JPS62101373A - はんだ付け方法およびその装置 - Google Patents
はんだ付け方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS62101373A JPS62101373A JP23989685A JP23989685A JPS62101373A JP S62101373 A JPS62101373 A JP S62101373A JP 23989685 A JP23989685 A JP 23989685A JP 23989685 A JP23989685 A JP 23989685A JP S62101373 A JPS62101373 A JP S62101373A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- soldering
- oxygen
- atmosphere
- chamber
- inert gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、！！を酸素状態ではんだ付（）を行うはんだ
（＝ｊけ方法およびその装置に関するらのである。。
（＝ｊけ方法およびその装置に関するらのである。。
〔従来の技術）
従来、自動は／υだ付番ノラインによりはんだｆＪ Ｇ
ノを行う場合、人気中ではんだ句けを行っている。
ノを行う場合、人気中ではんだ句けを行っている。
（発明が解決しようとする問題点）
したがって、人気中の酸素による酸化が、はんだ槽内の
溶融はんだ而およびはんだｆＪけ部分にＪ３いて生じ、
良好なはんだ付けを阻害している。
溶融はんだ而およびはんだｆＪけ部分にＪ３いて生じ、
良好なはんだ付けを阻害している。
本発明の目的は、はんだ付１プに係る雰囲気中の酸素を
著しく匹減することが可能な手段を提供し、酸化による
はんだイリ１ノ不良をなくすことにある。
著しく匹減することが可能な手段を提供し、酸化による
はんだイリ１ノ不良をなくすことにある。
本発明は、はんだ付けに係る雰囲気中の′Ｍ素を、この
酸素と化合りるり初口により消費づることににす、低酸
素ｃｉ度雰囲気中にＪｊいてはんだ付１りを行うはんだ
付は方法にある。
酸素と化合りるり初口により消費づることににす、低酸
素ｃｉ度雰囲気中にＪｊいてはんだ付１りを行うはんだ
付は方法にある。
また、本発明は、はんだ付は室１７の内部に、フラック
スを塗布した被はんだｆすは物に予加熱を行うプリヒー
タ３２およびは／υだ付【プを行うはんだ槽３３を設け
、このはんだ付は室１７を経て内部流体を循環づる流体
回路を設け、この流体回路中に、前記はんだ付は室１７
内でフラックスから生ずる溶剤ガスをｔよんだ付けに係
る雰囲気中の酸素と化合させる酸化処理部４３を設置ノ
たは／ｖだ付は装置にある。
スを塗布した被はんだｆすは物に予加熱を行うプリヒー
タ３２およびは／υだ付【プを行うはんだ槽３３を設け
、このはんだ付は室１７を経て内部流体を循環づる流体
回路を設け、この流体回路中に、前記はんだ付は室１７
内でフラックスから生ずる溶剤ガスをｔよんだ付けに係
る雰囲気中の酸素と化合させる酸化処理部４３を設置ノ
たは／ｖだ付は装置にある。
本発明は、はんだイ・１りに係る雰囲気中のｌｆ２素を
酸化作用を利用して除去し、良好なはんだ付けに必要な
低酸素濃麿雰囲気を作る。
酸化作用を利用して除去し、良好なはんだ付けに必要な
低酸素濃麿雰囲気を作る。
また本発明は、ブリヒータ３２およびはんだ槽３３を設
【ノてなるはｌυだ付は室１７内で被はｌυだ付は物の
フラックスから生ずる溶剤ガスを酸化処理部４３に導き
、この溶剤ガスをはんだ付けに係る雰囲気中の酸素と化
合させることにより、その酸素を除去する。
【ノてなるはｌυだ付は室１７内で被はｌυだ付は物の
フラックスから生ずる溶剤ガスを酸化処理部４３に導き
、この溶剤ガスをはんだ付けに係る雰囲気中の酸素と化
合させることにより、その酸素を除去する。
放下、本発明を図面にポリ−実施例を参照して詳細に説
明する。
明する。
１１は、はんだ付（ブ装置本体であり、この装置本体１
１の内部に４枚のゲート１２．１３．１４．１５により
前室１６、は／υだ付【Ｕ室１７および後室１８を区画
形成する。前記各ゲートは、図示しない流体圧シリンダ
により上下方向に開閉操作される。
１の内部に４枚のゲート１２．１３．１４．１５により
前室１６、は／υだ付【Ｕ室１７および後室１８を区画
形成する。前記各ゲートは、図示しない流体圧シリンダ
により上下方向に開閉操作される。
さらに、前記装置本体１１の外部および内部の各室にプ
リン１−配線基板等の被はんだイ・」け物を搬送するた
めのコンベＶ２１．取込みコンペ１７２２．はんだ付は
コンベヤ２３．取出しコンベヤ２４およびコンベヤ２５
を設ける。この各コンベＶにより被はんだ付は物を順次
搬送するが、その際、各ゲート１２゜１３、１４．１５
は被はんだ付は物の通過時にのみ聞くようにする。
リン１−配線基板等の被はんだイ・」け物を搬送するた
めのコンベＶ２１．取込みコンペ１７２２．はんだ付は
コンベヤ２３．取出しコンベヤ２４およびコンベヤ２５
を設ける。この各コンベＶにより被はんだ付は物を順次
搬送するが、その際、各ゲート１２゜１３、１４．１５
は被はんだ付は物の通過時にのみ聞くようにする。
また、前記コンペｒ２１の下部にフラクサ−３１を設け
、このフラクサ３１のノズルから発泡するフラックスを
被はんだ付は物に塗布し、また前記はんだ付は室１７の
内部のはんだ付（ノコンベヤ２３の下部にブリヒータ３
２と、はんだ槽３３とを設け、前記ブリヒータ３２によ
り被はんだ付は物を子加熱し、はんだ槽３３のノズルか
ら噴流する溶融はんだを被はんだ付は物に付けるように
づる。
、このフラクサ３１のノズルから発泡するフラックスを
被はんだ付は物に塗布し、また前記はんだ付は室１７の
内部のはんだ付（ノコンベヤ２３の下部にブリヒータ３
２と、はんだ槽３３とを設け、前記ブリヒータ３２によ
り被はんだ付は物を子加熱し、はんだ槽３３のノズルか
ら噴流する溶融はんだを被はんだ付は物に付けるように
づる。
前記フラックスを塗布した被はんだ付番〕物が１）す記
はんだ付は室１７の内部でブリヒータ３２により子加熱
されるとき、またはんだ槽３３によりはんだ付けされる
とき、フラックスの溶剤（イソプロピルアルコール）が
加熱されて気化づることにより、溶剤ガス（アルコール
ガス）が生ずる。
はんだ付は室１７の内部でブリヒータ３２により子加熱
されるとき、またはんだ槽３３によりはんだ付けされる
とき、フラックスの溶剤（イソプロピルアルコール）が
加熱されて気化づることにより、溶剤ガス（アルコール
ガス）が生ずる。
次に、前記装置本体１１の前室１６および後室１８にガ
ス出口／Ｉｔ、 ４２を設け、このガス出口４１．４２
を酸化処理部４３に連通ずる。この酸化処理部４３は、
はんだ付けに係る雰囲気中の酸素を、この酸素と化合す
る物質によりｆｆ！ｉ ￥ｔ １ｊる（酸化させる）も
ので、酸化作用を促准するために白金等の触媒を右して
いる。
ス出口／Ｉｔ、 ４２を設け、このガス出口４１．４２
を酸化処理部４３に連通ずる。この酸化処理部４３は、
はんだ付けに係る雰囲気中の酸素を、この酸素と化合す
る物質によりｆｆ！ｉ ￥ｔ １ｊる（酸化させる）も
ので、酸化作用を促准するために白金等の触媒を右して
いる。
さらにこの酸化処理部４３をフィルタ４４を介してポン
プ４５の吸込口に連通する。前記フィルタ４４とポンプ
４５との間の管路にはバルブ４６を介して不活性ガスの
タンク４１が接続されている。前記不活性ガスとしては
、窒素、２酸化炭素、アルゴン、ヘリウム等が適し、さ
らには化学合成された不活性ガスでもよい。
プ４５の吸込口に連通する。前記フィルタ４４とポンプ
４５との間の管路にはバルブ４６を介して不活性ガスの
タンク４１が接続されている。前記不活性ガスとしては
、窒素、２酸化炭素、アルゴン、ヘリウム等が適し、さ
らには化学合成された不活性ガスでもよい。
前記ポンプ４５の吐出（」は、循環ガスを所定温度まで
加熱する温調装置５１を経て、前記はんだ（ａ３３の下
部および上部に対して設けた温風ガス人口５２゜５３に
連通ずるとともに、循環ガスを所定温度まで冷却ケる空
調装置５４を経て、前記後室１８に対して設けた冷風ガ
ス人口５５に連通ずる。
加熱する温調装置５１を経て、前記はんだ（ａ３３の下
部および上部に対して設けた温風ガス人口５２゜５３に
連通ずるとともに、循環ガスを所定温度まで冷却ケる空
調装置５４を経て、前記後室１８に対して設けた冷風ガ
ス人口５５に連通ずる。
このようにして、前記はんだ付は室１７を経て内部流体
を循環する流体回路を形成づる。
を循環する流体回路を形成づる。
そうして、この自動はんだ付【ノラインを稼１１ＩＩ１
１〕−る前に、前記ポンプ４５を駆動して管路内ガスを
循環させるとともに、前記バルブ４６を聞いて、タンク
４７から不活性ガスを管路内に供給し、その不活性ガス
を前記温調装置５１で所定温度に加熱してｉ’＋ｒｉ記
はんだ槽３３の下部および上部に供給し、このはんだ槽
３３を温かい不活性ガスにより覆うとともに、前記空調
装置５４に°より所定温度まで冷却して後室１８に供給
Ｊ゛る。
１〕−る前に、前記ポンプ４５を駆動して管路内ガスを
循環させるとともに、前記バルブ４６を聞いて、タンク
４７から不活性ガスを管路内に供給し、その不活性ガス
を前記温調装置５１で所定温度に加熱してｉ’＋ｒｉ記
はんだ槽３３の下部および上部に供給し、このはんだ槽
３３を温かい不活性ガスにより覆うとともに、前記空調
装置５４に°より所定温度まで冷却して後室１８に供給
Ｊ゛る。
は／Ｖだ槽３３の周囲に供給された不活性ガスは、グー
１−１３が開いた時はんだ（＝Ｊけ室１７内の空気をこ
の室１７から追出σように前室１６に流れるとともに、
この前室１Ｇからはんだイ４け室１７への外気の流入を
防止する。このＪ：′）にして、はんだイ」す室１７内
の空気が不活性ガスと置換される。一方、後室１８に供
給された冷たい不活性ガスは、はんだ付は後の被はんだ
＋Ｊけ物を冷／ＪＪ ｖるとと、ｔ）に、ゲート１４゜
１５間に不活性ガス層を介在させ、外部の大気が前記は
んだ（＝Ｊけ室１７に流入することを防ＩＴｊる。
１−１３が開いた時はんだ（＝Ｊけ室１７内の空気をこ
の室１７から追出σように前室１６に流れるとともに、
この前室１Ｇからはんだイ４け室１７への外気の流入を
防止する。このＪ：′）にして、はんだイ」す室１７内
の空気が不活性ガスと置換される。一方、後室１８に供
給された冷たい不活性ガスは、はんだ付は後の被はんだ
＋Ｊけ物を冷／ＪＪ ｖるとと、ｔ）に、ゲート１４゜
１５間に不活性ガス層を介在させ、外部の大気が前記は
んだ（＝Ｊけ室１７に流入することを防ＩＴｊる。
さらに、１）を定量後室１６．１８のガス出口４１ 、
４２ ／Ｊ）ら流出する不活性ガス中には酸素が混入し
ているが、この酸素は、前記はんだ付は室１７内でフラ
ックスから生じた溶剤ガスとともに前記酸化処理部４３
に送られ、この酸化処理１４３内で白金等の触媒の作用
により前記溶剤ガス（可燃性ガス〉が前記酸素と化合（
燃焼）され、ｔまんだ角けに係る雰囲気中の酸系が消′
Ｌ′Ｉされる。そして、低酸素濃度のガスが１）ｒｔ記
ポンプ４５に循環される。
４２ ／Ｊ）ら流出する不活性ガス中には酸素が混入し
ているが、この酸素は、前記はんだ付は室１７内でフラ
ックスから生じた溶剤ガスとともに前記酸化処理部４３
に送られ、この酸化処理１４３内で白金等の触媒の作用
により前記溶剤ガス（可燃性ガス〉が前記酸素と化合（
燃焼）され、ｔまんだ角けに係る雰囲気中の酸系が消′
Ｌ′Ｉされる。そして、低酸素濃度のガスが１）ｒｔ記
ポンプ４５に循環される。
このような循環を繰返しているうちに、循環ガス中の酸
素濃度が徐々に低下し、ぞして少なくとｂ、はんだ槽３
３上に６３ Ｃノるはんだ（ｊけ部分の雰囲気中の酸素
濃度が体積比で約３％以下まで下がったら、図示される
自動はんだ（＝ｊ Ｇｊラインを稼動し、その低酸素濃
度雰囲気中にａ３いて被はんだで・］け物に対しはんだ
イ・」りを行う。このはんだイ」【ノ中においても、前
記バルブ４６は開いておいて不活性ガスを管路中に補充
する。
素濃度が徐々に低下し、ぞして少なくとｂ、はんだ槽３
３上に６３ Ｃノるはんだ（ｊけ部分の雰囲気中の酸素
濃度が体積比で約３％以下まで下がったら、図示される
自動はんだ（＝ｊ Ｇｊラインを稼動し、その低酸素濃
度雰囲気中にａ３いて被はんだで・］け物に対しはんだ
イ・」りを行う。このはんだイ」【ノ中においても、前
記バルブ４６は開いておいて不活性ガスを管路中に補充
する。
このように本発明によれば、はんだ付けに係る雰囲気中
の酸素を、この酸素と化合する物質により間貸すること
により、はんだ付ＩＩｊに必要な低酸素濃度雰囲気を作
るようにしたから、前記物質の酸化作用を通じて、はん
だｆｌけに係る雰囲気中の酸素を著しく低減することが
可能であり、酸化によるはんだ付１ノ不良をなくすこと
ができる。
の酸素を、この酸素と化合する物質により間貸すること
により、はんだ付ＩＩｊに必要な低酸素濃度雰囲気を作
るようにしたから、前記物質の酸化作用を通じて、はん
だｆｌけに係る雰囲気中の酸素を著しく低減することが
可能であり、酸化によるはんだ付１ノ不良をなくすこと
ができる。
また、はんだ付は室を経て内部流体を循環する流体回路
中に、前記はんだ付は室内で７ラツクスから生ずる溶剤
ガスをはんだ付けに係る雰囲気中、の酸素と化合させる
酸化処理部を設りたから、酸素と化合する物質を特別に
生成り゛る必要がなく゛、前記溶剤ガスが僅かな酸素を
も探し出して前記酸化処理部で化合し、酸素を効果的に
除去できる。
中に、前記はんだ付は室内で７ラツクスから生ずる溶剤
ガスをはんだ付けに係る雰囲気中、の酸素と化合させる
酸化処理部を設りたから、酸素と化合する物質を特別に
生成り゛る必要がなく゛、前記溶剤ガスが僅かな酸素を
も探し出して前記酸化処理部で化合し、酸素を効果的に
除去できる。
４、図面のＱｔＪ里な説朗
図は本発明のはんだ付は方法およびその装置の一実施例
を示す流体回路である。
を示す流体回路である。
１７・・は／υだイ」け室、３２・・ブリヒータ、３３
・・はｌυだ槽、４３・・酸化処理部。
・・はｌυだ槽、４３・・酸化処理部。
昭和６０年１０月２６日
Claims (2)
- （１）はんだ付けに係る雰囲気中の酸素を、この酸素と
化合する物質により消費することにより、低酸素濃度雰
囲気中においてはんだ付けを行うことを特徴とするはん
だ付け方法。 - （２）フラックスを塗布した被はんだ付け物に予加熱を
行うプリヒータおよびはんだ付けを行うはんだ槽をはん
だ付け室の内部に設け、このはんだ付け室を経て内部流
体を循環する流体回路を設け、この流体回路中に、前記
はんだ付け室内でフラックスから生ずる溶剤ガスをはん
だ付けに係る雰囲気中の酸素と化合させる酸化処理部を
設けたことを特徴とするはんだ付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23989685A JPS62101373A (ja) | 1985-10-26 | 1985-10-26 | はんだ付け方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23989685A JPS62101373A (ja) | 1985-10-26 | 1985-10-26 | はんだ付け方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62101373A true JPS62101373A (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=17051467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23989685A Pending JPS62101373A (ja) | 1985-10-26 | 1985-10-26 | はんだ付け方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62101373A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03101296A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-26 | Fujitsu Ltd | プリント基板の半田付け用リフロー炉の構造 |
| JP2007273571A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
| JP2007329376A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
-
1985
- 1985-10-26 JP JP23989685A patent/JPS62101373A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03101296A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-26 | Fujitsu Ltd | プリント基板の半田付け用リフロー炉の構造 |
| JP2007273571A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
| JP2007329376A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
| JP4721352B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2011-07-13 | 株式会社タムラ製作所 | リフロー炉 |
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