＩＩ’覆層の厚さを均一化でき、被覆
率の変動を抑えろことかできる。従って低被覆率の被覆
線Ｃを製造した場合に、強度と導電率の安定化した品質
の優秀な被覆線Ｃを？Ｊ造することができる。また、に
１１来装置に隔壁３０を追加するのみで前記構成の浸漬
被覆装置りを形成できるために、実施が容易で設備コス
トの上昇ら低く抑えることができる効果がある。また、
小孔３１は隔壁３ｏの底部側にｊ形成されていて、小孔
３１を介して流動する溶、易Ｙの流れが波等を生じさせ
ないために、湯面レベルに影響を及は′さないようにな
っている。
される圧力に多少の変動を生じてるつぼ２の湯面レベル
に変動を生じた場合であって乙、小孔３Ｉが溶湯の移動
Ｈ１を規制′４゛るために、隔壁３０内の場面レベルの
変動ｍは制限されて従来より小さな値になる。このため
従来装置を用いて製造した場合に比較して、種線Ｂの外
方に形成されるＩＩＩ’覆層の厚さを均一化でき、被覆
率の変動を抑えろことかできる。従って低被覆率の被覆
線Ｃを製造した場合に、強度と導電率の安定化した品質
の優秀な被覆線Ｃを？Ｊ造することができる。また、に
１１来装置に隔壁３０を追加するのみで前記構成の浸漬
被覆装置りを形成できるために、実施が容易で設備コス
トの上昇ら低く抑えることができる効果がある。また、
小孔３１は隔壁３ｏの底部側にｊ形成されていて、小孔
３１を介して流動する溶、易Ｙの流れが波等を生じさせ
ないために、湯面レベルに影響を及は′さないようにな
っている。
ここで前記構成の装置を用いて実際に低被覆率の被覆線
を製造した場合について説明する。
を製造した場合について説明する。
隔壁３０に直径５ｍｍの小孔３１を形成して構成しｆコ
１．２漬被覆装置を用い、表面洗浄された直径７１５ｍ
ｍの種線を線速７０ｍ／分てノズル１２を通してろつぼ
２の溶湯を通過さ仕、被覆線を製造した。この際、隔壁
３０の内側の溶湯のｆ易面高さは５５ｍｍ、隔壁３０の
外側の溶湯の液面高さは８１±１１ｍｍであり、それら
の湯面差は平均２６ｍｍを示した。この場面差は小孔３
１を介して流出入可能な溶湯量に制限があるためであり
、隔壁３０の内側で溶湯量か余剰状態となった場合に、
隔壁３０内にその外部から余分に流入した溶湯量を（流
入増ｆｆｉ（ｃｍ３／秒）×高位変動持続時間（秒））
で表現するならば、その溶湯量を隔壁の内側の底面積で
除した偵が湯面レベルの変動値となるか、この値は＋２
１１ＩＩ１１であった。なお、逆に、隔壁３０の内側て
溶湯ｍが不足状態となった場合に、隔壁３０内にその外
側から不足して供給された溶？Ｊ＆ｆｆｉを（流入減ｆ
ｆｔ（ｃｍ’／秒）×低位変動持続時間（秒月で表現す
るならば、その虫を隔壁の内側の底面積で除した値が湯
面レベルの変動値となるが、この値は一２ｍｍであった
。（なお、前記＋２ｍｍと一２１１Ｉｍの数値における
十と−の意味は、最初の溶湯レベルを０とした場合に高
位側が＋、低位側が−を示している。） また、第５図に、前記ｈ’ｉｌ成の装置によって製造さ
れた調波覆鋼線において長さ１ｍ毎の銅付着率の変化を
実線で示す。
１．２漬被覆装置を用い、表面洗浄された直径７１５ｍ
ｍの種線を線速７０ｍ／分てノズル１２を通してろつぼ
２の溶湯を通過さ仕、被覆線を製造した。この際、隔壁
３０の内側の溶湯のｆ易面高さは５５ｍｍ、隔壁３０の
外側の溶湯の液面高さは８１±１１ｍｍであり、それら
の湯面差は平均２６ｍｍを示した。この場面差は小孔３
１を介して流出入可能な溶湯量に制限があるためであり
、隔壁３０の内側で溶湯量か余剰状態となった場合に、
隔壁３０内にその外部から余分に流入した溶湯量を（流
入増ｆｆｉ（ｃｍ３／秒）×高位変動持続時間（秒））
で表現するならば、その溶湯量を隔壁の内側の底面積で
除した偵が湯面レベルの変動値となるか、この値は＋２
１１ＩＩ１１であった。なお、逆に、隔壁３０の内側て
溶湯ｍが不足状態となった場合に、隔壁３０内にその外
側から不足して供給された溶？Ｊ＆ｆｆｉを（流入減ｆ
ｆｔ（ｃｍ’／秒）×低位変動持続時間（秒月で表現す
るならば、その虫を隔壁の内側の底面積で除した値が湯
面レベルの変動値となるが、この値は一２ｍｍであった
。（なお、前記＋２ｍｍと一２１１Ｉｍの数値における
十と−の意味は、最初の溶湯レベルを０とした場合に高
位側が＋、低位側が−を示している。） また、第５図に、前記ｈ’ｉｌ成の装置によって製造さ
れた調波覆鋼線において長さ１ｍ毎の銅付着率の変化を
実線で示す。
第５図から明らかなように、前記構成の装置を用いて製
造した被覆線にあっては、銅付着率の変動ｒｕ囲（最大
値〜最小値）は２％程度であり、従来装置による変動範
囲（第５図に点線で示す）の７％程度に比較してはるか
に小さくなっている。従って本願発明装置により優秀な
特性を有する被覆線を製造できることが明らかになった
。
造した被覆線にあっては、銅付着率の変動ｒｕ囲（最大
値〜最小値）は２％程度であり、従来装置による変動範
囲（第５図に点線で示す）の７％程度に比較してはるか
に小さくなっている。従って本願発明装置により優秀な
特性を有する被覆線を製造できることが明らかになった
。
第２図は本発明の他の実施例を示すもので、本実施例は
移送管１７の内部に、溶湯Ｙをその上流側と下流側に仕
切る板状の隔壁４０を設け、この隔壁４０の下部に小孔
４１を形成するととらに、移送管１７の外周部に加熱装
置４２を設けて構成したものであり、その他の構成は前
記実施例と同等である。
移送管１７の内部に、溶湯Ｙをその上流側と下流側に仕
切る板状の隔壁４０を設け、この隔壁４０の下部に小孔
４１を形成するととらに、移送管１７の外周部に加熱装
置４２を設けて構成したものであり、その他の構成は前
記実施例と同等である。
本実施例の装置においても前記実施例の装置と回等の効
果を得ることができる。なお、本実施例にあっては、移
送管１７内を通過するａ湯が凝固しないように、加熱装
置４２によって加熱しつつ溶’ｔｌｓ Ｙの供給かでき
るようになっている。ちなみに、この加熱装置・１２を
省略した場合、るつぼ２の温度を１２５０℃に設定する
と移送管１７の温度は８００℃程度に低下する。
果を得ることができる。なお、本実施例にあっては、移
送管１７内を通過するａ湯が凝固しないように、加熱装
置４２によって加熱しつつ溶’ｔｌｓ Ｙの供給かでき
るようになっている。ちなみに、この加熱装置・１２を
省略した場合、るつぼ２の温度を１２５０℃に設定する
と移送管１７の温度は８００℃程度に低下する。
「発明の効果」
以、Ｌ説明したように本発明は、溶ｌ易を上流側と下流
側に仕切る隔壁を設け、隔壁に小孔を形成したものであ
るために、溶湯供給炉に付加する圧力に変動を生じて上
流側の溶湯レベルが変動した場合であっても、下流側に
移動する溶湯量を小孔が規制するために種線の通過領域
における溶湯量の変位を減少させることができ、このた
め被覆率を安定化させて強度や導電率の安定した高特性
の被覆線を製造できる効果がある。また、るつぼや溶湯
供給炉に特別な装置を付加することなく隔壁を追加する
ことで対応できるために、設備コストが少なく容易に実
施できる効果かある。
側に仕切る隔壁を設け、隔壁に小孔を形成したものであ
るために、溶湯供給炉に付加する圧力に変動を生じて上
流側の溶湯レベルが変動した場合であっても、下流側に
移動する溶湯量を小孔が規制するために種線の通過領域
における溶湯量の変位を減少させることができ、このた
め被覆率を安定化させて強度や導電率の安定した高特性
の被覆線を製造できる効果がある。また、るつぼや溶湯
供給炉に特別な装置を付加することなく隔壁を追加する
ことで対応できるために、設備コストが少なく容易に実
施できる効果かある。
第１図は、本発明の一実施例を示す断面図、第２図は本
発明の他の実施例を示す断面図、第３図は従来装置の断
面図、第４図は第３図に示す従来装置によって被覆鋼線
を製造した場合におけろ付着率と浸漬時間の関係を示す
線図、第５図は従来装置による付ｎ率と本発明装置によ
る付着率を示す線図である。 Ｉ〕・・・・・・浸漬被覆形成装置、 ［３・・・・・・種線、 Ｃ・・・・・被覆鋼線
、Ｙ・・・・・溶湯、 １・・・・・・挿通孔、 ２・・・・・るつぼ、
３・・・・・・溶湯供給炉、 ３０．４０・・・・・・隔壁、 ３１．４１・・・・・
小孔、第２図 第３図 浸１時間（Ｐ）） 長さくｍ）
発明の他の実施例を示す断面図、第３図は従来装置の断
面図、第４図は第３図に示す従来装置によって被覆鋼線
を製造した場合におけろ付着率と浸漬時間の関係を示す
線図、第５図は従来装置による付ｎ率と本発明装置によ
る付着率を示す線図である。 Ｉ〕・・・・・・浸漬被覆形成装置、 ［３・・・・・・種線、 Ｃ・・・・・被覆鋼線
、Ｙ・・・・・溶湯、 １・・・・・・挿通孔、 ２・・・・・るつぼ、
３・・・・・・溶湯供給炉、 ３０．４０・・・・・・隔壁、 ３１．４１・・・・・
小孔、第２図 第３図 浸１時間（Ｐ）） 長さくｍ）
Claims (3)
- （１）種線の挿通孔が設けられたるつぼと、溶湯に圧力
を付加して前記るつぼに溶湯を供給する溶湯供給炉とを
具備して構成され、種線をるつぼの挿入孔を介して溶湯
に浸漬し、種線の周囲に溶融金属を付着凝固させて被覆
線を形成する浸漬被覆形成装置において、前記溶湯供給
炉からるつぼに至る溶湯通過経路に、溶湯供給炉に近い
溶湯の上流側と、溶湯の種線通過領域に近い溶湯の下流
側とを仕切る隔壁を形成し、この隔壁に小孔を形成した
ことを特徴とする浸漬被覆形成装置。 - （２）隔壁は、るつぼ内の種線通過領域を囲む筒状に形
成されてなる特許請求の範囲第１項記載の浸漬被覆形成
装置。 - （３）小孔は、溶湯供給炉とるつぼを連結した移送管内
に形成された隔壁に形成されてなる特許請求の範囲第１
項記載の浸漬被覆形成装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60253185A JPS62112767A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 浸漬被覆形成装置 |
| DE19863638249 DE3638249A1 (de) | 1985-11-12 | 1986-11-10 | Vorrichtung zum kontinuierlichen tauchformen von gussstabmaterial |
| US07/157,119 US4844147A (en) | 1985-11-12 | 1988-02-10 | Dip forming apparatus for continuously forming cast rod |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60253185A JPS62112767A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 浸漬被覆形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62112767A true JPS62112767A (ja) | 1987-05-23 |
| JPH0241580B2 JPH0241580B2 (ja) | 1990-09-18 |
Family
ID=17247727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60253185A Granted JPS62112767A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 浸漬被覆形成装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4844147A (ja) |
| JP (1) | JPS62112767A (ja) |
| DE (1) | DE3638249A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1035747C (zh) * | 1989-06-09 | 1997-09-03 | 弗朗斯·加尔瓦·洛兰公司 | 工件通过液态涂覆物进行连续或间歇涂覆的密封容器和装置 |
| US6199756B1 (en) | 1997-06-04 | 2001-03-13 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6786417B1 (en) | 1997-06-04 | 2004-09-07 | Sony Corporation | Memory card with write protection switch |
| KR100632421B1 (ko) | 2005-03-23 | 2006-10-11 | 심용수 | 수직피복선 연속주조장치 및 소재피복방법 |
| JP2021191882A (ja) * | 2016-04-28 | 2021-12-16 | Ａｇｃ株式会社 | 含フッ素共重合体組成物、その製造方法、および成形体 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2648155B1 (fr) * | 1989-06-09 | 1994-02-25 | Galva Lorraine | Procede et installation pour recouvrir d'un revetement des objets de forme allongee par passage desdits objets a travers une masse liquide du produit de revetement |
| AT393652B (de) * | 1989-12-14 | 1991-11-25 | Austria Metall | Vorrichtung und verfahren zur herstellung von metallmatrixverbundmaterial |
| DE4208577A1 (de) * | 1992-03-13 | 1993-09-16 | Mannesmann Ag | Verfahren zum mehrlagigen beschichten von strangfoermigem gut |
| DE19509691C1 (de) * | 1995-03-08 | 1996-05-09 | Mannesmann Ag | Bodendurchführung eines Inversionsgießgefäßes |
| US5736199A (en) * | 1996-12-05 | 1998-04-07 | Northeastern University | Gating system for continuous pressure infiltration processes |
| US20030029902A1 (en) * | 2001-07-02 | 2003-02-13 | Northeastern University | Reinforced structural elements incorporating fiber-reinforced metal matrix composite wires and methods of producing the same |
| DE10253464A1 (de) * | 2002-11-16 | 2004-05-27 | INDUGA Industrieöfen und Giesserei-Anlagen GmbH & Co. KG | Vorrichtung und Verfahren zur Warmtauchbeschichtung von band- oder drahtförmigem Material |
| DE102017124144A1 (de) | 2017-10-17 | 2019-04-18 | Mkm Mansfelder Kupfer Und Messing Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Kupferprofils und Kupferprofil |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1269856B (de) * | 1960-09-12 | 1968-06-06 | Gen Electric | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen einer festhaftenden dicken Kupferschicht auf metallisches Draht- oder Stabmaterial auf schmelzfluessigem Wege |
| SE324863B (ja) * | 1968-11-14 | 1970-06-15 | Asea Ab | |
| JPS5768263A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-26 | Fujikura Ltd | Dip forming method and crucible device for forming |
-
1985
- 1985-11-12 JP JP60253185A patent/JPS62112767A/ja active Granted
-
1986
- 1986-11-10 DE DE19863638249 patent/DE3638249A1/de active Granted
-
1988
- 1988-02-10 US US07/157,119 patent/US4844147A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1035747C (zh) * | 1989-06-09 | 1997-09-03 | 弗朗斯·加尔瓦·洛兰公司 | 工件通过液态涂覆物进行连续或间歇涂覆的密封容器和装置 |
| US6199756B1 (en) | 1997-06-04 | 2001-03-13 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6295206B1 (en) | 1997-06-04 | 2001-09-25 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6341728B1 (en) | 1997-06-04 | 2002-01-29 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6361369B1 (en) | 1997-06-04 | 2002-03-26 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6616053B2 (en) | 1997-06-04 | 2003-09-09 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6729548B2 (en) | 1997-06-04 | 2004-05-04 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6783076B2 (en) | 1997-06-04 | 2004-08-31 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| US6786417B1 (en) | 1997-06-04 | 2004-09-07 | Sony Corporation | Memory card with write protection switch |
| US7066394B2 (en) | 1997-06-04 | 2006-06-27 | Sony Corporation | Memory card, and receptacle for same |
| KR100632421B1 (ko) | 2005-03-23 | 2006-10-11 | 심용수 | 수직피복선 연속주조장치 및 소재피복방법 |
| JP2021191882A (ja) * | 2016-04-28 | 2021-12-16 | Ａｇｃ株式会社 | 含フッ素共重合体組成物、その製造方法、および成形体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3638249A1 (de) | 1987-05-27 |
| DE3638249C2 (ja) | 1992-04-09 |
| JPH0241580B2 (ja) | 1990-09-18 |
| US4844147A (en) | 1989-07-04 |
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