JPS61926A - 鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS61926A JPS61926A JP12157184A JP12157184A JPS61926A JP S61926 A JPS61926 A JP S61926A JP 12157184 A JP12157184 A JP 12157184A JP 12157184 A JP12157184 A JP 12157184A JP S61926 A JPS61926 A JP S61926A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- iron
- magnetic recording
- recording medium
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鉄を主材料としたＦｉＶ ＩＩＡ型磁気記録
媒体の製造方法に関する。
媒体の製造方法に関する。
薄膜型磁気記録媒体は、高密度磁気記録媒体としてその
実用化が図られつ＼ある。
実用化が図られつ＼ある。
従来におけるこの種の磁気記録媒体で磁気特性が最も優
れたものは９強磁性材料であるところのコバルトまたは
コバルト合金を高分子フィルム等の基材の上に真空蒸着
することにより製造されている。しかし、このコバルト
系の磁気記録媒体の実用化については、二つの大きな問
題が存在する。第一に、コバルト系の磁性膜は。
れたものは９強磁性材料であるところのコバルトまたは
コバルト合金を高分子フィルム等の基材の上に真空蒸着
することにより製造されている。しかし、このコバルト
系の磁気記録媒体の実用化については、二つの大きな問
題が存在する。第一に、コバルト系の磁性膜は。
それ自体に実用上充分な耐蝕性がない。第二に。
コバルトは、資源が乏しく、高価なため、磁気記録媒体
の供給安定性に不安があり、また価格も高い。
の供給安定性に不安があり、また価格も高い。
本件発明者らは、こうした従来の問題を解決すべく検討
した結果、保磁力が１００００ｅ以上、角型比が０．９
以上というコバルト系磁気記録媒体に匹敵する磁気特性
が得られ、しかも窒化鉄の磁性膜と同程度に優れた耐蝕
性を有する鉄糸薄成型磁気記録媒体の製造方法を提案し
たく特願昭５９＝８６７２７号）。その方法は、非磁性
の基４Ａ−ｈに鉄を真空蒸着すると同時に、窒素ガスと
酸素ガスの混合ガスをイオン化し、これを−に記）Ｆ、
材上に照射することによって磁性膜を作製するものであ
る。
した結果、保磁力が１００００ｅ以上、角型比が０．９
以上というコバルト系磁気記録媒体に匹敵する磁気特性
が得られ、しかも窒化鉄の磁性膜と同程度に優れた耐蝕
性を有する鉄糸薄成型磁気記録媒体の製造方法を提案し
たく特願昭５９＝８６７２７号）。その方法は、非磁性
の基４Ａ−ｈに鉄を真空蒸着すると同時に、窒素ガスと
酸素ガスの混合ガスをイオン化し、これを−に記）Ｆ、
材上に照射することによって磁性膜を作製するものであ
る。
この方法において、磁気特性の優れた磁気記録媒体を製
造するためには、基祠トに入射させる鉄原子と混合ガス
のイオンの量が一定の比率に維持されることが重要であ
る。例えば、混合ガスが空気の場合、鉄原子に対する混
合ガスのイオン数は、０．５以上であることが必要であ
り。
造するためには、基祠トに入射させる鉄原子と混合ガス
のイオンの量が一定の比率に維持されることが重要であ
る。例えば、混合ガスが空気の場合、鉄原子に対する混
合ガスのイオン数は、０．５以上であることが必要であ
り。
さもなくば実用上充分な磁気特性を得ることができない
。
。
薄膜型磁気記録媒体の製造において、工業的に高い生産
性を得るためには、磁性膜の成膜速度を速くすることが
必要であり、それには基材への鉄の蒸気の入射量をでき
るだけ多くすることが不可欠である。ところが、上記の
理由から鉄の入射量を増大させる場合は、これに相応し
て基材に入射させる酸素ガスと窒素ガスのイオン量も増
大させる必要がある。
性を得るためには、磁性膜の成膜速度を速くすることが
必要であり、それには基材への鉄の蒸気の入射量をでき
るだけ多くすることが不可欠である。ところが、上記の
理由から鉄の入射量を増大させる場合は、これに相応し
て基材に入射させる酸素ガスと窒素ガスのイオン量も増
大させる必要がある。
一般にイオンの供給量を増大させるには、イオン化手段
を大型化するか、これを多数設置するかの何れかの方法
をとる必要があるが、狭い真空槽の中でのこれらの対策
には何れも限度がある。
を大型化するか、これを多数設置するかの何れかの方法
をとる必要があるが、狭い真空槽の中でのこれらの対策
には何れも限度がある。
本件発明者らは、こうした問題について検討を加えた結
果、成る種のイオン化手段を組合せた場合、それぞれの
イオン化手段では、磁性膜の成膜速度がある値を越える
と、これにイオン化量の増大が対応できず、磁気特性が
急激に低Ｆするのに対し、上記イオン化手段の組合せで
は、成る程度高い成膜速度においても充分な磁気特性が
得られることに着目した。本発明は。
果、成る種のイオン化手段を組合せた場合、それぞれの
イオン化手段では、磁性膜の成膜速度がある値を越える
と、これにイオン化量の増大が対応できず、磁気特性が
急激に低Ｆするのに対し、上記イオン化手段の組合せで
は、成る程度高い成膜速度においても充分な磁気特性が
得られることに着目した。本発明は。
これに基づいてなされたもので、上記鉄系薄膜型磁気記
録媒体の製造方法において、より高い生産性を得ること
を目的としたものである。
録媒体の製造方法において、より高い生産性を得ること
を目的としたものである。
まず、第１図により２本発明による製造方法をその装置
の構成と共に説明すると、真空槽の中に配置された蒸発
源１に鉄を用い、これをエレクトロンガン７から電子線
を照射することによって加熱、蒸発させ１発生した蒸気
を非磁性のガラス、高分子フィルム等からなる基材２の
上に照射する。
の構成と共に説明すると、真空槽の中に配置された蒸発
源１に鉄を用い、これをエレクトロンガン７から電子線
を照射することによって加熱、蒸発させ１発生した蒸気
を非磁性のガラス、高分子フィルム等からなる基材２の
上に照射する。
鉄の蒸気の照射径路の近傍には、熱電子放出用のフィラ
メント６と、これに対極するイオン化電極５が配置され
、上記照射径路ａ上に放電域すが形成されるようになっ
ている。また、この照射径路ａには、ノズル８が配置さ
れ、バルブ４ｂを介して放電域すに酸素ガス、窒素ガス
またはこれらの混合ガスが供給される。これらのガスは
、同放電域す中で鉄原子と共にイオン化され、基材２の
上に照射される。
メント６と、これに対極するイオン化電極５が配置され
、上記照射径路ａ上に放電域すが形成されるようになっ
ている。また、この照射径路ａには、ノズル８が配置さ
れ、バルブ４ｂを介して放電域すに酸素ガス、窒素ガス
またはこれらの混合ガスが供給される。これらのガスは
、同放電域す中で鉄原子と共にイオン化され、基材２の
上に照射される。
他方、真空槽内に上記イオン化手段とは別にいわゆるカ
ウフマン型のイオンガン３が配置されている。このイオ
ンガン３では、バルブ４ａを介してセル９の中に導入さ
れたガスがフィラメント１０から放出される電子によっ
てイオン化される。そしてこのガスイオンは、マグネッ
ト１１が形成する磁場によってセル９の中に保持され。
ウフマン型のイオンガン３が配置されている。このイオ
ンガン３では、バルブ４ａを介してセル９の中に導入さ
れたガスがフィラメント１０から放出される電子によっ
てイオン化される。そしてこのガスイオンは、マグネッ
ト１１が形成する磁場によってセル９の中に保持され。
さらに同イオンガン３と基材２の間に印加され電圧によ
って加速され、同基材２の上に照射される。
って加速され、同基材２の上に照射される。
この場合に、放電域す及びセル９の何れにもＮ！素ガス
と窒素ガスの混合ガスを導入するのが一般的な方法であ
るが、一方に酸素ガスのみを。
と窒素ガスの混合ガスを導入するのが一般的な方法であ
るが、一方に酸素ガスのみを。
他方に窒素ガスのみを導入してイオン化することも可能
である。
である。
第２１図は２本発明の方法により磁気テープを製造する
場合の装置を示したもので、長尺な高分子フィルム等か
らなる基材２が一方のリール１３から繰り出された後、
冷却ドラム１４に添えられ１次いで他方のリール１５に
巻き取られる。
場合の装置を示したもので、長尺な高分子フィルム等か
らなる基材２が一方のリール１３から繰り出された後、
冷却ドラム１４に添えられ１次いで他方のリール１５に
巻き取られる。
この装置による製造方法では、放電域すにおけるガスの
イオン化及びカウフマン型イオンガン３によるガスのイ
オン化については上記の場合と同様であるが、さらにイ
オンガンとして高周波放電型のイオンガン１６が併用さ
れている。
イオン化及びカウフマン型イオンガン３によるガスのイ
オン化については上記の場合と同様であるが、さらにイ
オンガンとして高周波放電型のイオンガン１６が併用さ
れている。
このイオンガン１６では、冷却ドラｆ１４と電極１７と
の間にバルブ４ｃを介してガスを導入すると共に、この
間に高周波電圧を印加し゛（高周波放電を生じさせ１か
つこの放電をコイル１８で発生ずる磁場によって閉じ込
めながら１発生したガスイオンを基材２の表面に入射さ
せる。
の間にバルブ４ｃを介してガスを導入すると共に、この
間に高周波電圧を印加し゛（高周波放電を生じさせ１か
つこの放電をコイル１８で発生ずる磁場によって閉じ込
めながら１発生したガスイオンを基材２の表面に入射さ
せる。
次に本発明の実施例と、その比較例について説明する。
（実施例）
蒸発源１として純度９９．９％の鉄を使用し、第１図で
示すような装置を用い、以下の条件で３５１角のガラス
製基材２の上に磁性膜を作製し。
示すような装置を用い、以下の条件で３５１角のガラス
製基材２の上に磁性膜を作製し。
磁気記録媒体を製造した。真空槽内の当初の圧力は、
ｌｏ−６Ｔｏｒｒ以下とし、蒸発源１から発射した鉄の
蒸気を基材２に８０°の角度で入射させた。
ｌｏ−６Ｔｏｒｒ以下とし、蒸発源１から発射した鉄の
蒸気を基材２に８０°の角度で入射させた。
これと同時にバルブ４ａ、 ４ｂを介してセル９及び放
電域すに混合ガスとして空気を導入し、これをイオン化
して基材２上に入射させ２反応蒸着させた。このとき、
イオン化電極５には、４０■の正の電位を印加し、かつ
フィラメント６に４０Ａの直流電流を通電して、アーク
放電を発生さ一１ｑた。また、イオンガン３から基材２
の上に照射するイオン量は、 ０．２ｍＡ／ｃＪと一
定の値に維持した。また、蒸発源１からの蒸発速度は、
基材２と同じ高さに設置した水晶振動式膜厚計により測
定しながら制御し、２０人／Ｓから５０人／Ｓまで、４
段階に分けて実施した。なお、蒸着中の真空槽内の真空
度は＋ ２ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒであった。
電域すに混合ガスとして空気を導入し、これをイオン化
して基材２上に入射させ２反応蒸着させた。このとき、
イオン化電極５には、４０■の正の電位を印加し、かつ
フィラメント６に４０Ａの直流電流を通電して、アーク
放電を発生さ一１ｑた。また、イオンガン３から基材２
の上に照射するイオン量は、 ０．２ｍＡ／ｃＪと一
定の値に維持した。また、蒸発源１からの蒸発速度は、
基材２と同じ高さに設置した水晶振動式膜厚計により測
定しながら制御し、２０人／Ｓから５０人／Ｓまで、４
段階に分けて実施した。なお、蒸着中の真空槽内の真空
度は＋ ２ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒであった。
こうして作られた磁気記録媒体について、それぞれの試
料を振動型磁力計によって磁性膜の表 １ Ｍ−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め。
料を振動型磁力計によって磁性膜の表 １ Ｍ−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め。
また光干渉膜厚計によって磁性膜の膜厚を測定した。こ
の結果は１表１に示した通りである。
の結果は１表１に示した通りである。
なお、磁性膜の膜厚は、何れもＩ（１００〜１５（１０
人であった。
人であった。
（比較例１）
上記実施例と同じ第１図で示した装置を使用し、イオン
化電極５への正電位の印加及びフィラメント６への通電
を行わず、かつノズル８からの空気の供給を行わず、そ
の他の条件を」−記実施例と同様にして磁気記録媒体の
製造を行った。但し、この場合に真空槽内の１．゛Ｌ空
度は、ＩＸ １０−’ Ｔｏｒｒであった。
化電極５への正電位の印加及びフィラメント６への通電
を行わず、かつノズル８からの空気の供給を行わず、そ
の他の条件を」−記実施例と同様にして磁気記録媒体の
製造を行った。但し、この場合に真空槽内の１．゛Ｌ空
度は、ＩＸ １０−’ Ｔｏｒｒであった。
こうして得られた磁気記録媒体については。
上記実施例と同様にして磁気特性等を測定し。
その結果を表２に示した。
（比較例２）
上記実施例と同じ第１ＦＩ！Ｊで示した装置を使用し、
イオンガン３への正電位の印加及びそのフィラメント１
０への通電を行わず、かつセル９への空気の供給を行わ
ず、その他の条件を上記実施例と同様にして磁気記録媒
体の製造を行った。
イオンガン３への正電位の印加及びそのフィラメント１
０への通電を行わず、かつセル９への空気の供給を行わ
ず、その他の条件を上記実施例と同様にして磁気記録媒
体の製造を行った。
なお、この場合に蒸発源１からの蒸発速度は。
５人／Ｓから５０人／Ｓまで５段階に分けて実施した。
こうして得られた磁気記録媒体については。
上記実施例と同様にして磁気特性等を測定し。
その結果を表２に示した。
表 ２
これらの結果から明らかな通り、イオンガン３のみを使
用して磁気記録媒体を製造した比較例１の場合、その保
磁力が１０００以上で、かつ角型化が０．９０以上だっ
たのは蒸着速度が２０人／Ｓ前後までであり、一方鉄の
蒸気の照射径路ａ上に放電域すを形成するイオン化手段
のみを用いた比較例２では、僅かこれが５ Ａ ／ ｓ
までであった。これに対し９本発明による方法では、５
０人／Ｓでもなお上記の特性を維持することができた。
用して磁気記録媒体を製造した比較例１の場合、その保
磁力が１０００以上で、かつ角型化が０．９０以上だっ
たのは蒸着速度が２０人／Ｓ前後までであり、一方鉄の
蒸気の照射径路ａ上に放電域すを形成するイオン化手段
のみを用いた比較例２では、僅かこれが５ Ａ ／ ｓ
までであった。これに対し９本発明による方法では、５
０人／Ｓでもなお上記の特性を維持することができた。
なお、イオンガンとしてカウフマン型のイオンガン３の
代わりに高周波放電型イオンガン１６を使用した場合、
或いはこれら両イオンガン３，１６を併用した場合も同
様の結果が得られた。
代わりに高周波放電型イオンガン１６を使用した場合、
或いはこれら両イオンガン３，１６を併用した場合も同
様の結果が得られた。
以上のようにして本発明によれば、上記の両イオン化手
段を併用した場合に予測される値をはるかに越える蒸着
速度をもって優れた磁気特性の磁気記録媒体が製造でき
た。これにより同媒体の生産性の向上を図ることができ
るようになる。
段を併用した場合に予測される値をはるかに越える蒸着
速度をもって優れた磁気特性の磁気記録媒体が製造でき
た。これにより同媒体の生産性の向上を図ることができ
るようになる。
第１図及び第２図は、それぞれ本発明の各実施例を示す
説明図である。 １−蒸発源 ２−基材 ３．１６・−イオンガン ａ−’鉄の蒸気の照射径路す
−・−放電域
説明図である。 １−蒸発源 ２−基材 ３．１６・−イオンガン ａ−’鉄の蒸気の照射径路す
−・−放電域
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性の基材上に鉄の蒸気を入射させると共に、窒
素ガスと酸素ガス或いはこれらの混合ガスをイオン化し
て、上記基材上に照射することにより、同基材上に磁性
膜を作製する薄膜型磁気記録媒体の製造方法において、
鉄の蒸気の照射径路上に放電域を形成し、同放電域で上
記一方のガスまたは混合ガスを鉄と共にイオン化して基
材上に照射すると共に、イオンガンで他方のガスまたは
混合ガスをイオン化し、これを上記基材上に別途照射し
てなることを特徴とする薄膜型磁気記録媒体の製造方法
。 ２、混合ガスが空気である特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12157184A JPS61926A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12157184A JPS61926A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61926A true JPS61926A (ja) | 1986-01-06 |
| JPH0334619B2 JPH0334619B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=14814527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12157184A Granted JPS61926A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61926A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105331A (ja) * | 1987-04-15 | 1989-04-21 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜形成方法 |
| JPH01223632A (ja) * | 1987-04-16 | 1989-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| US5804258A (en) * | 1996-01-10 | 1998-09-08 | Alusuisse Technology & Management Ltd. | Process and device for coating a substrate surface with vaporized inorganic material |
-
1984
- 1984-06-13 JP JP12157184A patent/JPS61926A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105331A (ja) * | 1987-04-15 | 1989-04-21 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜形成方法 |
| JPH01223632A (ja) * | 1987-04-16 | 1989-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| US5804258A (en) * | 1996-01-10 | 1998-09-08 | Alusuisse Technology & Management Ltd. | Process and device for coating a substrate surface with vaporized inorganic material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334619B2 (ja) | 1991-05-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0093412B1 (en) | Magnetron sputtering apparatusand a method for forming a magnetic thinfilm on the surface of a substrate | |
| US3898952A (en) | Apparatus for production of magnetic recording medium | |
| US4354909A (en) | Process for production of magnetic recording medium | |
| US3929604A (en) | Method for producing magnetic recording medium | |
| US4511594A (en) | System of manufacturing magnetic recording media | |
| EP0122030B1 (en) | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member | |
| US4002546A (en) | Method for producing a magnetic recording medium | |
| JPS61926A (ja) | 鉄系薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| US4990361A (en) | Method for producing magnetic recording medium | |
| JPH033369B2 (ja) | ||
| JPS6124214A (ja) | Ｃｏ−Ｏ系薄膜型垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS5836413B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置 | |
| JPS58199862A (ja) | マグネトロン形スパツタ装置 | |
| EP0190854A2 (en) | Method for producing a perpendicular magnetic recording medium | |
| JPS60231924A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61242321A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63251931A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2883334B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63251930A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60236113A (ja) | 磁気記録材料およびその製造方法 | |
| JPS5987809A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0334621B2 (ja) | ||
| JPH05128515A (ja) | スパツタ薄膜の製造方法 | |
| JPS62298027A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6031013B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |