JPS621111A - 磁気記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、磁気記憶装置に用いられる磁気ディスクなど
の磁気記録体、特にヘッドとの耐衝撃性に優れた磁気記
録体に関する。

〔発明の背景〕

近年、磁気ディスクの高密度化をはかるために、連続薄
膜媒体を用いた磁気ディ、スフの開発が進められている
。この連続薄膜媒体の形成法としては、一般にめっき法
とスパッタ法が広く知られている。

上記めっき法による従来の磁気記録体の構成を渠３図に
より説明する。

第３図は従来の磁気記録体の構成を示す断面図であって
、１は基体、２は下地膜、３は磁性媒体のめつき膜、４
は保護膜である。

同図において、基体１は非磁性物質、例えば圧延後に切
削加工されたアルミまたはアルミ合金からなる円板であ
り、この基体１上に下地膜２、例えばニッケルースズ合
金のめつき膜を形成し、この下地膜２の表面を機械的手
段により研磨して平坦、かつ平滑にする。ついで、前記
下地膜２上にコバルト−ニッケルーリン合金などの磁性
媒体めっき膜３を形成し、この磁性媒体の膜３上にこれ
を被覆する保護膜４を形成することにより、磁気記録体
が構成される。

ところが、下地膜として上記のニッケルースズ合金のよ
うな硬質膜を用いた場合、ヘッドとの衝突による衝撃に
対して、下地膜が変形を起こす恐れはないが、逆に、柔
軟性に欠けるため磁性媒体が傷つきやすい欠点がある。

また、硬質、嘆では、一般にめっきによる形成時にクラ
ッりが生じやすく、クラック無しとするめつき液めっき
条件の管理はむずかしい。また、クラック発生のため下
地膜厚を十分に厚くすることもむずかしい。一方、銅の
ような軟質膜を下地膜とした場合には、硬質膜とは逆で
、クラックに関する問題はなくなるが、ヘッドとの衝突
による衝撃に対して下地膜が大きく変形し、それに伴っ
て磁性媒体に割れが生じたり、剥れが生じたりする可能
性が大きい。

上記磁気記録体に関する先行技術、例えば特開昭５６−
５１０２４号公報には、下地膜の組成が平滑性の向上お
よび突起の減少に有益であることが記載されているが、
下地膜の組成とヘッドとの耐衝撃性の問題については考
慮されていない０ 〔発明の目的〕 本発明の目的は、上記従来技術の問題を解消し、ヘッド
との衝突による衝撃によって、磁性媒体が割れたり、剥
れたりすることのない磁気記録体を提供するにある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、非磁性物質から
なる基体上に、非磁性の硬質膜と非磁性の軟質膜とを交
互に積み重ねて多層の下地膜を形成し、その下地膜上に
磁性媒体層を形成した点に特徴がある。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する０ 第１図は本発明による磁気記録体の第一の実施例を示す
断面図であって、１はディスク状の基体、２は下地膜、
５は磁性媒体、４は保護膜５は下地膜を構成する軟質膜
、６は下地膜を構成する硬質膜である。

同図において、基体１はアルミ合金板をドーナツ状に打
ち抜き、その両面を平坦に、かつ平滑に仕上げてなるも
のである。このアルミ製基体１の上面に脱脂と亜鉛置換
を施した後、硫酸銅と硫酸を主成分とするめつき液を用
いて、２　Ａ　／　ｄｍ２の電流密度でめっきを行ない
、銅めつき膜５を３μｍの厚さに形成した。ついで塩化
ニッケル、塩化スズ、フッ化アンモニウムを生成分とす
るめつき液を用いて、Ｉ　Ａ　／　ｄｍ２の電流密度で
めっきを行ない、−ニッケルースズ合金めっき膜６を７
μｍの厚さに形成した。この上に再び上記の条件で銅め
つき膜を５μｍ、ニッケルースズ合金めっき膜を７μｍ
形成した。

この操作を全部で４回繰り返すことにより、４０μｍ厚
の積層下地膜２を形成した。この下地膜２の表面を機械
研磨により、その表面粗さが約０．０１μｍ程度になる
まで平坦かつ平滑に仕上げた後、硫酸ニッケル、硫酸コ
バルトおよび次亜リン酸ナトリウムを主成分とするめつ
き液を用いて、コバルト−ニッケルーリン合金から成る
磁性媒体６を０．０７μｍの厚さに形成した。そして、
この磁性媒体３を保護膜４により被覆した。

上記実施例の磁気記録体は、その下地膜を、硬度がビッ
カース硬度で約２００と軟らかい銅めつき膜と、同硬度
で約７ｒ］０と硬いニッケルースズ合金めっき膜との多
層の膜すなわち積層構造としたことにより、ヘッドとの
衝突時の衝撃を軟らかい銅めつき膜がショックアブソー
バの働きをして吸収し、硬いニッケルースズ合金膜が磁
性媒体を保持するため、ヘッドとの衝突による磁性媒体
の損傷を低減することができた。すなわち、所定形状の
測定子で磁気記録体であるディスクの表面をたたき、デ
ィスクの損傷の程度を測定する試験において、先行技術
のように下地膜を硬いニッケルースズ合金膜のみとした
場合には約４０００回の打撃で磁性媒体が損傷し、また
軟らかい銅の膜のみとした場合には約１０００回で損傷
したのに対し、本実施例の構成では約５ｏｏｏｎ回の打
撃にも耐えることができた。

第２図は本発明による磁気記録体の第二の実施例を示す
断面図であって、１は基体、２は下地膜、３は磁性媒体
、４は保護膜、７．８は下地膜を構成する軟質膜、９は
下地膜を構成する硬質膜である。同図において、本実施
例は前記第一の実施例（実施例１）と同様にアルミ展の
基体１にホウフッ化鉛を主成分とするめつき液を用いて
、電流密度２　Ａ　／　ｄｍ２でめっきを行ない、鉛め
っき膜７を３μｍの厚さに形成した。

ついで、実施例１と同様にして銅めつき膜８を１μｍの
厚さに形成した。その上に硫酸ニッケル、タングステン
酸ナトリウム、ロッシェル塩を主成分とするめつき液を
用いて、電流密度３Ａ／ｄｍ２でめっきを行ない、ニッ
ケルータングステン合金めっき膜９を５μｍの厚さに形
成した。この鉛、銅およびニッケルータングステン合金
めっき膜を５層交互に積み重ねることにより、４５μｍ
厚の積層下地膜を形成した。

その後、実施例１と同様に下地膜表面を研磨し、磁性媒
体５および保護膜４を形成した。本実施例は上記の構成
から成り、鉛およびニッケルータングステン合金めっき
膜のビッカース硬度はそれぞれ５０および８００であっ
た。実施例１と同様に、軟い鉛および銅めっき膜と硬い
ニッケルータングステン合金めっき膜との相互作用によ
り、前記の試験においても、７００００回の打撃に耐え
ることができた。

下地膜の構成材料は上記のもの以外に、軟質膜としては
スズ、亜鉛、カドミウム、金、銀。

白金、パラジウム、インジウムなど、ビッカース硬度で
約３００以下の材料が適している。また硬質膜としては
クロム、ロジウム、レニウム。

ルテニウム、チタンおよびニッケル、コバルトとタング
ステン、モリプデ／との合金、ニッケルとリン、ホウ素
との合金など、ビッカース硬度が約５００以上の材料が
適している。

また、下地膜を可成する軟質膜および硬質膜は、実施例
１のように、共に単一膜であってもよく、あるいは、実
施例２のように、２種類またはそれ以上の材料から成る
複層膜であってもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、下地膜を軟質膜
と硬質、嘆とを交互に層状に積み重ねて形成することに
よって、ヘッドとの衝突による衝撃を軟質膜が吸収し、
また硬質膜が磁性媒体を保持するなめ、衝突による磁性
媒体の損傷を低減することが可能となり、さらに、厚く
形成したときにクラックの発生しやすい硬質膜を、本発
明によれば数μｍ＠度の厚さｌこ形成すればよく、クラ
ックが発生することは無くなり、材料の選定範囲、下地
膜の形成条件を広く取ることが可能となり、より硬く、
高性能の材料を用い、容易に下地膜を形成することがで
き、また軟質膜の緩衝作用によりディスク形成時、特に
保朦膜形成時の加熱冷却を急激に行なっても、膜の熱膨
張の差に起因する膜の剥れ、ふくれの発生が無くなり、
ディスクの形成時間を短縮することが可能となって、上
記従来技術の欠点を除いて優れた機能の磁気記録体を提
供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気記録体の第１の実施例を示す
断面図、第２図は本発明による磁気記録体の男二の実施
例を示す断面図、第６図は従来の磁気記録体の構成を示
す断面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性物質からなる基体上に下地膜を介して磁性媒体層
   を形成して成る磁気記録体において、前記下地膜を非磁
   性の硬質膜と非磁性の軟質膜とを交互に層状に積み重ね
   た多層の膜としたことを特徴とする磁気記録体。