JPS6199255A - ライン状電子ビ−ム発生装置 - Google Patents
ライン状電子ビ−ム発生装置Info
- Publication number
- JPS6199255A JPS6199255A JP21943184A JP21943184A JPS6199255A JP S6199255 A JPS6199255 A JP S6199255A JP 21943184 A JP21943184 A JP 21943184A JP 21943184 A JP21943184 A JP 21943184A JP S6199255 A JPS6199255 A JP S6199255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- cathode
- anode
- deflection
- line
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/07—Eliminating deleterious effects due to thermal effects or electric or magnetic fields
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、電子ビームアニーリング装置等に使用して最
適なライン状電子ビーム発生装置に関する。
適なライン状電子ビーム発生装置に関する。
［従来技術］
第４図は従来のライン状電子ビーム発生部を示しており
、図中１は細長い電子ビーム発生部２を有した陰極であ
る。該陰極１には、電′ｍ３から加熱電流が供給され、
その結果、該陰極から熱電子が発生する。該熱電子は、
該陰極１に接近して配置された制御電極４によって制御
され、陽極５によって加速されて被加熱材料（図示せず
〉に向は照射される。
、図中１は細長い電子ビーム発生部２を有した陰極であ
る。該陰極１には、電′ｍ３から加熱電流が供給され、
その結果、該陰極から熱電子が発生する。該熱電子は、
該陰極１に接近して配置された制御電極４によって制御
され、陽極５によって加速されて被加熱材料（図示せず
〉に向は照射される。
し発明が解決しようとする問題点］
上述した構成では、隘穫１の電子ビーム発生部２に電流
ｉが流されるため、該陰極の近傍には、紙面に垂直な方
向に磁場Ｈが形成される。その結果、該陰極１から発生
した電子ビームは該磁場によって偏向され、光軸Ｏから
ずれた方向に照射されることになる。
ｉが流されるため、該陰極の近傍には、紙面に垂直な方
向に磁場Ｈが形成される。その結果、該陰極１から発生
した電子ビームは該磁場によって偏向され、光軸Ｏから
ずれた方向に照射されることになる。
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、電子ビー
ムを光軸方向に正確に照用ツることができる電子ビーム
発生装置を提供することを目的としている。
ムを光軸方向に正確に照用ツることができる電子ビーム
発生装置を提供することを目的としている。
［問題点を！４決するための手段］
本発明に基づくライン状電子ビーム発生装置は、細長い
電子ビーム発生部を有した陰極と、該陰極に加熱電流を
供給する手段と、該陰極から発生する電子線ビームを制
御する制御電極と、該電子ビームを加速するための陽極
とを備えた装置にＪヅいて、該陰極への加熱電流の供給
に基づいて発生する磁場による電子ビームの偏向を補償
する手段を設けたことを特徴としている。
電子ビーム発生部を有した陰極と、該陰極に加熱電流を
供給する手段と、該陰極から発生する電子線ビームを制
御する制御電極と、該電子ビームを加速するための陽極
とを備えた装置にＪヅいて、該陰極への加熱電流の供給
に基づいて発生する磁場による電子ビームの偏向を補償
する手段を設けたことを特徴としている。
［実施例］
以下、本発明の実施例を添削図面に基づいて詳ｊボする
。
。
第２図において、第１図と同一構成要素に対し１１
ては同一番号を付しその詳細な説明は省略する
。
ては同一番号を付しその詳細な説明は省略する
。
この実施例に８３いて、陽極５は光軸Ｏに対して垂直な
×、Ｙ２方向に移動典購６によって移動可能に配置され
ている。第２図は陰極１の電子ビーム発生部２と陽極５
の間口５ａとの関係を示している。該間口５ａの幅およ
び長さは該発生部２のそれより長くされており、該陽極
５は、Ｘ方向には±ａ、Ｙ方向には±ｂ該移動は構６に
よって移動可能にされている。前述した如く、該陰極へ
の電流ｉの供給により、該陰（Φ１下部には電子ビーム
を偏向する磁場が形成され、該陰極１より発生した電子
ビームは該磁場によって偏向されるものの、この実施例
Ｃは、該陽極５の静電偏向作用によって該磁場による電
子ビームの偏向は補償される。
×、Ｙ２方向に移動典購６によって移動可能に配置され
ている。第２図は陰極１の電子ビーム発生部２と陽極５
の間口５ａとの関係を示している。該間口５ａの幅およ
び長さは該発生部２のそれより長くされており、該陽極
５は、Ｘ方向には±ａ、Ｙ方向には±ｂ該移動は構６に
よって移動可能にされている。前述した如く、該陰極へ
の電流ｉの供給により、該陰（Φ１下部には電子ビーム
を偏向する磁場が形成され、該陰極１より発生した電子
ビームは該磁場によって偏向されるものの、この実施例
Ｃは、該陽極５の静電偏向作用によって該磁場による電
子ビームの偏向は補償される。
すなわち、該陽極の位置が該電子ビームの偏向の程度に
よって移動され、該磁場による偏向の向きと逆の向きに
、該電子ビームは該陽極の静電偏向場によって偏向され
ることから、電子ビームは光軸Ｏに冶って照射されるこ
とになる。
よって移動され、該磁場による偏向の向きと逆の向きに
、該電子ビームは該陽極の静電偏向場によって偏向され
ることから、電子ビームは光軸Ｏに冶って照射されるこ
とになる。
第３図は本発明の仙の実施例を示している。この実施例
では、制御電極４と陽極５との間に偏向 １コイ
ル７が配置されており、陰極１への電？１ｊ ｌの供給
に伴う磁場による電子ビームの偏向は、該偏向コイル７
による偏向によって？ｉｌｉ ｔ８される。尚、この実
施：？ｊにおいて、該偏向コイル７を該陽極５の下部に
配置するように構成しても良く、又、偏向コイルに代え
、静電偏向板を用いても良い。
では、制御電極４と陽極５との間に偏向 １コイ
ル７が配置されており、陰極１への電？１ｊ ｌの供給
に伴う磁場による電子ビームの偏向は、該偏向コイル７
による偏向によって？ｉｌｉ ｔ８される。尚、この実
施：？ｊにおいて、該偏向コイル７を該陽極５の下部に
配置するように構成しても良く、又、偏向コイルに代え
、静電偏向板を用いても良い。
し効果］
以上詳述した如く、本発明においては、細長い電子ビー
ム発生部に電流が流されることに伴う磁場による電子ビ
ームの偏向を補償することができ、ライン状の電子ビー
ムを目的部分へ正確に照射することが可能となる。
ム発生部に電流が流されることに伴う磁場による電子ビ
ームの偏向を補償することができ、ライン状の電子ビー
ムを目的部分へ正確に照射することが可能となる。
第１図は本発明の一実施例を示ず図、第２図は第１図の
陽（唄と陰極の電子ビーム発生部との関係を示す図、第
３図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は従来のラ
イン状電子ビーム発生装置を示１図である。 １・・・陰極 ２・・・電子ビーム発生部３・・
・電源 ４・・・制御電極５・・・陽極
６・・・移動機構７・・・偏向コイル
陽（唄と陰極の電子ビーム発生部との関係を示す図、第
３図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は従来のラ
イン状電子ビーム発生装置を示１図である。 １・・・陰極 ２・・・電子ビーム発生部３・・
・電源 ４・・・制御電極５・・・陽極
６・・・移動機構７・・・偏向コイル
Claims (3)
- （１）細長い電子ビーム発生部を有した陰極と、該陰極
に加熱電流を供給する手段と、該陰極から発生する電子
ビームを制御する制御電極と、該電子ビームを加速する
ための陽極とを備えた装置において、該陰極への加熱電
流の供給に基づいて発生する磁場による電子ビームの偏
向を補償する手段を設けたことを特徴とするライン状電
子ビーム発生装置。 - （２）該電子ビームの偏向を補償する手段は、該陰極に
対して陽極を移動させる手段である特許請求の範囲第１
項記載のライン状電子ビーム発生手段。 - （３）該電子ビームの偏向を補償する手段は、該陽極の
近傍に配置された偏向手段である特許請求の範囲第１項
記載のライン状電子ビーム発生手段。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21943184A JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21943184A JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199255A true JPS6199255A (ja) | 1986-05-17 |
| JPH0317343B2 JPH0317343B2 (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=16735288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21943184A Granted JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199255A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61139562U (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-29 | ||
| JPH01204340A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 直熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH01231250A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 傍熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH02113257U (ja) * | 1988-05-24 | 1990-09-11 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109442A (en) * | 1980-02-05 | 1981-08-29 | Nec Corp | Electron beam generator |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP21943184A patent/JPS6199255A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109442A (en) * | 1980-02-05 | 1981-08-29 | Nec Corp | Electron beam generator |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61139562U (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-29 | ||
| JPH01204340A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 直熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH01231250A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 傍熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH02113257U (ja) * | 1988-05-24 | 1990-09-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0317343B2 (ja) | 1991-03-07 |
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