JPS62103360A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS62103360A JPS62103360A JP24314785A JP24314785A JPS62103360A JP S62103360 A JPS62103360 A JP S62103360A JP 24314785 A JP24314785 A JP 24314785A JP 24314785 A JP24314785 A JP 24314785A JP S62103360 A JPS62103360 A JP S62103360A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mesh
- vapor deposition
- deposition apparatus
- cleaning part
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は蒸着欠陥の少ない蒸着装置に併り、特に使いや
すい欠陥低減を計った蒸着装置に関する。
すい欠陥低減を計った蒸着装置に関する。
従来欠陥低減装置としては、第3図のようなものがちっ
た。蒸着源1と基板2との間に欠陥低減用のメソシー3
を介在させ、蒸着源からの欠陥となる大きな粒子を除去
するものである。しかし、このメツシュは毎回使い捨て
にしていた、そのため操作がはんざつで時間がかかり、
消費するメツシュの量も多かった。
た。蒸着源1と基板2との間に欠陥低減用のメソシー3
を介在させ、蒸着源からの欠陥となる大きな粒子を除去
するものである。しかし、このメツシュは毎回使い捨て
にしていた、そのため操作がはんざつで時間がかかり、
消費するメツシュの量も多かった。
本発明の目的は、メツシュを移動させることにより、メ
ツシュのクリーニングを行い、使いやすい欠陥を低減し
た蒸着装置を提供することにある。
ツシュのクリーニングを行い、使いやすい欠陥を低減し
た蒸着装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は、通
常のメツシュ付き蒸着機構に加え内部に加熱ヒータを有
する付着物除去装置により、メツシュに付着した蒸発物
を取りのぞくことにより、メツシュを何度も使用でき、
操作性のすぐれた欠陥低減を可能とする蒸着装置とした
ものであス ・ブイフグアーム法などを用いることができる。
常のメツシュ付き蒸着機構に加え内部に加熱ヒータを有
する付着物除去装置により、メツシュに付着した蒸発物
を取りのぞくことにより、メツシュを何度も使用でき、
操作性のすぐれた欠陥低減を可能とする蒸着装置とした
ものであス ・ブイフグアーム法などを用いることができる。
第1図に本発明の1実施例であるロールメツシュ法を用
いる蒸着装置の装置構成図を示す。
いる蒸着装置の装置構成図を示す。
上記装置構成を図示しない真空室内に設置し、下記条件
にて稼動した。
にて稼動した。
メツシュ31 : #300 SUS製、巾300mm
。
。
移動速度60龍/min エンド
レス
蒸 発 源 1:BNルツボ+Wヒータ、 Te蒸発
(Tm : 450℃) 基 板 2:石英 1.2slIIヒータボックス
5:赤外線ランプよりメッシユを600℃に加熱し、メ
ツシュに 付着した付着物のToを再蒸 発させ、メツシュのクリーニン グをする。
(Tm : 450℃) 基 板 2:石英 1.2slIIヒータボックス
5:赤外線ランプよりメッシユを600℃に加熱し、メ
ツシュに 付着した付着物のToを再蒸 発させ、メツシュのクリーニン グをする。
真 空 度: lXl0 ’Pa
メツシュなしでは1〜10コ/龍鵞の欠陥が生じ、又、
従来の固定メツシュ法では1枚の基板のみしか蒸着でき
なかったが、本発明のロールメツシュ法を用いる蒸着装
置により、メツシュの交換なしで10枚の基板に0.1
コ/朋2の欠陥数で蒸着できた。
従来の固定メツシュ法では1枚の基板のみしか蒸着でき
なかったが、本発明のロールメツシュ法を用いる蒸着装
置により、メツシュの交換なしで10枚の基板に0.1
コ/朋2の欠陥数で蒸着できた。
第2図に本発明の他の実施例であるスイングアーム法を
用いる蒸着装置の装置構成図を示す。
用いる蒸着装置の装置構成図を示す。
メッシュがスイングアームになった他は第1の実施例と
同じ条件にて蒸着を行った。
同じ条件にて蒸着を行った。
メッシユのクリーニングは、1回の蒸着ごとにメツシュ
をヒータボックス5内に入れ、Te’c除去することに
より行った。
をヒータボックス5内に入れ、Te’c除去することに
より行った。
第り実施例同様10枚の基板に蒸着ができ、01コ/龍
tの欠陥であった。
tの欠陥であった。
本発明によれば、メツシュの交換なしに蒸着できるので
多数の基板を一度に処理でき、量産化できる。
多数の基板を一度に処理でき、量産化できる。
第1図は本発明めロールメッシュ法を用いる蒸着装置構
成図、 蚤、 第2図は本発明のスイングアーム法を用いる蝉着装置構
成図、沿n1)71目、λ2日η激理a、系 第3図は従来の固定メツシュ法を用いる装着装置構成図
である。 1:蒸着源、2:基板、3:固定メツシュ、31:ロー
ルメツシュ、32:スイングアームメツシュ、5:赤外
線ヒータボックス、6:モータ、7゜8:スイングアー
ム回転支持機構。 −゛ノ゛ン 一′ち、1 第 1 図 に 第2図 〆2 第3図 弔 4 υ〜メ 図
成図、 蚤、 第2図は本発明のスイングアーム法を用いる蝉着装置構
成図、沿n1)71目、λ2日η激理a、系 第3図は従来の固定メツシュ法を用いる装着装置構成図
である。 1:蒸着源、2:基板、3:固定メツシュ、31:ロー
ルメツシュ、32:スイングアームメツシュ、5:赤外
線ヒータボックス、6:モータ、7゜8:スイングアー
ム回転支持機構。 −゛ノ゛ン 一′ち、1 第 1 図 に 第2図 〆2 第3図 弔 4 υ〜メ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 蒸発源と蒸着基板との間にメッシュを設けた蒸着装置に
おいて、メッシュ上に付着した蒸着物を取りさるクリー
ニング部と、 上記メッシュを上記クリーニング部に間歇的あるいは連
続的に移動せしめる機構とを有することを特徴とする蒸
着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24314785A JPS62103360A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24314785A JPS62103360A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 蒸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62103360A true JPS62103360A (ja) | 1987-05-13 |
Family
ID=17099486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24314785A Pending JPS62103360A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62103360A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007224376A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Showa Shinku:Kk | 真空蒸着装置および方法 |
US7462244B2 (en) | 2001-11-27 | 2008-12-09 | Nec Corporation | Device and method for vacuum film formation |
WO2009101795A1 (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Panasonic Corporation | 薄膜形成方法および成膜装置 |
-
1985
- 1985-10-30 JP JP24314785A patent/JPS62103360A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7462244B2 (en) | 2001-11-27 | 2008-12-09 | Nec Corporation | Device and method for vacuum film formation |
JP2007224376A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Showa Shinku:Kk | 真空蒸着装置および方法 |
WO2009101795A1 (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Panasonic Corporation | 薄膜形成方法および成膜装置 |
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