JPS6190869A - 研磨装置 - Google Patents
研磨装置Info
- Publication number
- JPS6190869A JPS6190869A JP59209765A JP20976584A JPS6190869A JP S6190869 A JPS6190869 A JP S6190869A JP 59209765 A JP59209765 A JP 59209765A JP 20976584 A JP20976584 A JP 20976584A JP S6190869 A JPS6190869 A JP S6190869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- plates
- surface plate
- abrasive cloths
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は1例えば半導体ウェーハなどの両面を同時に研
磨するための研磨装置に関する。
磨するための研磨装置に関する。
一般に1両面研磨装置は一対の上定盤と下定盤とをそな
えていて、相互に接離自在で、かつそれぞれ回転し、対
向した面には研磨布が貼付けられている。そしてこの間
に被加工物を介在させて両面を研磨布で研磨するように
構成されている。このような研磨装置で、加工すると、
被加工物の研磨くずなどが研磨布上に堆積する。特にシ
リコンクエーハをコロイダルシリカ系の研磨剤で両面研
磨する場合、研磨布として不織布タイプのものを用いる
と、不織布の繊維間を研磨剤と研磨ぐずが埋めてしまい
、この状態が進行すると、研磨布の表面は、研磨剤と研
磨ぐずが固まって、目すまりを起し、光沢をおびるに至
る場合もある。このような研磨布によって両面研磨をす
ると1例えば半導体ウェーハなどの場合には形状精度は
大きく低下してしまう。
えていて、相互に接離自在で、かつそれぞれ回転し、対
向した面には研磨布が貼付けられている。そしてこの間
に被加工物を介在させて両面を研磨布で研磨するように
構成されている。このような研磨装置で、加工すると、
被加工物の研磨くずなどが研磨布上に堆積する。特にシ
リコンクエーハをコロイダルシリカ系の研磨剤で両面研
磨する場合、研磨布として不織布タイプのものを用いる
と、不織布の繊維間を研磨剤と研磨ぐずが埋めてしまい
、この状態が進行すると、研磨布の表面は、研磨剤と研
磨ぐずが固まって、目すまりを起し、光沢をおびるに至
る場合もある。このような研磨布によって両面研磨をす
ると1例えば半導体ウェーハなどの場合には形状精度は
大きく低下してしまう。
そこで、研磨布は、しばしばこれを張替える必要がある
。上定盤に研磨布を張付けるときには。
。上定盤に研磨布を張付けるときには。
上定盤を研磨装置から取外し、天地を反対にして別の平
坦な場所に置き、定盤面に接着剤を塗布してから研磨布
をその上に乗せて、研磨布と接着剤の間に空気の入った
隙間などが生じないように張付け、しごいていた。しか
しこの方法では、上定盤を研磨装置から取り外すという
作業があシ、定盤の重量が軽い場合はよいが、最近のよ
うに定盤が大型化して来ると、その重量だけでも100
kli’以上になり、上定盤を取シ外す作業に大きな労
力を要し、しかも危険をともなう不都合があった。また
上定盤を取外さずに、そ6ままの状態で研磨布を張シ付
けようとすると、上定盤装置の研磨布張付は面は下方を
向いているので、非常に不自然姿勢で研磨布を張シ付け
%またその後研磨布をしごか々ければならない。
坦な場所に置き、定盤面に接着剤を塗布してから研磨布
をその上に乗せて、研磨布と接着剤の間に空気の入った
隙間などが生じないように張付け、しごいていた。しか
しこの方法では、上定盤を研磨装置から取り外すという
作業があシ、定盤の重量が軽い場合はよいが、最近のよ
うに定盤が大型化して来ると、その重量だけでも100
kli’以上になり、上定盤を取シ外す作業に大きな労
力を要し、しかも危険をともなう不都合があった。また
上定盤を取外さずに、そ6ままの状態で研磨布を張シ付
けようとすると、上定盤装置の研磨布張付は面は下方を
向いているので、非常に不自然姿勢で研磨布を張シ付け
%またその後研磨布をしごか々ければならない。
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので。
研磨布の交換が容易な研磨装置を提供することを目的と
する。
する。
一対の定盤に研磨布が貼着された保持板を着脱自在に装
着し、遊星運動するキャリヤプレートに保持されたウェ
ーハと上記研磨布により挟着して。
着し、遊星運動するキャリヤプレートに保持されたウェ
ーハと上記研磨布により挟着して。
両面研磨するようにしたものである。
以下1本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
図は、この実施例の研磨装置を示している。との研磨装
置においては1円柱状の太陽歯車(1)と。
置においては1円柱状の太陽歯車(1)と。
この太陽歯車(1)を同軸に囲繞し図示せぬ回転枢動機
構によシ回転自在に設けられた円環状の内歯車(2)と
の間に、これら両者に遊星歯車として歯合して遊星運動
する複数の円板状キャリヤプレート(3)・・・が太陽
歯車(1)のまわりに等配して設けられている。これら
キャリヤプレート(3)・・・には、ウェーハ(4)・
・・を遊挿して保持する円孔をなす保持部(5)・・・
が。
構によシ回転自在に設けられた円環状の内歯車(2)と
の間に、これら両者に遊星歯車として歯合して遊星運動
する複数の円板状キャリヤプレート(3)・・・が太陽
歯車(1)のまわりに等配して設けられている。これら
キャリヤプレート(3)・・・には、ウェーハ(4)・
・・を遊挿して保持する円孔をなす保持部(5)・・・
が。
例えば4個、等配して設けられている。そして。
キャリヤプレート(3)・・・の上下には、鋳鉄製で円
柱状をなす上定盤(6)と下定盤(力とが配設されてい
る。
柱状をなす上定盤(6)と下定盤(力とが配設されてい
る。
これら上、下定盤(6)、(7)の中央部には貫通孔(
8)、(9)が同軸に穿設されている。これら上、下定
盤(6)、(7)の対向面とは反対側の背面には、主軸
(10)、α力が同軸に連結されている。これら主軸(
l■、0υは1図示せぬ回転駆動源に接続され、上、下
定盤(G) 、 (7)を回転駆揃するようになってい
る。そして、下定盤(力の主軸aυには、太陽歯車(1
)が同軸に嵌着され。
8)、(9)が同軸に穿設されている。これら上、下定
盤(6)、(7)の対向面とは反対側の背面には、主軸
(10)、α力が同軸に連結されている。これら主軸(
l■、0υは1図示せぬ回転駆動源に接続され、上、下
定盤(G) 、 (7)を回転駆揃するようになってい
る。そして、下定盤(力の主軸aυには、太陽歯車(1
)が同軸に嵌着され。
下定盤(7)と一体重に回転するようになっている。
また、上定盤(6)の主軸OQは、昇降自在に設けられ
ている。しかして、上、下定盤(6) 、 (7)の対
向面には、同心円をなす複数条の環状溝a鴇・・コ及び
複数条の放射状溝(13)・・・が刻設されている。と
れら環状溝(12・・・及び放射状溝(13・・・は、
上、下定盤(6)、(力及び主軸(IG、(11)に設
けられた吸引孔U、(tSを介して。
ている。しかして、上、下定盤(6) 、 (7)の対
向面には、同心円をなす複数条の環状溝a鴇・・コ及び
複数条の放射状溝(13)・・・が刻設されている。と
れら環状溝(12・・・及び放射状溝(13・・・は、
上、下定盤(6)、(力及び主軸(IG、(11)に設
けられた吸引孔U、(tSを介して。
図示せぬ真空源に接続されている。そして、この真空源
を作動するととくより、上、下定盤(6) 、 (7璽
の対向面には、厚さ5〜1Qxi+でアルミニウム製の
円板状の保持板061.(lηが着脱自在に真空吸着さ
れている。これら保持板(11(17)の真空吸着され
ている面と反対側には、不織布か゛らなる研磨布(tS
)、Hが貼着されている。
を作動するととくより、上、下定盤(6) 、 (7璽
の対向面には、厚さ5〜1Qxi+でアルミニウム製の
円板状の保持板061.(lηが着脱自在に真空吸着さ
れている。これら保持板(11(17)の真空吸着され
ている面と反対側には、不織布か゛らなる研磨布(tS
)、Hが貼着されている。
しかして、上記構成の研磨装置において、ウェーハ(4
)・・・を両面研磨加工する場合、ウェーハ(4)・・
・をキャリヤプレート(3)・・・の保持部r5)・・
・に遊挿させた後、上定盤(6)を下降させ、ウェーハ
(4)・・・を研磨布U、(LSによシ挟着する。しか
して、主軸aO+、(LDを回転させると、キャリヤプ
レート(3)・・・は、太陽歯車(1)の回転にともな
って自転しながら公転し。
)・・・を両面研磨加工する場合、ウェーハ(4)・・
・をキャリヤプレート(3)・・・の保持部r5)・・
・に遊挿させた後、上定盤(6)を下降させ、ウェーハ
(4)・・・を研磨布U、(LSによシ挟着する。しか
して、主軸aO+、(LDを回転させると、キャリヤプ
レート(3)・・・は、太陽歯車(1)の回転にともな
って自転しながら公転し。
ウェーハ(4)・・・は1両生面が同時に研磨加工され
る。
る。
かくして、長期間にわたる研磨加工の結果、研磨布α〜
、α9が、目づ一!シ、損傷等により使用不能となった
ときには、真空源の作動を停止し、保持板αGutηを
上、下定盤(6) 、 (7)より離脱させ、新しい研
磨布α樽、α優が貼着されている別の保持板αe、αカ
を上、下定盤(6) 、 (力に真空吸着させる。
、α9が、目づ一!シ、損傷等により使用不能となった
ときには、真空源の作動を停止し、保持板αGutηを
上、下定盤(6) 、 (7)より離脱させ、新しい研
磨布α樽、α優が貼着されている別の保持板αe、αカ
を上、下定盤(6) 、 (力に真空吸着させる。
かくして、この実施例の研磨装置によれば、研磨布α印
、←9の交換を、迅速、確実かつ簡便に行うことができ
、加工能率の向上に寄与する。ことに。
、←9の交換を、迅速、確実かつ簡便に行うことができ
、加工能率の向上に寄与する。ことに。
研磨布(US、α1の貼着作業を研磨加工から独立して
行える点が、能率向上の主因となっている。
行える点が、能率向上の主因となっている。
なお、上記実施例においては、研磨布α槌、σ1が貼着
された保持板(Le、α力を真空吸着により上、下定盤
(6)、(7)に装着するようにしているが、連結治具
を用いて保持板(16)、α力を着脱自在に装着するよ
うにしてもよい。さらに、保持板αQ、t(ηを真空吸
着する場合、吸着溝を刻設するのでなく、吸引孔を複数
個吸着面に開口させるようにしてもよい。
された保持板(Le、α力を真空吸着により上、下定盤
(6)、(7)に装着するようにしているが、連結治具
を用いて保持板(16)、α力を着脱自在に装着するよ
うにしてもよい。さらに、保持板αQ、t(ηを真空吸
着する場合、吸着溝を刻設するのでなく、吸引孔を複数
個吸着面に開口させるようにしてもよい。
さらに9両面研磨力式としては1図示のものに制約され
ることなく、たとえば、太陽歯車(1)を主軸(11)
からは独立した回転駆動源に接続してもよい。
ることなく、たとえば、太陽歯車(1)を主軸(11)
からは独立した回転駆動源に接続してもよい。
また、上定盤(6)については、下定盤(7)側に同軸
設置され先端に歯車が形成された回転駆動軸に上定盤(
6)を螺挿させることによ)上定盤(6)を回転駆動さ
せるようにしてもよい。
設置され先端に歯車が形成された回転駆動軸に上定盤(
6)を螺挿させることによ)上定盤(6)を回転駆動さ
せるようにしてもよい。
本発明の研磨装置は、研磨布の交換を、迅速。
確実かつ簡便に行うことができ、加工能率の向上に寄与
する。ことに、研磨布の貼着作業を研磨加工から独立し
て行える点が、加工能率向上の主因となる。
する。ことに、研磨布の貼着作業を研磨加工から独立し
て行える点が、加工能率向上の主因となる。
図は本発明の一実施例の縦断正面図である。
(1):太陽歯車、 (2) :内歯車1、(3
):キャリャプレート(搬送板へ。 (4):ウェーハ(被加工物)。 (5):保持部、 (6) :上定盤。 (7):下定盤、 <1e、αη:保持板。 Q8.(11:研磨布。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)
):キャリャプレート(搬送板へ。 (4):ウェーハ(被加工物)。 (5):保持部、 (6) :上定盤。 (7):下定盤、 <1e、αη:保持板。 Q8.(11:研磨布。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)
Claims (1)
- 軸線のまわりに回転駆動される太陽歯車と、この太陽歯
車を同軸に囲繞して設けられた円環状の内歯車と、上記
太陽歯車と上記内歯車とに歯合し上記太陽歯車の回転に
従って自転しながら公転し且つ板状の被加工物を保持す
る貫通孔が穿設された搬送板と、上記搬送板の両主面側
に配設された一対の定盤と、上記被加工物に接触して研
磨する研磨布が固着され上記定盤に着脱自在に装着され
る保持板とを具備することを特徴とする研魔装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59209765A JPS6190869A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59209765A JPS6190869A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 研磨装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6190869A true JPS6190869A (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=16578248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59209765A Pending JPS6190869A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6190869A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5584750A (en) * | 1994-09-07 | 1996-12-17 | Toshiba Machine Co., Ltd. | Polishing machine with detachable surface plate |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP59209765A patent/JPS6190869A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5584750A (en) * | 1994-09-07 | 1996-12-17 | Toshiba Machine Co., Ltd. | Polishing machine with detachable surface plate |
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