JPS6210266A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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JPS6210266A
JPS6210266A JP14897485A JP14897485A JPS6210266A JP S6210266 A JPS6210266 A JP S6210266A JP 14897485 A JP14897485 A JP 14897485A JP 14897485 A JP14897485 A JP 14897485A JP S6210266 A JPS6210266 A JP S6210266A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
power source
vessel
rotary table
vacuum chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP14897485A
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English (en)
Inventor
Yasuyuki Yamada
保之 山田
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は蒸着装置に関し、さらに詳しくは、アーク放電
型蒸発源を有する゛蒸着装置に関する。
[従来技術1 近年、切削工具や機械部品等に耐摩耗性被覆を行なう際
に、アーク放電型蒸発源を使用するイオンブレーティン
グ法が採用されてきている。
例えば、第3図に示すようなアーク放電型蒸発層を有す
る蒸着装置により行なわれている。
即ち、1の真空槽は陽極(7〕−ド)となるように、ま
た、この真空槽1の複数個所に設けた蒸発させる金属、
例えば、Tiは陰極(カン−1″)となるようにバイア
ス直流電源6およびアーク直流電源7と接続し、トリが
−5により両極間にアーク放電を発生させる。そして、
上記真空槽1の略中央部にくるように被処理物2を回転
台4上に載置し、バイアス直流電源6により負に印加し
、また、被処理物2の表面温度は赤外線表面温度計8に
より測定する。
この一般的なアーク放電型蒸発源を有する蒸着装置は、
先ず、被処理物2を回転台4上に載置し、真空槽1を2
 X 10 ”5Torr以下まで排気を行ない、アー
ク直流電源7をONにして、陽極となっている真空槽1
と接続しているトリが−5を、陰極となっている蒸発さ
せる金属3に機械的に接触させて直ぐに離すことにより
アーク放電を発生させる。この時、被処理物2はバイア
ス直流電源6により負に印加して−i ooovまで急
速に電位が上げられ、これにより、蒸発させる金属3よ
り蒸発した金属イオンが被処理物2の表面をスパッタし
、被処理物2表面は清浄にされ、かつ、表面温度が上昇
し、赤外線表面温度計8が400°Cの温度を指示する
と、反応〃ス、例えば、N2を入口9より真空室1内に
導入し、バイアス直流電源6の電位を400V以下に下
げると金属イオンは反応ガスと反応して化合物となって
被処理物2上に堆積していくので、所定の時間経過後に
アーク直流電源をOFFとして蒸着を終了させる。
このように、短時間で被処理物に密着性の良い被覆がで
きるが、以下に説明するような重大な問題がある。
即ち、被処理物が、例えば、ドリル、エンドミル等のよ
うに鋭利な刃先を有する工具の場合には、放電がこの工
具の刃先に集中して刃先を損傷し、遂には溶融してしま
うことがある。また、被処理物の重量や寸法が大幅に異
なると同一バッチでは、金属イオンのスパッタによる加
熱では昇温時間が異なるために、形成された被覆の性質
、密着性および光沢が異なり、従って、被覆された切削
工具の性質や特命に大きなバラツキが発生するという重
大な問題が生じる。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は上記に説明した従来におけるアーク放電型蒸発
源を有する蒸着装置の種々の問題点を解消したものであ
って、被処理物としてのドリル、エンドミル等の切削工
具の刃先を損傷することがなく、被覆された切削工具の
性質および寿命にバラツキがない7−り放電型蒸発源を
有する蒸着装置を提供するものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明に係る蒸着装置の特徴とするところは、陽極とな
る真空槽の複数個所に、陰極となる蒸着させる金属を設
置し、かつ、この真空槽の略中央部に被処理物を負に印
加させて回転させる回転台を設けた蒸着装置において、
さらに、回転台上の被処理物を均等に加熱するための加
熱手段を真空槽内に設置したことにある。
本発明に係る蒸着装置について以下図面に示す例により
詳細に説明する。
第1図におけるアーク放電型蒸発源を有する蒸着装置に
おいて、即ち、1の真空槽は陽極(7)−ド)となるよ
うに、また、この真空槽1の複数個所に設けた蒸発させ
る金属、例えば、Tiは陰極(カソード)となるように
バイアス直流電源6およびアーク直流電源7と接続し、
トリが−5により両極間にアーク放電を発生させるよう
にする。
また、上記真空槽1の略中央部にくるように被処理物2
を回転台4上に載置し、バイアス直流電源6により負に
印加し、また、被処理物2の表面温度を均等に加熱する
ためのヒーター12が真空槽1内の数個所に設置されて
いる。13は熱電対、11はヒーター電源である。
本発明に係る蒸着装置はこのような構成を有しているも
のであり、先ず、ドリル、エンドミル等の被処理物2を
回転台4上に載置し、真空槽1を2 X 10−5To
rr以下まで排気を行ない、ヒーター電源をONにして
真空加熱の状態で真空槽1内に挿入した熱電対13が約
400℃の温度を指示するまで昇温するものであり、被
処理物2はヒーター12の輻射熱だけで昇温されるので
刃先は損傷することがなく、また、加熱保持時間を調節
することにより被処理物の大小に関係なく均等な温度に
加熱することができる。次に、アルゴン〃又を導入する
か、または、アーク直流電源7をONにして、陽極とな
っている真空槽1と接続しているトリが−5を、陰極と
なっている蒸発させる金属3に機械的に接触させて直ぐ
に離すことによりアーク放電を発生させる。この時、被
処理物2はバイアス直流電源6により負に印加して−7
00〜−1ooovまで急速に電位が上げられ、これに
より−1蒸発させる金属3より蒸発した金属イオンが被
処理物2の表面をスパッタし、被処理物2表面は清浄に
される。その後、バイアス直流電源6の電位を一400
V以下に下げると金属イオンは反応ガスと反応して化合
物となって被処理物2上に堆積していくので、所定の時
間経過後にアーク直流電源をOFFとして蒸着を終了さ
せる。
次に、本発明に係る蒸着装置により被覆したエンドミル
と従来装置により被覆したエンドミルとの切削長さと逃
げ面摩耗量とについて第2図により説明する。
エンドミル 外径 10mm(2枚刃)突出し長さ 3
5mm 被削材 5KD61 切削速度 21 、4 m/m1n(680rpm)送
り  1001I1m1001 I1 cut方式 乾式 従来のアーク放電型蒸発源ヲ有する蒸着装置による被覆
エンドミルの逃げ面摩耗量Aは、切削長さが8111の
時に0.08〜0.15までの約2倍のバラツキがある
のに対し、本発明に係る蒸着装置による被覆エンドミル
は切削長さが8mの時に逃げ面摩耗量Bは0.07〜0
.085IIII11の範囲で約10%のバラツキしか
なく安定していることがわかる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明に係る蒸着装置は上記の構
成を有しているから、被処理物、例えば、ドリル、エン
ドミル等の鋭利な刃先が損傷されることなく均一な温度
に加熱されるので、被覆や切削性能が安定し、また、被
処理物の種類、寸法、重量に関係なく同一バッチで処理
することができ、さらに、被覆および被処理物の寿命を
安定させることができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るアーク放電型蒸発源を有する装着
装置の概略図、第2図は切削長と逃げ面摩耗量との関係
を示す図、第3図は従来のアーク放電型蒸発源を有する
蒸着装置の概略図である。 1・・真空槽、2・・被処理物、3・・蒸発させる金属
、4・・回転台、5・・トリが−16・・バイアス直流
電源、7・・アーク直流電源、9・・反応がス入口、1
0・・出口、11ヒーター電源、12・・加熱手段、1
3・・熱電対、1′・・ヒーター覆い。 才1 図 矛2図 ヤn削長−(vl)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 陽極となる真空槽の複数個所に、陰極となる蒸着させる
    金属を設置し、かつ、この真空槽の略中央部に被処理物
    を負に印加させて回転させる回転台を設けた蒸着装置に
    おいて、さらに、回転台上の被処理物を均等に加熱する
    ための加熱手段を真空槽内に設置したことを特徴とする
    蒸着装置。
JP14897485A 1985-07-06 1985-07-06 蒸着装置 Pending JPS6210266A (ja)

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JP14897485A JPS6210266A (ja) 1985-07-06 1985-07-06 蒸着装置

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JPS6210266A true JPS6210266A (ja) 1987-01-19

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63170458U (ja) * 1987-04-23 1988-11-07
JPH01132756A (ja) * 1987-11-18 1989-05-25 Kobe Steel Ltd 耐摩耗性膜被覆方法
JPH01157152U (ja) * 1988-04-19 1989-10-30
JP2016023321A (ja) * 2014-07-17 2016-02-08 有限会社ファームファクトリー 真空蒸着装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57107026A (en) * 1980-12-25 1982-07-03 Seiko Epson Corp Heating mechanic for vacuum machine

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57107026A (en) * 1980-12-25 1982-07-03 Seiko Epson Corp Heating mechanic for vacuum machine

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63170458U (ja) * 1987-04-23 1988-11-07
JPH057238Y2 (ja) * 1987-04-23 1993-02-24
JPH01132756A (ja) * 1987-11-18 1989-05-25 Kobe Steel Ltd 耐摩耗性膜被覆方法
JPH01157152U (ja) * 1988-04-19 1989-10-30
JPH0619564Y2 (ja) * 1988-04-19 1994-05-25 日新電機株式会社 真空アーク放電型pvd装置のアーク電極装置
JP2016023321A (ja) * 2014-07-17 2016-02-08 有限会社ファームファクトリー 真空蒸着装置

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