JPS62104183A - レ−ザビ−ム共振器系・伝送系 - Google Patents
レ−ザビ−ム共振器系・伝送系Info
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- JPS62104183A JPS62104183A JP60244660A JP24466085A JPS62104183A JP S62104183 A JPS62104183 A JP S62104183A JP 60244660 A JP60244660 A JP 60244660A JP 24466085 A JP24466085 A JP 24466085A JP S62104183 A JPS62104183 A JP S62104183A
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- Japan
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- aperture
- laser beam
- absorber
- resonator
- laser
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0401—Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0407—Liquid cooling, e.g. by water
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば大出力ｃｏ２レーザ等の共振器内及び
伝送光路におけるレーザ光の外形規制のだめのアパーチ
ャの構造の改良に関するものである。
伝送光路におけるレーザ光の外形規制のだめのアパーチ
ャの構造の改良に関するものである。
〔従来の技術Ｊ
第９図及び第１０図は各々、従来のレーザビーム共振器
系の主要部を示す構成図であり１例えば大出力ｃｏ２レ
ーザの共振器内にＶ−ザビームの外形を規制するアパー
チャを設けたものである。各図において、（りはアパー
チャ、 （２ｂ）はアパーチャ（りを冷却するアパーチ
ャ冷却剤の通路、 （４ａ）（４ｂ）は各々レーザ活性
媒質を挟んで対向して配置された共振器ミラー及びレー
ザ出力ミラー、（５）はアパーチャ（１）への入射レー
ザビーム、（６）はアパーチャからの通過レーザビーム
である。また矢印（９）は共振器よりの出射レーザビー
ムである。
系の主要部を示す構成図であり１例えば大出力ｃｏ２レ
ーザの共振器内にＶ−ザビームの外形を規制するアパー
チャを設けたものである。各図において、（りはアパー
チャ、 （２ｂ）はアパーチャ（りを冷却するアパーチ
ャ冷却剤の通路、 （４ａ）（４ｂ）は各々レーザ活性
媒質を挟んで対向して配置された共振器ミラー及びレー
ザ出力ミラー、（５）はアパーチャ（１）への入射レー
ザビーム、（６）はアパーチャからの通過レーザビーム
である。また矢印（９）は共振器よりの出射レーザビー
ムである。
次に動作について説明する。共振器内において。
共振器ミラー（４ａ）に向うレーザビーム（５）を、こ
の共振器ミラー（４ａ）とレーザ活性媒質との間に設け
られたアパーチャ（１１によって、その外形を規制し。
の共振器ミラー（４ａ）とレーザ活性媒質との間に設け
られたアパーチャ（１１によって、その外形を規制し。
良質なレーザ出力モードを得る。
また、第１０図に示すように、レーザビームの吸収によ
るアパーチャ（１）の温度上昇を押えるために、アパー
チャ＋１）と一体となった冷却剤通路（２ｂ）に冷却剤
を流通させ、冷却を行う。
るアパーチャ（１）の温度上昇を押えるために、アパー
チャ＋１）と一体となった冷却剤通路（２ｂ）に冷却剤
を流通させ、冷却を行う。
〔発明が解決しようとする問題点」
従来の、モード規制用アパーチャを適用したレーザビー
ム共振器系は９以上のように構成されているので、レー
ザビームが直接入射するアパーチャのビーム規制部は、
温度上昇による溶融、破損が生じたり、ビーム規制部の
高温化に伴う、近傍のガス温度上昇による屈折率変化に
よって、レーザビームのモードに悪影響を及ぼす等の問
題点があった。
ム共振器系は９以上のように構成されているので、レー
ザビームが直接入射するアパーチャのビーム規制部は、
温度上昇による溶融、破損が生じたり、ビーム規制部の
高温化に伴う、近傍のガス温度上昇による屈折率変化に
よって、レーザビームのモードに悪影響を及ぼす等の問
題点があった。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、まわりの装置及びアパーチャ自身の装置の損傷
を防ぎ、とくにレーザビーム共振器系においては、アパ
ーチャ近傍のガス温度上昇を防ぎ、これらによって安定
した高品質モードのレーザ発振が可能なレーザビーム共
振器系及びレーザビーム伝送系を得ることを目的とする
。
もので、まわりの装置及びアパーチャ自身の装置の損傷
を防ぎ、とくにレーザビーム共振器系においては、アパ
ーチャ近傍のガス温度上昇を防ぎ、これらによって安定
した高品質モードのレーザ発振が可能なレーザビーム共
振器系及びレーザビーム伝送系を得ることを目的とする
。
本発明に係るレーザビーム共振器・伝送系は。
アパーチャのレーザ活性媒質側あるいはＶ−ザピーム伝
送方向と対面する側の表面がレーザビームに対し反射面
をなし、この反射面からの反射光が。
送方向と対面する側の表面がレーザビームに対し反射面
をなし、この反射面からの反射光が。
レーザビームの光軸より離れて設けられ、かつ。
上記アパーチャのビーム規制部と一体もしくはビーム規
制部と熱的に接続し、冷却機構を有した吸収体に受光さ
れるようにしたものである。
制部と熱的に接続し、冷却機構を有した吸収体に受光さ
れるようにしたものである。
本発明におけるアパーチャは、アパーチャへの入射光を
、アパーチャの反射面で完全に反射し。
、アパーチャの反射面で完全に反射し。
かつこの反射光を、光軸から大きく離れ、冷却機構を備
えた吸収体に完全吸収させることで、アパーチャ自身の
損傷、溶融、及びアパーチャ近傍のガス温度の上昇を防
いでいる。
えた吸収体に完全吸収させることで、アパーチャ自身の
損傷、溶融、及びアパーチャ近傍のガス温度の上昇を防
いでいる。
以下２本発明の一実施例を図について説明する。
第１図は本発明の一実施例によるレーザビーム共振器系
の主要部を示す構成図、第２図及び第３図は本発明の他
の実施例によるＶ−ザビーム共振器系の主要部を示す構
成図である。図において。
の主要部を示す構成図、第２図及び第３図は本発明の他
の実施例によるＶ−ザビーム共振器系の主要部を示す構
成図である。図において。
（１）はレーザ活性媒質側の表面がレーザビームに対し
反射面（１ａ）をなしたアパーチャ、（２）はアパーチ
ャのビーム規制部（１ｂ）の反射面（１ａ）からの反射
光がレーザビームの光軸よシ離れて設けられ、アパーチ
ャのビーム規制部（１ｂ）と一体となった冷却機構を備
える吸収体であり、 （２ａ）は・レーザビーム吸収面
、 （２ｂ）は吸収体内部に設けた冷却剤通路である。
反射面（１ａ）をなしたアパーチャ、（２）はアパーチ
ャのビーム規制部（１ｂ）の反射面（１ａ）からの反射
光がレーザビームの光軸よシ離れて設けられ、アパーチ
ャのビーム規制部（１ｂ）と一体となった冷却機構を備
える吸収体であり、 （２ａ）は・レーザビーム吸収面
、 （２ｂ）は吸収体内部に設けた冷却剤通路である。
（３）はアパーチャ裏面に取り付けた迷光低減用の迷光
吸収体、（５）はアパーチャへの入射光で、 （５ａ）
はアパーチャの開口へ入射するレーザビーム、 （５ｂ
）はアパーチャにより反射規制されるレーザビームであ
る。（７）はアパーチャによる反射光、 （８ａ）は飛
打光学的及び回折・散乱等によってアパーチャ＋１１を
回り込んだ光で、 （ｓｂ）はこの光（８ａ）が共振器
ミラー（４ａ）及びアパーチャ裏面で反射伝搬し、迷光
となったものである。
吸収体、（５）はアパーチャへの入射光で、 （５ａ）
はアパーチャの開口へ入射するレーザビーム、 （５ｂ
）はアパーチャにより反射規制されるレーザビームであ
る。（７）はアパーチャによる反射光、 （８ａ）は飛
打光学的及び回折・散乱等によってアパーチャ＋１１を
回り込んだ光で、 （ｓｂ）はこの光（８ａ）が共振器
ミラー（４ａ）及びアパーチャ裏面で反射伝搬し、迷光
となったものである。
第１図において、高反射率の反射面を有するアパーチャ
（１）に入射したレーザビーム（５ｂ）は９反射され、
光軸から犬きく離れ、アパーチャ＋１）と一体となった
冷却剤通路を備える吸収体に向い全て吸収される。アパ
ーチャの高反射率化の具体的方策としては、Ｃ０２レー
ザの場合、アパーチャ材料として高反射率の金属、たと
えば銅や黄銅を用い。
（１）に入射したレーザビーム（５ｂ）は９反射され、
光軸から犬きく離れ、アパーチャ＋１）と一体となった
冷却剤通路を備える吸収体に向い全て吸収される。アパ
ーチャの高反射率化の具体的方策としては、Ｃ０２レー
ザの場合、アパーチャ材料として高反射率の金属、たと
えば銅や黄銅を用い。
表面を境面仕上げ分し、さらには金蒸着を行う等の表面
処理をすることが考えられる。これらによってアパーチ
ャのレーザビーム吸収による温度上昇は大幅に低減され
、アパーチャ自体の溶融、損傷及びアパーチャ近傍のガ
ス温度上昇による屈折率変化に伴うレーザビームモード
の悪化を防ぐことができる。
処理をすることが考えられる。これらによってアパーチ
ャのレーザビーム吸収による温度上昇は大幅に低減され
、アパーチャ自体の溶融、損傷及びアパーチャ近傍のガ
ス温度上昇による屈折率変化に伴うレーザビームモード
の悪化を防ぐことができる。
第２図に示すように１反射光吸収体（２）の内径ｒ１を
アパーチャに入射するビーム径ｒ２よシ大きくできるの
で、吸収体表面での反射光の強度をアパーチャ表面の反
射光の強度より弱くすることができる。
アパーチャに入射するビーム径ｒ２よシ大きくできるの
で、吸収体表面での反射光の強度をアパーチャ表面の反
射光の強度より弱くすることができる。
吸収体（２）は冷却剤の通路（２ｂ）を持っており、こ
れに冷却剤を通すことで冷却を行っている。また吸収体
（２）とアパーチャのビーム規制部（１ｂ）は一体構造
であるので、吸収体（２）の冷却機構によってビーム規
制部も冷却することができる。
れに冷却剤を通すことで冷却を行っている。また吸収体
（２）とアパーチャのビーム規制部（１ｂ）は一体構造
であるので、吸収体（２）の冷却機構によってビーム規
制部も冷却することができる。
第１図及び第３図に示すように、アパーチャ裏面には、
レーザビームの迷光吸収体（３）が装着しである。この
吸収体がない場合、第２図に示すように飛打光学的、も
しくは２回折・散乱等によってアパーチャを回り込んだ
レーザビーム（８ａ）が、共振器ミラー（４ａ）とアパ
ーチャ裏面を反射伝搬し。
レーザビームの迷光吸収体（３）が装着しである。この
吸収体がない場合、第２図に示すように飛打光学的、も
しくは２回折・散乱等によってアパーチャを回り込んだ
レーザビーム（８ａ）が、共振器ミラー（４ａ）とアパ
ーチャ裏面を反射伝搬し。
迷光（８ｂ）となって周辺部品及びレーザ発振に悪影響
を及ぼす。これに対し、第１図及び第３図に示すように
アパーチャ裏面に迷光吸収体（３）が装着しである場合
には、アパーチャを回り込んだ光（８ａ）は共振器ミラ
ー（４＆）によって反射された後、迷光吸収体（３）に
よって吸収されるので迷光の発生を防ぐことができる。
を及ぼす。これに対し、第１図及び第３図に示すように
アパーチャ裏面に迷光吸収体（３）が装着しである場合
には、アパーチャを回り込んだ光（８ａ）は共振器ミラ
ー（４＆）によって反射された後、迷光吸収体（３）に
よって吸収されるので迷光の発生を防ぐことができる。
上記実施例では、アパーチャの入射光反射面（１ａ）と
２反射レーザビーム吸収面（２ａ）は、光軸を介して対
面していたが、第４図に示すような９反射面（１ａ）と
レーザビーム吸収面（２ａ）が光軸に対して同・じ側に
あるような構造にしても良い。
２反射レーザビーム吸収面（２ａ）は、光軸を介して対
面していたが、第４図に示すような９反射面（１ａ）と
レーザビーム吸収面（２ａ）が光軸に対して同・じ側に
あるような構造にしても良い。
また上記実施例では、吸収体（２）は冷却剤通路（２ｂ
）に冷却剤を通すことで冷却を行っていたが、第５図に
示すように反射光の吸収体（２）に放熱フィン（２Ｃ）
を設けることで冷却することも可能である。さらには、
この放熱フィン（２ｃ）にガスを圧送し強制冷却を行っ
た９、前述の冷却剤による冷却と併用することも考えら
れる。
）に冷却剤を通すことで冷却を行っていたが、第５図に
示すように反射光の吸収体（２）に放熱フィン（２Ｃ）
を設けることで冷却することも可能である。さらには、
この放熱フィン（２ｃ）にガスを圧送し強制冷却を行っ
た９、前述の冷却剤による冷却と併用することも考えら
れる。
さらに、上記実施例では、アパーチャの反射面（１ａ）
の断面形状は直線になっていたが、第６図に示すように
、この反射面（１ａ）を凸面状にし１反射光（７）に発
散角を持たせ、レーザビーム吸収面（２ａ）でのレーザ
ビーム強度をさらに低減させることもできる。
の断面形状は直線になっていたが、第６図に示すように
、この反射面（１ａ）を凸面状にし１反射光（７）に発
散角を持たせ、レーザビーム吸収面（２ａ）でのレーザ
ビーム強度をさらに低減させることもできる。
また、上記実施例では吸収体（２）とアパーチャのビー
ム規制部（１ｂ）は一体構造のものを示したが。
ム規制部（１ｂ）は一体構造のものを示したが。
吸収体（２）とビーム規制部（１ｂ）とは一体でなくと
も。
も。
熱的に接続していれば、同様の効果がある。
また第７図は、不安定型共振器構造を持つ大出力ｃｏ２
レーザ装置に、上記実施例で示したアパーチャを適用し
た場合で＝ （４ａ）（４ｃ）は共振器ミラー。
レーザ装置に、上記実施例で示したアパーチャを適用し
た場合で＝ （４ａ）（４ｃ）は共振器ミラー。
（４ｂ）はレーザ出力ミラーである。
アパーチャ（１）に入射する光軸近傍のレーザビーム（
５ａ）に対するアパーチャ入射部のレーザビーム（５ｂ
）の相対強度は、安定型共振器の基本モードに比べ不安
定型共振器のモードや、安定型共振器の高次モードの方
が大きくなる。従って、この反射吸収型アパーチャは、
第７図に示すような不安定型共振器構造を持つレーザビ
ーム共振器系に適用した９安定型共振器を持つレーザの
高次モードカットを行う場合にアパーチャエツジ部の溶
融、損傷を防ぐと言う意味において、特に有効である。
５ａ）に対するアパーチャ入射部のレーザビーム（５ｂ
）の相対強度は、安定型共振器の基本モードに比べ不安
定型共振器のモードや、安定型共振器の高次モードの方
が大きくなる。従って、この反射吸収型アパーチャは、
第７図に示すような不安定型共振器構造を持つレーザビ
ーム共振器系に適用した９安定型共振器を持つレーザの
高次モードカットを行う場合にアパーチャエツジ部の溶
融、損傷を防ぐと言う意味において、特に有効である。
さらにまた、レーザビーム伝送路中にアパーチーヤを配
置し、外形を規制してレーザビームを伝送するレーザビ
ーム伝送系に対しても、上述し、たよりな各種のアパー
チャを適用することができる。
置し、外形を規制してレーザビームを伝送するレーザビ
ーム伝送系に対しても、上述し、たよりな各種のアパー
チャを適用することができる。
第８図は１本発明の他の実施例によるレーザビーム伝送
系の主要部を示す構成図であり、アパーチャ（りのレー
ザビーム伝送方向と対面する側の表面（１ａ）がレーザ
ビームに対し反射面をなしている。
系の主要部を示す構成図であり、アパーチャ（りのレー
ザビーム伝送方向と対面する側の表面（１ａ）がレーザ
ビームに対し反射面をなしている。
規制する伝送レーザビームが大出力ｃｏ２レーザ等のレ
ーザビームである場合、従来のアパーチャであると、ア
パーチャエツジ部の高温化にともなう損傷、溶融が発生
するが１反射吸収型アパーチャであると、アパーチャ入
射光を完全に反射するので、上述のようなアパーチャの
損傷、溶融を防ぐことができる。
ーザビームである場合、従来のアパーチャであると、ア
パーチャエツジ部の高温化にともなう損傷、溶融が発生
するが１反射吸収型アパーチャであると、アパーチャ入
射光を完全に反射するので、上述のようなアパーチャの
損傷、溶融を防ぐことができる。
また、アパーチャをレンズＱｌのような光学素子の近傍
で使用する場合には、これらからの反射光（８Ｃ）がア
パーチャ裏面と光学素子の間で多重反射を繰り返し、迷
光となり、不都合である。第８図では、これを防ぐため
にアパーチャ裏面にレーザビームの迷光吸収体（３）を
装着している。
で使用する場合には、これらからの反射光（８Ｃ）がア
パーチャ裏面と光学素子の間で多重反射を繰り返し、迷
光となり、不都合である。第８図では、これを防ぐため
にアパーチャ裏面にレーザビームの迷光吸収体（３）を
装着している。
また９以上のレーザビーム共振器・伝送系は大出力ＣＯ
７レーザに限らず、他の大出力レーザにおいても有効で
ある。
７レーザに限らず、他の大出力レーザにおいても有効で
ある。
以上のように、この発明によれば、レーザビーム共振器
・伝送系において、アパーチャのレーザ活性媒質側ある
いはレーザビーム伝送方向と対面する側の表面がレーザ
ビームに対し反射面をなし。
・伝送系において、アパーチャのレーザ活性媒質側ある
いはレーザビーム伝送方向と対面する側の表面がレーザ
ビームに対し反射面をなし。
この反射面からの反射光がレーザビームの光軸よυ離れ
て設けられ、上記アパーチャのビーム規制部と一体もし
くはアパーチャのビーム規制部と熱的に接続し、冷却機
構を有する吸収体に受光されるようにしたので、アパー
チャ自体の損傷、溶融を防ぐことができる効果がある。
て設けられ、上記アパーチャのビーム規制部と一体もし
くはアパーチャのビーム規制部と熱的に接続し、冷却機
構を有する吸収体に受光されるようにしたので、アパー
チャ自体の損傷、溶融を防ぐことができる効果がある。
また、とくにレーザビーム共振器系においては、アパー
チャ近傍のガス温度上昇による屈折率変化を防ぐことが
でき、さらにアパーチャの反射光を光軸から離れた吸収
体に完全に吸収させることも、光軸近傍のガス温度上昇
による屈折率変化の防止に役立っており１以上の２つの
効果により共振器系の信頼性及びレーザビームのモード
及び出力の安定性が向上する効果がある。
チャ近傍のガス温度上昇による屈折率変化を防ぐことが
でき、さらにアパーチャの反射光を光軸から離れた吸収
体に完全に吸収させることも、光軸近傍のガス温度上昇
による屈折率変化の防止に役立っており１以上の２つの
効果により共振器系の信頼性及びレーザビームのモード
及び出力の安定性が向上する効果がある。
第１図は本発明の一実施例によるレーザビーム共振器系
の主要部を示す構成図、第２図ないし第７図はそれぞれ
本発明の他の実施例によるレーザビーム共振器系の主要
部を示す構成図、第８図は本発明の他の実施例によるレ
ーザビーム伝送系の主要部を示す構成図、並びに第９図
及び第１０図は各々従来のレーザビーム共振器系の主要
部を示す構成図である。 （旧・・アパーチャ、 （１ａ）・・・反射面、 （１
ｂ）・・・ビーム規制部、（２）・・・吸収体、 （２
ｂ）・・・冷却剤通路、（２Ｃ）・・・放熱フィン、
（４ａ）・・・共振器ミラー、（５）は入射レーザビ
ーム、（７）・・・反射光。 なお２図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
の主要部を示す構成図、第２図ないし第７図はそれぞれ
本発明の他の実施例によるレーザビーム共振器系の主要
部を示す構成図、第８図は本発明の他の実施例によるレ
ーザビーム伝送系の主要部を示す構成図、並びに第９図
及び第１０図は各々従来のレーザビーム共振器系の主要
部を示す構成図である。 （旧・・アパーチャ、 （１ａ）・・・反射面、 （１
ｂ）・・・ビーム規制部、（２）・・・吸収体、 （２
ｂ）・・・冷却剤通路、（２Ｃ）・・・放熱フィン、
（４ａ）・・・共振器ミラー、（５）は入射レーザビ
ーム、（７）・・・反射光。 なお２図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (8)
- （１）レーザ活性媒質を挟んで対向して配置された共振
器ミラー、及び上記共振器ミラーのいずれか一方と上記
活性媒質との間に設けられ、レーザビームの外形を規制
するアパーチャを備えたものにおいて、上記アパーチャ
のビーム規制部の上記レーザ活性媒質側の表面が上記レ
ーザビームに対し反射面をなし、この反射面からの反射
光が上記レーザビームの光軸より離れて設けられ、かつ
上記アパーチャのビーム規制部と一体もしくは上記アパ
ーチャのビーム規制部と熱的に接続し、冷却機構を有し
た吸収体に受光されることを特徴とするレーザビーム共
振器系。 - （２）アパーチャの反射面と吸収体のレーザビーム吸収
面とが光軸を介して対面している特許請求の範囲第１項
記載のレーザビーム共振器系。 - （３）アパーチャの反射面と吸収体のレーザビーム吸収
面とが光軸に対して同じ側になる特許請求の範囲第１項
記載のレーザビーム共振器系。 - （４）冷却機構は吸収体内部に設けた冷却剤通路へ冷却
剤を流通させる構造である特許請求の範囲第１項ないし
第３項のいずれかに記載のレーザビーム共振器系。 - （５）冷却機構は放熱フィンよりなる特許請求の範囲第
１項ないし第４項のいずれかに記載のレーザビーム共振
器系。 - （６）アパーチャの反射面を凸面とし、反射光に発散角
をもたせた特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれ
かに記載のレーザビーム共振器系。 - （７）共振器構造は不安定型である特許請求の範囲第１
項ないし第６項のいずれかに記載のレーザビーム共振器
系。 - （８）レーザビーム伝送路中に配置されたアパーチャに
より外形を規制してレーザビームを伝送するものにおい
て、上記アパーチャのレーザビーム伝送方向と対面する
側の表面が上記レーザビームに対して反射面をなし、こ
の反射面からの反射光が上記レーザビームの光軸より離
れて設けられ、かつ上記アパーチャのビーム規制部と一
体もしくは上記アパーチャのビーム規制部と熱的に接続
し、冷却機構を有した吸収体に受光されることを特徴と
するレーザビーム共振器系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244660A JPS62104183A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | レ−ザビ−ム共振器系・伝送系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244660A JPS62104183A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | レ−ザビ−ム共振器系・伝送系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104183A true JPS62104183A (ja) | 1987-05-14 |
Family
ID=17122054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244660A Pending JPS62104183A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | レ−ザビ−ム共振器系・伝送系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104183A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04233780A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置 |
| WO1996034438A1 (fr) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Oscillateur laser |
| JP2005331599A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 波長変換レーザ装置 |
| JP2019216279A (ja) * | 2016-05-04 | 2019-12-19 | レイセオン カンパニー | 高出力レーザシステム及び他のシステム用のテーパ状の光スクレーパを備えた熱交換器 |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP60244660A patent/JPS62104183A/ja active Pending
Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
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