JPS62103847A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、磁気ディスク装置に使用される磁気ディス
クの製造方法に関するものである。

〔従来の技術Ｊ 磁気記録媒体としてγ−Ｆｅ２Ｏ３を用いた従来の磁気
ディスクの構成の一例を第２図に示す。第２図は例えば
電々公社研究実用化報告第３１巻第９号のＰ、１７３１
〜１７４４に報告された従来の製法による磁気ディスク
の断面を示す図であり２図において。

＋１．１はディスク状のアルミニウム合金基材、（２）
はアルマイトから成る磁気記録媒体のド地層、（３）は
磁気記録媒体となるｒ　−Ｆ’ｅ２０３薄膜、（４）は
磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着を防止する潤滑層であ
る。

現在、４Ｊｉｉ気デイスク装置では、起動および停止に
コンタクトスタートストップ方式を採用しており、起動
および停止時には、磁気ヘッドと磁気ディスク表面が接
触したまま回転する。この接触摩擦状態における磁気ヘ
ッドと磁気ディスクの間に生じる摩擦力は、磁気ヘッド
および磁気ディスク表面を摩擦させ、ついには磁気ヘッ
ドおよび磁気媒体薄Ｊ臭に傷を作ることがある。

この接触摩擦力を減少させる１つの方法として潤滑層を
設けることが挙げられる。従来、金属酸化物磁性媒体の
場合、＠滑層と磁性媒体の結合は十分に強いと言われ、
金属磁性媒体と異なり、第２図に示すように潤滑層と磁
性媒体の間に下地層を設けずに潤滑層を作成していた。

磁気記録媒体は表面精度が良く、まだ化学吸着しにくい
ので、磁気記録媒体に傷ができたり、潤滑層を設けた場
合潤滑層が剥離しやすいなどの問題点があった。

この１つの解決法として、テトラヒドロキシシランなど
のシランカップリング剤、金属アルコキシドなどを塗液
塗布法により磁気記録媒体に被覆し熱処理して縮合重合
物であるポリケイ酸膜を形成したり、スパッタなどによ
Ｖ無機酸化物膜を形成し、＠滑的保獲的役割を果たさせ
たり、潤滑層を設ける場合の下地層としたジしていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のスパッタ法による保護膜は表面精度が非常に良く
鏡面になっているため、磁気ヘッドが磁気ディスクの表
面に吸涜し、磁気ディスクが回転を始めても磁気ヘッド
が浮上できず、磁気ヘッドなどが破損するなどの問題点
があった（　Ｅ、Ｍ、Ｒｏｓｓ１他、ジャーナル・オブ
・アプライド・フィジックス（Ｊ　、　Ａｐｐｌ、Ｐｈ
ｙｓ、　）　、　５５巻、６号、　　２２５４頁〕。

また、保護膜上に（蘭滑膜などを設ける場合においても
、保護膜の表面精１更が良いため潤滑族がはく離しやす
＜、磁気ディスクの信頼性を表すコンタクトスタートス
トップ（ＣＳＳ）回数が少なくなるという問題点が生じ
た。

また、従来の塗り、塗布法による保護膜は９例えば特開
昭５３−７６０１３号公報、特開昭５３−１０６１０１
＋５−公報、特開昭５４−１５７０４号公報に記されて
いるように、金属アルコキシドやテトラヒドロキシシラ
ンなどのシランカップリング剤を原料とし、アルコール
などを溶媒にして溶液を磁気ディスク表面に塗布し熱処
理することによって得られる。この反応は下式に表され
るように脱水縮合反応である。

−Ｓｉ　　ＯＨ＋１−１０−８１−−″−Ｓニー０−８
１マ＋Ｈ２０磁気記録媒体が金属の場合、基板や下地層
からの制約のため熱処理温度を２００℃以下にしなけれ
ばならず、上記公開特許公報に明記されているように、
保護膜は上記原料の単なる分解重合物であるポリケイ酸
から成っている。ところが１例えば最近よく研究されて
いる金属アルコキシドを加水分解させたゲルをガラス化
させるのに必要な熱処理温度は６００〜１０００℃であ
り、溶融法によるシリカガラスと同一の性質を示すのは
９００〜１０００℃の熱処理をした場合であると言われ
ており〔作花済夫［ガラス非晶質の科学」、内田老錫ｕ
Ｉｉｌ（１９８３）。

１４７〜１６４頁Ｊ、　　２００℃程度の低温の熱処理
ではガラス化はまったく望めない。即ち９分解重合物で
あるポリケイ酸はいわゆる５１０２膜に比べて硬度。

強度などがかなジ劣ジ、従来法によるポリケイ酸の保護
膜は弱く剥離しやすいなどの問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので１例えば磁気ヘッドの吸着を防止し潤滑族を用
いる場合にも、それの剥離を防止し、磁気記録媒体に設
けた被榎膜の剥離を防止して、信頼性の高い磁気ディス
クの製造方法を得ること全目的とする。

〔問題点を解決するだめの手段」 この発明の磁気ディスクの製造方法は、基材に設けられ
た磁気記録媒体Ｖこ、無機酸化物膜を被覆する際に常圧
以下の減圧で熱処理する方法である。

〔作用」 この発明における無機酸化物膜を磁気記録媒体上に被覆
する際に常圧以下の減圧で熱処理したことにより、既述
反応式で示した脱水縮合反応が促進され、低温熱処理で
硬度２強度がすぐれた膜に変化するため、＠滑的保護的
役割を果たし、また潤滑層を設ける場合の強固な下地層
となり潤滑層との密層力も強いので、潤滑層の剥離を防
止する。

し発明の実施例Ｊ 以Ｆ、この発明の一実施しリを図を用いて１悦明する。

第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの断面
図であり９図において、（１）はアルミニウム合金基材
、（２）は下地層、（３）は金属酸化物磁気記録媒体、
（４）は潤滑層、（５）は５１０２膜である。

ディスク状のアルミニウム合金基材上にγ−Ｆｅ　２ｏ
５スパツタ膜を形成した後、約１０係テトラヒドロキシ
シラン、エチルアルコール溶液を回転塗布法（回転数２
００　ｒｐ＋ｎ　）によジ５００Ｘの膜厚に塗布した。

このディスク状円盤を３００℃の温度、ｌＸ１０’Ｔｏ
ｒｒの真空度で３時間真空炉で熱処理した。この５ｉＯ
２Ｎ上に潤滑層として１例えばパイダツクス（商品名、
デュポン製）やクライトツクス（商品名。

デュポン′Ｒ）などの内、この発明に関してはパイダツ
クスを使用した。

以上のようにして得られた磁気ディスクは、＠滑層の剥
離が減少し、ＣＳＳテストではＣ８Ｓ回数が、従来法に
よる磁気ディスクに比較して約２倍になった。なお、潤
滑層を設けない場合も、同様にＣＳＳ回数は約２倍はな
った。

また、上記実施例では回転塗布法の場合について説明し
たが、浸漬法など他の方法であってもよく、上記実施例
により得られたものと同様の効果を奏する。

さらに、他の金属酸化物磁気記録媒体たとえばＣｒＯ２
などが挙げられるが、この場合であっても適用でき、上
記実施例によるものと同様の効果を奏する。また、金属
磁気記録媒体たとえば、Ｃｏ　−Ｎｉ。

Ｃｏ　−Ｎｉ　−ｐの場合であってもよく、上記実施例
と同様の効果を奏する。

上記実施例では主に８ｉｏ２１漠について説明したが。

他の無機酸化物たとえば’１に２０５．　Ｉｎ２Ｏ３，
ＴｉＯ２などであってもよく、上記実施例と同様の効果
を奏する。

上記実施例では３００℃の熱処理の例を説明したが、５
０〜５００℃の温度範囲であればよく、５０℃より低い
と反応に時間がかかりすぎ、５００℃以上だと磁気記録
媒体が非磁性体に変化してしまう。

なお、１００〜３００℃の温度範囲が最も望ましい。

上記実施例ではＩ　Ｘ　１０　　Ｔｏｒｒの真空度の例
を説明したが、常圧以下の減圧であれば良く、真空度が
高すぎ１０　Ｔｏｒｒとなると、金属酸化物磁気記録媒
体の還元が生じる。真空度が惑いと反応に時間がかかり
すぎ、１０〜１０　　Ｔｏｒｒの範囲が最も望ましい。

〔発明の効果」 以上のように、この発明によれば、基材に設けられた磁
気記録媒体に、無機酸化物膜を形成する際に、常圧以下
の減圧で熱処理することにより。

例えば磁気ヘッドの吸着を防止し、＠滑層を用いる場合
にもそれのはく離を防止し、磁気記録媒体に設けた被覆
膜のはく離も防止して、信頼性の高い磁気ディスクの製
造方法が得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの断面
図、＠２図は従来の磁気ディスクの断面図である。 図において、（１）は基材、（３）は磁気記録媒体、（
５）は無機酸化物膜である。 なお９図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材に設けられた磁気記録媒体に、無機酸化物膜
   を被覆する際に常圧以下の減圧で熱処理したことを特徴
   とする磁気ディスクの製造方法。
2. （２）減圧熱処理において、熱処理温度を５０〜５００
   ℃の範囲としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の磁気ディスクの製造方法。
3. （３）減圧熱処理において、真空度を１０＾−＾６Ｔｏ
   ｒｒ以上にしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   又は第２項記載の磁気ディスクの製造方法。