JPS62219445A - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置Info
- Publication number
- JPS62219445A JPS62219445A JP61062600A JP6260086A JPS62219445A JP S62219445 A JPS62219445 A JP S62219445A JP 61062600 A JP61062600 A JP 61062600A JP 6260086 A JP6260086 A JP 6260086A JP S62219445 A JPS62219445 A JP S62219445A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- electron beam
- magnetic field
- lens
- field type
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は走査電子顕微鏡等の電子線装置に関し、更に詳
しくは電子ビーム偏向による偏向湾曲収差を補正してフ
ォーカスずれを防止した装置に関する。
しくは電子ビーム偏向による偏向湾曲収差を補正してフ
ォーカスずれを防止した装置に関する。
［従来技術］
走査電子顕微鏡等では、電子ビームをできるだけ細く集
束し、且つ、電子ビーム偏向角を大きくして試料を照射
することが要求されている。
束し、且つ、電子ビーム偏向角を大きくして試料を照射
することが要求されている。
第５図はこのような装置の従来例で、１は電子ビームで
、該電子ビーム１は磁界型レンズ２によって集束されて
試料３を照射する。４は電子ビーム１を偏向する偏向コ
イルで、該偏向コイル４には偏向電源５より偏向信号が
供給される。
、該電子ビーム１は磁界型レンズ２によって集束されて
試料３を照射する。４は電子ビーム１を偏向する偏向コ
イルで、該偏向コイル４には偏向電源５より偏向信号が
供給される。
このような装置では、電子ビーム１の偏向角θが大ぎく
なるにつれて、電子ビーム１の集束点が点線イで示すよ
うに湾曲して移動する所謂偏向湾曲収差とよばれるフォ
ーカスずれが発生する。第６図はこのような欠点を解消
するための装置で、第６図の装置では、磁界型レンズ２
のヨーク２ａの光軸側に空芯コイルで形成されたダイナ
ミックフォーカスコイル６を配置し、このダイナミック
フォーカスコイル６に２乗回路７より偏向電流ｉの２乗
に比例した電流を供給して補正している。
なるにつれて、電子ビーム１の集束点が点線イで示すよ
うに湾曲して移動する所謂偏向湾曲収差とよばれるフォ
ーカスずれが発生する。第６図はこのような欠点を解消
するための装置で、第６図の装置では、磁界型レンズ２
のヨーク２ａの光軸側に空芯コイルで形成されたダイナ
ミックフォーカスコイル６を配置し、このダイナミック
フォーカスコイル６に２乗回路７より偏向電流ｉの２乗
に比例した電流を供給して補正している。
［発明が解決しようとづる問題点１
しかじかながら、第６図に示す従来装置では、編向周波
数が低い場合は有効であるが、偏向周波数が高くなると
ダイナミックフォーカスコイル６のリアクタンスの影響
で、ダイナミックフォーカスコイル６の電流波形が偏向
信号に追従せず、ダイナミックフォーカスコイルの電流
波形の忠実度が失われる。従って、フォーカスずれを正
確に補正できなくなり周辺部でビームのボケが発生する
。
数が低い場合は有効であるが、偏向周波数が高くなると
ダイナミックフォーカスコイル６のリアクタンスの影響
で、ダイナミックフォーカスコイル６の電流波形が偏向
信号に追従せず、ダイナミックフォーカスコイルの電流
波形の忠実度が失われる。従って、フォーカスずれを正
確に補正できなくなり周辺部でビームのボケが発生する
。
又、磁界型レンズとスタテックレンズ（ユニポテンシャ
ルレンズ）を併用した装置もあるが、このような装置で
は、ユニポテンシャルレンズにある程度短い焦点距離を
持たせたうえで、その焦点を微小に変化させなければな
らないため、該レンズに通常数ＫＶ以上の高電圧を印加
しなければならず、補正電圧も数百Ｖと比較的大きな電
圧を変化さぜな【ノればならない。従って、このような
高圧電源に高い周波数特性を持たせることは困難である
ため、周波数特性もあまり改善されない欠点があった。
ルレンズ）を併用した装置もあるが、このような装置で
は、ユニポテンシャルレンズにある程度短い焦点距離を
持たせたうえで、その焦点を微小に変化させなければな
らないため、該レンズに通常数ＫＶ以上の高電圧を印加
しなければならず、補正電圧も数百Ｖと比較的大きな電
圧を変化さぜな【ノればならない。従って、このような
高圧電源に高い周波数特性を持たせることは困難である
ため、周波数特性もあまり改善されない欠点があった。
本発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は電
子ビームの偏向周波数が轟くなっても電子ビーム偏向に
よる偏向湾曲収差を補正してフォーカスずれを防止した
電子線装置を提供することにある。
子ビームの偏向周波数が轟くなっても電子ビーム偏向に
よる偏向湾曲収差を補正してフォーカスずれを防止した
電子線装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
以上の目的を達成するために本発明では、電子ビームを
磁界型電子レンズにより集束し、該電子ビームを偏向信
号が供給される電子ビーム偏向手段により偏向して試料
上を照射する装置において、前記磁界型電子レンズの内
側に該磁界型電子レンズを通過する電子ビームを囲むよ
うに配置された金属性部材と、該金属性部材に補正信号
を供給する補正信号発生器とを備え、前記金属性部材に
前記偏向信号に同期させて補正信号を供給することによ
り、電子ビーム偏向によって生ずる電子ビームの偏向湾
曲収差を補正するように構成したことを特徴としている
。
磁界型電子レンズにより集束し、該電子ビームを偏向信
号が供給される電子ビーム偏向手段により偏向して試料
上を照射する装置において、前記磁界型電子レンズの内
側に該磁界型電子レンズを通過する電子ビームを囲むよ
うに配置された金属性部材と、該金属性部材に補正信号
を供給する補正信号発生器とを備え、前記金属性部材に
前記偏向信号に同期させて補正信号を供給することによ
り、電子ビーム偏向によって生ずる電子ビームの偏向湾
曲収差を補正するように構成したことを特徴としている
。
［実施例］
以下本発明の実施例を図面に基づき詳述する。
第１図は本発明の一実施例の構成図である。第１図にお
いて、第５図に示す従来装置と同一構成要素には同一番
号を付してその説明を省略する。
いて、第５図に示す従来装置と同一構成要素には同一番
号を付してその説明を省略する。
第１図において、１０は磁界型レンズ２のヨーク２ａの
内側に配置された非磁性体で形成された金属性パイプで
ある。該金属性パイプ１ｏは、第２図に示すように点線
口で示ずレンズ磁界の中心部に２かれ、その内径は長さ
に比して充分小さく、又、レンズ磁界の大部分を含む艮
ざで形成されている。１１は金属性バイブ１０に補正電
圧を印加するための偏向電源５に接続された２乗回路で
ある。この２東回路１１では、該偏向電源５の偏向電流
の一部を該２乗回路１０を介して偏向角の２乗に比例す
る電圧を発生させる。この２東回路１１よりの補正電圧
Ｅｆを金属性パイプ１ｏに印加すると、磁界型レンズ２
を通過する電子ビーム１のエネルギーを偏向電流ｉの２
乗に比例して変化させることができる。
内側に配置された非磁性体で形成された金属性パイプで
ある。該金属性パイプ１ｏは、第２図に示すように点線
口で示ずレンズ磁界の中心部に２かれ、その内径は長さ
に比して充分小さく、又、レンズ磁界の大部分を含む艮
ざで形成されている。１１は金属性バイブ１０に補正電
圧を印加するための偏向電源５に接続された２乗回路で
ある。この２東回路１１では、該偏向電源５の偏向電流
の一部を該２乗回路１０を介して偏向角の２乗に比例す
る電圧を発生させる。この２東回路１１よりの補正電圧
Ｅｆを金属性パイプ１ｏに印加すると、磁界型レンズ２
を通過する電子ビーム１のエネルギーを偏向電流ｉの２
乗に比例して変化させることができる。
ところで、磁界型電子レンズの焦点距離は１／−ｆ＝
（ｅ／８ｍＶ） ｆＢｚ２ （ｚ）ｄｚで与えられる
。
（ｅ／８ｍＶ） ｆＢｚ２ （ｚ）ｄｚで与えられる
。
ここで、■は電子ビームのエネルギー（加速電圧）、Ｂ
ｚはレンズ磁界の光軸方向成分である。
ｚはレンズ磁界の光軸方向成分である。
上記の式から明らかなように、レンズの焦点距離は加速
電圧に比例するので、金属性パイプ１゜に補遺電圧を印
加することによって、磁界型レンズ２を通過中の電子ビ
ーム１のエネルギーを変化させると、その補正電圧に比
例してレンズの焦点距離、即ち、フォーカス位置を変化
させることができる。
電圧に比例するので、金属性パイプ１゜に補遺電圧を印
加することによって、磁界型レンズ２を通過中の電子ビ
ーム１のエネルギーを変化させると、その補正電圧に比
例してレンズの焦点距離、即ち、フォーカス位置を変化
させることができる。
このように構成された装置では、金属性バイブ１０に印
加する補正電圧が数十Ｖと小さいため、非常に周波数の
高い信号に応答することができ、従って、偏向周波数が
高くなった場合でも応答性が良い。
加する補正電圧が数十Ｖと小さいため、非常に周波数の
高い信号に応答することができ、従って、偏向周波数が
高くなった場合でも応答性が良い。
第３図は他の実施例の構成図で、第３図の実施例では、
磁界型レンズ２のヨーク２ａの内側に複数の電極で構成
された静電偏向器１２を配置しである。この静電偏向器
１２の全ての電極に加算回２ｆ１３を介して偏向電圧の
２乗に比例した電圧を偏向電源５からの偏向信号に躯畳
させて印加する。
磁界型レンズ２のヨーク２ａの内側に複数の電極で構成
された静電偏向器１２を配置しである。この静電偏向器
１２の全ての電極に加算回２ｆ１３を介して偏向電圧の
２乗に比例した電圧を偏向電源５からの偏向信号に躯畳
させて印加する。
このように構成された装置でも、周波数応答を向上させ
ることができるため、フォーカス位置を変化させること
ができるためフォーカスずれを防止することができる 第４図は更に他の実施例の構成図である。第４図の実施
例では、ヨーク２ａと絶縁して非磁性体１４ａと磁性体
１４ｂで形成されたポールピース１４を配置し、該ポー
ルピース１４に前記２乗回路１１よりの補正電圧Ｅｆを
印加することにより、磁界型レンズ２を通過する電子ビ
ーム１のエネルギーを偏向電流ｉの２乗に比例して変化
させることができる。
ることができるため、フォーカス位置を変化させること
ができるためフォーカスずれを防止することができる 第４図は更に他の実施例の構成図である。第４図の実施
例では、ヨーク２ａと絶縁して非磁性体１４ａと磁性体
１４ｂで形成されたポールピース１４を配置し、該ポー
ルピース１４に前記２乗回路１１よりの補正電圧Ｅｆを
印加することにより、磁界型レンズ２を通過する電子ビ
ーム１のエネルギーを偏向電流ｉの２乗に比例して変化
させることができる。
［発明の効果］
以上詳述したように本発明によれば、前記磁界型電子レ
ンズの内側に該磁界型電子レンズを通過する電子ビーム
を囲むように配置された金属性部材と、該金属性部材に
補正信号を供給する補正信号発生器とを備え、前記金属
性部材に偏向信号に同期させて補正信号を供給するよう
に構成したため、電子ビームの偏向周波数が高くなって
も電子ビーム偏向による偏向湾曲収差を補正してフォー
カスずれを防止した電子線装置が提供される。
ンズの内側に該磁界型電子レンズを通過する電子ビーム
を囲むように配置された金属性部材と、該金属性部材に
補正信号を供給する補正信号発生器とを備え、前記金属
性部材に偏向信号に同期させて補正信号を供給するよう
に構成したため、電子ビームの偏向周波数が高くなって
も電子ビーム偏向による偏向湾曲収差を補正してフォー
カスずれを防止した電子線装置が提供される。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は第１図を
説明するための図、第３図及び第４図は本発明の他の実
施例の構成図、第５図は及び第６図は従来装置を説明す
るための図である。 １：電子ビーム、２：！ｉ磁界型レンズ３：試料、４：
偏向コイル、５：偏向電源、１０：金属性バイブ、１１
：２乗回路、１２：静電偏向器、１３：加算回路、１４
：ポールピース。
説明するための図、第３図及び第４図は本発明の他の実
施例の構成図、第５図は及び第６図は従来装置を説明す
るための図である。 １：電子ビーム、２：！ｉ磁界型レンズ３：試料、４：
偏向コイル、５：偏向電源、１０：金属性バイブ、１１
：２乗回路、１２：静電偏向器、１３：加算回路、１４
：ポールピース。
Claims (5)
- （１）電子ビームを磁界型電子レンズにより集束し、該
電子ビームを偏向信号が供給される電子ビーム偏向手段
により偏向して試料上を照射する装置において、前記磁
界型電子レンズの内側に該磁界型電子レンズを通過する
電子ビームを囲むように配置された金属性部材と、該金
属性部材に補正信号を供給する補正信号発生器とを備え
、前記金属性部材に前記偏向信号に同期させて補正信号
を供給することにより、電子ビーム偏向によって生ずる
電子ビームの偏向湾曲収差を補正するように構成した電
子線装置。 - （２）前記金属性部材は磁界型電子レンズの内側に設け
られた非磁性体より成る金属性パイプである特許請求の
範囲第１項記載の電子線装置。 - （３）前記金属性部材は磁界型電子レンズの内側に設け
られた静電偏向器である特許請求の範囲第１項記載の電
子線装置。 - （４）前記金属性部材は磁界型電子レンズの内側に設け
られたポールピースである特許請求の範囲第１項記載の
電子線装置。 - （５）前記補正信号発生器は２乗回路である特許請求の
範囲第１項乃至４項記載の電子線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062600A JPS62219445A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 電子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062600A JPS62219445A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 電子線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219445A true JPS62219445A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13204985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61062600A Pending JPS62219445A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 電子線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62219445A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01258347A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-16 | Jeol Ltd | 集束荷電粒子ビーム装置 |
| JPH0432143A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-04 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
| WO2011108368A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた検査方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206173A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Focusing deflecting device for charged corpuscule beam |
| JPS60245133A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-04 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置における偏向歪補正方法 |
| JPS61101944A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電粒子ビ−ム用集束装置 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP61062600A patent/JPS62219445A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206173A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Focusing deflecting device for charged corpuscule beam |
| JPS60245133A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-04 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置における偏向歪補正方法 |
| JPS61101944A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電粒子ビ−ム用集束装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01258347A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-16 | Jeol Ltd | 集束荷電粒子ビーム装置 |
| JPH0432143A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-04 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
| WO2011108368A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた検査方法 |
| JP5308572B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2013-10-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた検査方法 |
| US8637820B2 (en) | 2010-03-02 | 2014-01-28 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope and inspection method using same |
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