JPS62103041U - - Google Patents

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JPS62103041U
JPS62103041U JP1985193288U JP19328885U JPS62103041U JP S62103041 U JPS62103041 U JP S62103041U JP 1985193288 U JP1985193288 U JP 1985193288U JP 19328885 U JP19328885 U JP 19328885U JP S62103041 U JPS62103041 U JP S62103041U
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ion beam
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repair device
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に基くマスクリペア装置の全体
構成図、第2図は本考案にかかる引込み電圧調節
回路図、第3図A〜Cは本考案の作用を説明する
ための図、第4図A及びBは実施例を示めす図で
ある。 1…イオン源、4…走査電極、7…検出器、9
…検出器カバー、10…検出器引込み電極、11
…ガス銃、12…ノズル、13…真空容器、14
…駆動機構、16…位置検出回路、17…電源回
路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マスクの白色欠陥をパターン膜形成により修正
    するために、イオンビームを発するイオン源と、
    該イオンビームを集束させマスク表面上を走査さ
    せるイオンビーム光学系と、白色欠陥部に化合物
    蒸気を供給するためのノズルが前進後退できる化
    合物蒸気供給装置と、該イオンビームの照射によ
    りマスクから放出される2次荷電粒子を検出分析
    するための検出系であつて引込み電界を用いるも
    のと、マスクを真空雰囲気内に置くための真空容
    器、及び排気系からなるイオンビームマスクリペ
    ア装置において、ノズルがイオンビーム照射点近
    傍にあるとき、引込み電界の強度を調節すること
    によりイオンビームの軌道が変動を生じないよう
    にしたことを特徴とするイオンビームマスクリペ
    ア装置。
JP1985193288U 1985-12-16 1985-12-16 Expired JPH0320831Y2 (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS62103041U true JPS62103041U (ja) 1987-07-01
JPH0320831Y2 JPH0320831Y2 (ja) 1991-05-07

Family

ID=31149173

Family Applications (1)

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JP1985193288U Expired JPH0320831Y2 (ja) 1985-12-16 1985-12-16

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JP (1) JPH0320831Y2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0218561A (ja) * 1988-07-06 1990-01-22 Seiko Instr Inc 集束イオンビーム装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0218561A (ja) * 1988-07-06 1990-01-22 Seiko Instr Inc 集束イオンビーム装置

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Publication number Publication date
JPH0320831Y2 (ja) 1991-05-07

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