JPH02162783A - レーザー装置 - Google Patents

レーザー装置

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JPH02162783A
JPH02162783A JP63316161A JP31616188A JPH02162783A JP H02162783 A JPH02162783 A JP H02162783A JP 63316161 A JP63316161 A JP 63316161A JP 31616188 A JP31616188 A JP 31616188A JP H02162783 A JPH02162783 A JP H02162783A
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JP
Japan
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mirror
shielding means
incident
projecting end
slab
Prior art date
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Pending
Application number
JP63316161A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Yoshimura
功 吉村
Takemi Kawazoe
川添　健実
Hideo Saito
英男 斉藤
Moriyuki Omachi
大町　盛幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HIKARI SANGYO GIJUTSU SHINKO KYOKAI
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
HIKARI SANGYO GIJUTSU SHINKO KYOKAI
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by HIKARI SANGYO GIJUTSU SHINKO KYOKAI, Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical HIKARI SANGYO GIJUTSU SHINKO KYOKAI
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Publication of JPH02162783A publication Critical patent/JPH02162783A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08018—Mode suppression
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602—Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0606—Crystal lasers or glass lasers with polygonal cross-section, e.g. slab, prism

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はスラブ型レーザー素子を有するレーザー装置の
改善に関するものである。
〔従来の技術〕
スラブ型レーザー素子は、レーザービームがブリュース
ター角で入出射するように傾斜した端面とレーザービー
ムが反射しつつ進行する２つの平行な全反射面、それに
側面を有する。このスラブ型レーザー素子は、ロンド型
の素子に比べて励起と冷却を面積の大きい全反射面から
行うので冷却効果が高く、またレーザービームがスラブ
内をジグザグに全反射しながら進むため、内部の屈折率
分布の影響が平均化され熱レンズ効果を補償できるので
、大出力固体レーザー装置に適している。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが実際にレーザー発振させると正規のパスを外れ
た寄生発振が観察される場合がある。この原因はまだ明
らかでないが、スラブ内部に何らかの熱歪が生じている
ためと考えられる。この寄生発振は入力を増加する程強
度を増すのでレーザー装置の効率低下の一因となる。
本発明の目的は寄生発振を効果的に抑制し、効率の良い
レーザー装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
この目的を達成するため本発明゛の装置は、スラブ型レ
ーザー素子と高反射ミラー及び出力ミラーとの間で且つ
該素子の各レーザービーム入出射端に近接する位置に、
実質上入出射端の垂直断面にほぼ等しい開孔を設けた遮
蔽手段を配置した点に特徴がある。
〔作　用〕
本発明において遮蔽手段は寄生発振光がミラーで反射さ
れて再び素子に照射することを防止するものであり、こ
の遮蔽により寄生発振光がスラブ内で増幅することを回
避できる。この遮蔽手段はミラーで反射された寄生発振
光を効果的に遮断できる機能があれば足り、実質上入出
射端の垂直断面にほぼ等しい開孔を有すれば充分である
。即ち寄生発振光は正規の発振光と同一の偏光成分を有
するが、光路がズしているため正規のビームの光路に対
し通常４゛〜８°の角度をもって出射され、同じ角度で
ミラーから反射される。従ってこの寄生発振光で入出射
端面に戻る分は殆んど無視して良い。むしろ遮蔽手段の
位置が重要である。スラブ型レーザー素子と高反射ミラ
ー及び出力ミラーとの間に配置することは当然であるが
、できるだけスラブの入出射端面に近い方が好ましい、
遮蔽手段が入出射端面から離れ過ぎると寄生発振光の一
部が遮蔽手段で反射される場合が出てくるからである。
このような遮蔽手段を設けることにより遮蔽手段のない
場合に比べて同一の発振条件で約１０％増の出力を得る
ことができる。
〔発明の効果〕
本発明により寄生発振を効果的に抑制することができ、
レーザー装置の効率向上に寄与することができた。
特許出願人　住友金属鉱山株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. スラブ型レーザー素子を用いるレーザー装置において、
    該レーザー素子と高反射ミラー及び出力ミラーとの間で
    且つ該素子の各レーザービーム入出射端に近接する位置
    に、実質上入出射端の垂直断面にほぼ等しい開孔を設け
    た遮蔽手段が配置されていることを特徴とするレーザー
    装置。
JP63316161A 1988-12-16 1988-12-16 レーザー装置 Pending JPH02162783A (ja)

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