JPS618903A - 非晶質合金薄帯の特性および打抜性改善方法 - Google Patents
非晶質合金薄帯の特性および打抜性改善方法Info
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- JPS618903A JPS618903A JP12913884A JP12913884A JPS618903A JP S618903 A JPS618903 A JP S618903A JP 12913884 A JP12913884 A JP 12913884A JP 12913884 A JP12913884 A JP 12913884A JP S618903 A JPS618903 A JP S618903A
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- alloy thin
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- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
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- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
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- H01F1/15383—Applying coatings thereon
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
積みあるいは巻きトランス用の鉄心材料に使用する非晶
質合金薄帯の表面に絶縁被膜を施すことに関してこの明
細書で述べる技術内容は、該被膜による非晶質合金薄帯
の特性改善、またさらには打抜性の改良に関連した開発
成果を提案するところにある。
質合金薄帯の表面に絶縁被膜を施すことに関してこの明
細書で述べる技術内容は、該被膜による非晶質合金薄帯
の特性改善、またさらには打抜性の改良に関連した開発
成果を提案するところにある。
（背景技術）
Ｆｅ −Ｂ系およびＦｅ−Ｂ−８ｉ系などの溶融合金を
１０’〜ｌＯ℃／秒程歴の冷却速度で急冷凝固させると
、無秩序な原子配列をもつ板厚２０〜５０μｍ程度の非
晶質合金薄帯が得られる。
１０’〜ｌＯ℃／秒程歴の冷却速度で急冷凝固させると
、無秩序な原子配列をもつ板厚２０〜５０μｍ程度の非
晶質合金薄帯が得られる。
この非晶質合金薄帯は、軟磁性に優れ、殊に極めて低い
鉄損を有することから、トランスやモーターの鉄心材料
として現在使用されているけい素鋼板の有力な競合材料
として注目されている。
鉄損を有することから、トランスやモーターの鉄心材料
として現在使用されているけい素鋼板の有力な競合材料
として注目されている。
（問題点）
従来このような、非晶質合金薄帯（以下、リボンという
。）は、絶縁被膜を施すことなく棟のままで、巻きコア
を作シ、変圧器に組み上けるのが常であった。その理由
は、適切な絶縁被膜が開発されていなかったためもちる
が、非晶質合金自身の高い比抵抗と、リボンの表面粗度
が大きいため、積層リボン間の層間抵抗が比較的高く、
全損失への渦流損の寄与が小さかったからである。
。）は、絶縁被膜を施すことなく棟のままで、巻きコア
を作シ、変圧器に組み上けるのが常であった。その理由
は、適切な絶縁被膜が開発されていなかったためもちる
が、非晶質合金自身の高い比抵抗と、リボンの表面粗度
が大きいため、積層リボン間の層間抵抗が比較的高く、
全損失への渦流損の寄与が小さかったからである。
ところが、近時非晶質合金リボンの製造技術の進歩に伴
ない、表面が平滑になって占積率が向上するとともに、
眉間抵抗が減少し多層の巻コアを作ると渦流損が増力口
する傾向にある。
ない、表面が平滑になって占積率が向上するとともに、
眉間抵抗が減少し多層の巻コアを作ると渦流損が増力口
する傾向にある。
（類似技術）
特開昭５８−１０９１７１号公報は、加熱による非晶質
合金の脆化を避けるため、電子線硬化性樹脂の使用が提
案されている。しかしながら公知のように、ｒｅ−Ｂ−
ｓｉ、系非晶質合金の磁性を充分に発揮させるには、８
６０℃ないし４００℃で磁場中焼鈍することが必要であ
る０前記有機樹脂では、この焼鈍中に炭化し、所期の目
的である層間抵抗を維持することができない〇 一方従来のけい素鋼板用の絶縁被膜は、焼付に４００℃
以上の加熱を要するので、その単な−る転用はリボンの
脆化、結晶化などをもたらすから非晶質合金のリボンに
対しては、絶縁被膜としてそ（のまま使用することが不
可能でめるＯ（発明の目的） この種のリボンの占積率を低下させることなく、渦流損
、換言すれば全鉄損を減少させることがこの発明の第１
目的である。
合金の脆化を避けるため、電子線硬化性樹脂の使用が提
案されている。しかしながら公知のように、ｒｅ−Ｂ−
ｓｉ、系非晶質合金の磁性を充分に発揮させるには、８
６０℃ないし４００℃で磁場中焼鈍することが必要であ
る０前記有機樹脂では、この焼鈍中に炭化し、所期の目
的である層間抵抗を維持することができない〇 一方従来のけい素鋼板用の絶縁被膜は、焼付に４００℃
以上の加熱を要するので、その単な−る転用はリボンの
脆化、結晶化などをもたらすから非晶質合金のリボンに
対しては、絶縁被膜としてそ（のまま使用することが不
可能でめるＯ（発明の目的） この種のリボンの占積率を低下させることなく、渦流損
、換言すれば全鉄損を減少させることがこの発明の第１
目的である。
さらにまた、上記のリボン特性の改善にあわせ、リボン
の打抜性を改善することがもう一つの発明の目的である
。
の打抜性を改善することがもう一つの発明の目的である
。
（発明の構成）
上記の各目的は、次の事項を骨子とする手順にて有利に
充足される。
充足される。
第１発明；積みあるいは、巻きトランス用の鉄心材料と
して使用する非晶質合金薄帯の表面に、有機還元剤を含
むクロム酸塩系の絶縁被膜を施すことを特徴とする非晶
質合金薄帯の特性改善方法。
して使用する非晶質合金薄帯の表面に、有機還元剤を含
むクロム酸塩系の絶縁被膜を施すことを特徴とする非晶
質合金薄帯の特性改善方法。
第２角明；積みあるいは、巻きトランス用鉄心材料とし
て使用する非晶質合金薄帯の表面に、有機樹脂と、有機
還元剤を含むクロム酸塩系の絶縁被膜を施すことを特徴
とする非晶質合金薄帯の特性、打抜き住改善方法。
て使用する非晶質合金薄帯の表面に、有機樹脂と、有機
還元剤を含むクロム酸塩系の絶縁被膜を施すことを特徴
とする非晶質合金薄帯の特性、打抜き住改善方法。
各発明とも実施に当っては・絶縁被膜の平均膜 １厚
を０．０５ないし０．５μ洛とすること、クロム酸塩系
絶縁被膜の焼付を２００℃ないし４００℃におい゛て、
１０秒ないし１２０秒間に行なうこと、そして非晶質合
金薄帯の化学組成が、”Ｃ７４−８２、Ｂ８−１５ 。
を０．０５ないし０．５μ洛とすること、クロム酸塩系
絶縁被膜の焼付を２００℃ないし４００℃におい゛て、
１０秒ないし１２０秒間に行なうこと、そして非晶質合
金薄帯の化学組成が、”Ｃ７４−８２、Ｂ８−１５ 。
”８−１５． Ｃ０−８であることが好適である。
さて上記の目的の下に、低温でも焼付けが可能なように
クロム酸塩系すなわち重クロム酸マグネシウムや重クロ
ム酸カルシウムなどを基本とし、さらに６価クロムを８
価に還元するための還元剤を多量に添加し、また有機樹
脂の配合を行う。クロム酸塩系絶縁被膜の平均膜厚につ
いては、０．０５μ常未満では層間絶縁を確保し難く、
一方０゜５μｍをこえると層間絶縁の面からはむしろ好
都合であっても、占積率を損なうので好ましくない。
クロム酸塩系すなわち重クロム酸マグネシウムや重クロ
ム酸カルシウムなどを基本とし、さらに６価クロムを８
価に還元するための還元剤を多量に添加し、また有機樹
脂の配合を行う。クロム酸塩系絶縁被膜の平均膜厚につ
いては、０．０５μ常未満では層間絶縁を確保し難く、
一方０゜５μｍをこえると層間絶縁の面からはむしろ好
都合であっても、占積率を損なうので好ましくない。
それというのも非晶質合金のリボン厚が、２０μ常ない
し５０μ常程度に極めて薄いため、非磁性被膜（よる占
積率低下の影響が著しいからである０次にクロム酸塩系
の絶縁被膜は、２００℃ないし４００℃の低温でも焼付
が可能になシ、非晶質合金を脆化させることなく、絶縁
被膜を施すことができる。なお焼付は温度、を４０θ℃
より高くしても被膜特性上は可能であるが、非晶質合金
のリボンが°脆化し易くなるので、４００℃以下に、ま
た２００℃未満では、耐吸湿性などの被膜特性を満足し
難くなることが留意事項である。ｔｒｉ、焼付は時間に
ついても１０秒ないし１２０秒の範囲が被膜特性と脆化
の兼ね合いからのぞましい。
し５０μ常程度に極めて薄いため、非磁性被膜（よる占
積率低下の影響が著しいからである０次にクロム酸塩系
の絶縁被膜は、２００℃ないし４００℃の低温でも焼付
が可能になシ、非晶質合金を脆化させることなく、絶縁
被膜を施すことができる。なお焼付は温度、を４０θ℃
より高くしても被膜特性上は可能であるが、非晶質合金
のリボンが°脆化し易くなるので、４００℃以下に、ま
た２００℃未満では、耐吸湿性などの被膜特性を満足し
難くなることが留意事項である。ｔｒｉ、焼付は時間に
ついても１０秒ないし１２０秒の範囲が被膜特性と脆化
の兼ね合いからのぞましい。
上記絶縁被膜を施す非晶質合金薄帯の化学組成Ｓ Ｃで
については’ ＦｅＢ８−１５． １８．−□、 ０
−８７４−８２ 。
−８７４−８２ 。
示されるものが好ましく、それというのは、一般に面圧
が大きく、高い層間絶縁が要求されるトランス鉄心材料
としては、高磁束密度と低鉄損が要求され、そのために
はＦｅ−Ｂ−３ｉ−Ｃ系殊に前記の組成領域が好ましく
、この領域外では鉄損が劣化したシ、アモルファス形成
能が低下するきらいがある０ さてＦ。Ｂ□。Ｓ１□２組成の合金を溶解し、単ローフ
８ ル法で５６ｎ巾、８０μ常厚の非晶質合金リボンをつく
った〇 次いで第１発明に従い１ 重クロム酸マグネシウム １００重量部エチレングリコ
ール ８０重量部 ′の水溶液をロールコータで非晶質合金リボンに施し８
５０℃で６０秒、間焼付けた〇 塗布量は、平均膜厚が０．１μｍになるよう塗布液の濃
度を調整した。
が大きく、高い層間絶縁が要求されるトランス鉄心材料
としては、高磁束密度と低鉄損が要求され、そのために
はＦｅ−Ｂ−３ｉ−Ｃ系殊に前記の組成領域が好ましく
、この領域外では鉄損が劣化したシ、アモルファス形成
能が低下するきらいがある０ さてＦ。Ｂ□。Ｓ１□２組成の合金を溶解し、単ローフ
８ ル法で５６ｎ巾、８０μ常厚の非晶質合金リボンをつく
った〇 次いで第１発明に従い１ 重クロム酸マグネシウム １００重量部エチレングリコ
ール ８０重量部 ′の水溶液をロールコータで非晶質合金リボンに施し８
５０℃で６０秒、間焼付けた〇 塗布量は、平均膜厚が０．１μｍになるよう塗布液の濃
度を調整した。
無処理リボンの占積率は８１．８チ、被膜付きリボンで
は８１．２ ％であジ、絶縁被膜による占積率の低下は
ほとんど、なく、また、被膜焼付けの加熱によって非晶
質合金リボンの脆化することはなかつｆＣｏ この絶縁被膜を施したリボンを直径６ ｃｎｒのトロイ
ダルコアとして、２００Ａ／ｍのＰＦｊ下で３７０℃１
時間の焼鈍を行ないそのまま冷却したｅこのトロイダル
コアの５０Ｈ２，１，３Ｔでの鉄損Ｗ１８１５０は、０
．ｌｌＷ／ｋｐであり、無処理リボンの０．１５ Ｗ／
に９より優れていた。
は８１．２ ％であジ、絶縁被膜による占積率の低下は
ほとんど、なく、また、被膜焼付けの加熱によって非晶
質合金リボンの脆化することはなかつｆＣｏ この絶縁被膜を施したリボンを直径６ ｃｎｒのトロイ
ダルコアとして、２００Ａ／ｍのＰＦｊ下で３７０℃１
時間の焼鈍を行ないそのまま冷却したｅこのトロイダル
コアの５０Ｈ２，１，３Ｔでの鉄損Ｗ１８１５０は、０
．ｌｌＷ／ｋｐであり、無処理リボンの０．１５ Ｗ／
に９より優れていた。
さらにこの絶縁被膜処理によって、トランス油中に長時
間浸漬した場合に発生した磁性劣化も生Ｊ するこ
となく、耐油性の向上が認められた０次に第２発明にお
いては、上記のクロム酸塩被膜中に、酢酸ビニル樹脂、
アクリル樹脂およびメラミン樹脂などの有機樹脂を含有
させる。
間浸漬した場合に発生した磁性劣化も生Ｊ するこ
となく、耐油性の向上が認められた０次に第２発明にお
いては、上記のクロム酸塩被膜中に、酢酸ビニル樹脂、
アクリル樹脂およびメラミン樹脂などの有機樹脂を含有
させる。
このような有機樹脂の配合によって層間抵抗が増大する
こともあるが、それ以上にリボンの打抜性向上に寄与す
る。
こともあるが、それ以上にリボンの打抜性向上に寄与す
る。
モーターのような電動回転機のローターやステ。
−ターを作るには、エツチング等も可能であるが、工業
的には打抜力ロエが最適でろシ、クリアランスの設定や
金型材質の選択もカエリ高さを小さくする上で打抜性は
重要であるが、被打抜材料側からの改善は、表面潤滑の
向上で対処することができる。この目的のためには、ク
ロム酸塩被膜中に有機樹脂を含有させるのが極めて有効
であることが見出された。打抜性の向上のためには、ク
ロム酸塩１００重量部に対して有機樹脂を２５１量部以
上配合することが必要であり、とくに少くとも０．０５
μｍ以上、好ましくは０゜１μｍ以上の膜厚を有する被
膜を施すことが必要である。配合有機樹脂量を１００重
量部以上にすることも打抜性の面 Ｆからは有利
であるが、過剰の有機樹脂を配合したクロム酸塩系絶縁
被膜は、さきに触れた単味の有機樹脂と同様に、焼鈍に
よって眉間絶縁を損なう欠点がある。これらから有機樹
脂の配合量は２５重量部ないし１００重量部かのぞまし
い。
的には打抜力ロエが最適でろシ、クリアランスの設定や
金型材質の選択もカエリ高さを小さくする上で打抜性は
重要であるが、被打抜材料側からの改善は、表面潤滑の
向上で対処することができる。この目的のためには、ク
ロム酸塩被膜中に有機樹脂を含有させるのが極めて有効
であることが見出された。打抜性の向上のためには、ク
ロム酸塩１００重量部に対して有機樹脂を２５１量部以
上配合することが必要であり、とくに少くとも０．０５
μｍ以上、好ましくは０゜１μｍ以上の膜厚を有する被
膜を施すことが必要である。配合有機樹脂量を１００重
量部以上にすることも打抜性の面 Ｆからは有利
であるが、過剰の有機樹脂を配合したクロム酸塩系絶縁
被膜は、さきに触れた単味の有機樹脂と同様に、焼鈍に
よって眉間絶縁を損なう欠点がある。これらから有機樹
脂の配合量は２５重量部ないし１００重量部かのぞまし
い。
第２発明に従い
重クロム酸マグネシウム １００重量部アクリル樹脂
４０重量部 エチレングリコール ａｏｘｉ部 の水溶液を、ロールコータでＦｅ７Ｂ 、 Ｂ１０ 、
５１１２組成の非晶質合金リボンに施し、８５０℃で６
０秒間焼付けた。
４０重量部 エチレングリコール ａｏｘｉ部 の水溶液を、ロールコータでＦｅ７Ｂ 、 Ｂ１０ 、
５１１２組成の非晶質合金リボンに施し、８５０℃で６
０秒間焼付けた。
塗布量は、平均膜厚が０．２μｍＫ々るよう塗布液の濃
度を調整した。
度を調整した。
無処理リボンの占積率は８１．８％、被膜付きリボンで
は８１．１％、であり、絶縁被膜による占積率の低下は
ほとんどなかった。
は８１．１％、であり、絶縁被膜による占積率の低下は
ほとんどなかった。
この絶縁被膜を施したリボンを直径６ｃＩｎのトロイダ
ルコアとして、２００Ａ／ｍの磁場下で、３７０℃１時
間の焼鈍を行ない、そのまま冷却した。このトロイダル
コアの５０Ｈ２，１，８Ｔでの鉄損Ｗ□８７５゜は０．
１１ Ｗ／助でめシ、無処理リボンの０．１５ Ｗ／ｋ
ｇよシ優れていた。
ルコアとして、２００Ａ／ｍの磁場下で、３７０℃１時
間の焼鈍を行ない、そのまま冷却した。このトロイダル
コアの５０Ｈ２，１，８Ｔでの鉄損Ｗ□８７５゜は０．
１１ Ｗ／助でめシ、無処理リボンの０．１５ Ｗ／ｋ
ｇよシ優れていた。
さらにこの絶縁被膜処理によって、トランス油中に長時
間浸漬した場合に発生した磁性劣化も生ずることなく、
耐油性の向上が認められた０次に無処理リボンでは、５
ＫＤＩ金型にて１．５萬回しか打抜けなかったが、第２
発明による被膜処理リボンでは、５萬回まで打抜くこと
ができた。
間浸漬した場合に発生した磁性劣化も生ずることなく、
耐油性の向上が認められた０次に無処理リボンでは、５
ＫＤＩ金型にて１．５萬回しか打抜けなかったが、第２
発明による被膜処理リボンでは、５萬回まで打抜くこと
ができた。
（実施例〕
実施例 ｌ
巾２菌、板厚２８μｍのＦ、 Ｂ、。Ｓｌ 非晶質
合金リボンに重クロム酸マグネシウム１００重量部、エ
チレングリコール４０重量部を含む水溶液を塗布した後
、８００℃で９０秒間焼付け、０．０５μｍ厚の絶縁被
膜を施した０占積率は８０．８％であり、磁場中焼鈍後
の鉄損Ｗ１８１５０はＯ，１８Ｗ／に９であつ７ｔ。
合金リボンに重クロム酸マグネシウム１００重量部、エ
チレングリコール４０重量部を含む水溶液を塗布した後
、８００℃で９０秒間焼付け、０．０５μｍ厚の絶縁被
膜を施した０占積率は８０．８％であり、磁場中焼鈍後
の鉄損Ｗ１８１５０はＯ，１８Ｗ／に９であつ７ｔ。
なお上記リボンのみの占積率は、８０．８％また”１８
７５０は帆１６ Ｗ ／）Ｃｆ ｆ ６ ツ’ｆｔ 。
７５０は帆１６ Ｗ ／）Ｃｆ ｆ ６ ツ’ｆｔ 。
実施例 ２
絶縁被膜厚を帆２μｍとする他は、実施例１と゛同様に
処理した。占積率は８０．６％であシ、磁場中焼鈍後の
Ｗ１８１５０はｏ、ＩＢＷ／ｋｐであった。
処理した。占積率は８０．６％であシ、磁場中焼鈍後の
Ｗ１８１５０はｏ、ＩＢＷ／ｋｐであった。
実施例 ８
５副巾、８０部１ｍ厚のＦ。７８Ｂ”Ｓ工１４１非晶質
合金リボンに重クロム酸マグネシウム５重量部、重クロ
ム酸カルシウム５０重量部、エチレングリコール８０部
の塗布液を塗り、８５０℃で６０秒間焼付け、ｏ、ｉμ
ｍ厚の絶縁被膜を施した。占積率は８１．３俤であり、
磁場中焼鈍後のＷ はＯ，ｌｌＷ／ｋｌであつた〇 なお上記リボンのみ占積率は８１．８ ％であり” １
８１５゜は０．１５ Ｗ／にりであった０以上は、第１
発明の各実施例であるが、以下第２発明のそれについて
述べる。
合金リボンに重クロム酸マグネシウム５重量部、重クロ
ム酸カルシウム５０重量部、エチレングリコール８０部
の塗布液を塗り、８５０℃で６０秒間焼付け、ｏ、ｉμ
ｍ厚の絶縁被膜を施した。占積率は８１．３俤であり、
磁場中焼鈍後のＷ はＯ，ｌｌＷ／ｋｌであつた〇 なお上記リボンのみ占積率は８１．８ ％であり” １
８１５゜は０．１５ Ｗ／にりであった０以上は、第１
発明の各実施例であるが、以下第２発明のそれについて
述べる。
実施例 ４
実施例１と同じ非晶質合金のリボンに重クロム酸マグネ
シウム１００ Ｍｉ部、酢酸ビニル樹脂２０重量部アク
リル樹脂２０重量部、エチレングリコール８０重量部を
含む水溶液を塗布した後、８００℃で９θ秒間焼付け、
０．１μｍの絶縁被膜を施した〇占積率は８０．８’％
磁賜中焼鈍後の鉄損Ｗ１３１５０は０．１８Ｗ／ＩＱ、
打抜回数は、８．５萬回であつｆＣｏこれに対し上記リ
ボンのみの打抜回数は１．５萬回であったＣ 実施例 ５ 絶縁被膜厚を０．５μｍとする他は、実施例１と同様に
処理した・占積率は８０．１チ、磁場中焼鈍後のＷ
はｏ、ｎｗ／にハ打抜回数は６萬回でろ１．８７５０ つた〇 比較例 １ 絶縁被膜膜厚を１μｍとする他は、実施例会と同様に処
理したところ占積率７８．７チ、Ｗ １８／６０は０．
１５Ｗ／ｋｆに劣化したが打抜目数は８萬回であった０ 比較例 ２ 実施例４において有機樹脂を含まないクロム酸塩系塗布
液を用いたｔ司か、実施例会と同様に処理したところ実
施例１とほぼ同じく占積率はｓｏ、ｓ ンチ、Ｗ
は０．１８ Ｗ／に９であったが打抜回数は２．５
萬回であった。
シウム１００ Ｍｉ部、酢酸ビニル樹脂２０重量部アク
リル樹脂２０重量部、エチレングリコール８０重量部を
含む水溶液を塗布した後、８００℃で９θ秒間焼付け、
０．１μｍの絶縁被膜を施した〇占積率は８０．８’％
磁賜中焼鈍後の鉄損Ｗ１３１５０は０．１８Ｗ／ＩＱ、
打抜回数は、８．５萬回であつｆＣｏこれに対し上記リ
ボンのみの打抜回数は１．５萬回であったＣ 実施例 ５ 絶縁被膜厚を０．５μｍとする他は、実施例１と同様に
処理した・占積率は８０．１チ、磁場中焼鈍後のＷ
はｏ、ｎｗ／にハ打抜回数は６萬回でろ１．８７５０ つた〇 比較例 １ 絶縁被膜膜厚を１μｍとする他は、実施例会と同様に処
理したところ占積率７８．７チ、Ｗ １８／６０は０．
１５Ｗ／ｋｆに劣化したが打抜目数は８萬回であった０ 比較例 ２ 実施例４において有機樹脂を含まないクロム酸塩系塗布
液を用いたｔ司か、実施例会と同様に処理したところ実
施例１とほぼ同じく占積率はｓｏ、ｓ ンチ、Ｗ
は０．１８ Ｗ／に９であったが打抜回数は２．５
萬回であった。
（発明の効果）
以上のようにして、第１発明では非晶質合金リボンの特
性の著しい改善、そして第２発明ではさらに打抜性の改
善が有利に実現される。
性の著しい改善、そして第２発明ではさらに打抜性の改
善が有利に実現される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、積みあるいは巻きトランス用の鉄心材料として、使
用する非晶質合金薄帯の表面に、 有機還元剤を含むクロム酸塩系の絶縁被膜 を施すこと を特徴とする非晶質合金薄帯の特性改善方法。 ２、積みあるいは、巻きトランス用の鉄心材料として使
用する非晶質合金薄帯の表面に、有機樹脂と有機還元剤
を含むクロム酸塩系の絶縁被膜を施すことを特徴とする
、非晶質合金薄帯の特性、打抜き性改善方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12913884A JPS618903A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 非晶質合金薄帯の特性および打抜性改善方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12913884A JPS618903A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 非晶質合金薄帯の特性および打抜性改善方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618903A true JPS618903A (ja) | 1986-01-16 |
| JPH0344406B2 JPH0344406B2 (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=15002054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12913884A Granted JPS618903A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 非晶質合金薄帯の特性および打抜性改善方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618903A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61136660A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-24 | Kawasaki Steel Corp | 鉄損が低くかつ絶縁被膜処理性にすぐれた鉄基非晶質合金 |
| JPS63103098A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Nippon Steel Corp | 非晶質合金材料の表面処理方法 |
| EP0337716A2 (en) * | 1988-04-11 | 1989-10-18 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Magnetic ribbon and magnetic core |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58197803A (ja) * | 1982-05-14 | 1983-11-17 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 非晶質磁性材料の層間絶縁皮膜形成法 |
| JPS5925998A (ja) * | 1982-07-22 | 1984-02-10 | Nippon Steel Corp | 絶縁性、耐食性の優れた磁性アモルフアス合金材料 |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP12913884A patent/JPS618903A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58197803A (ja) * | 1982-05-14 | 1983-11-17 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 非晶質磁性材料の層間絶縁皮膜形成法 |
| JPS5925998A (ja) * | 1982-07-22 | 1984-02-10 | Nippon Steel Corp | 絶縁性、耐食性の優れた磁性アモルフアス合金材料 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61136660A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-24 | Kawasaki Steel Corp | 鉄損が低くかつ絶縁被膜処理性にすぐれた鉄基非晶質合金 |
| JPH0154422B2 (ja) * | 1984-12-05 | 1989-11-17 | Kawasaki Steel Co | |
| JPS63103098A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Nippon Steel Corp | 非晶質合金材料の表面処理方法 |
| JPH0430474B2 (ja) * | 1986-10-20 | 1992-05-21 | ||
| EP0337716A2 (en) * | 1988-04-11 | 1989-10-18 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Magnetic ribbon and magnetic core |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0344406B2 (ja) | 1991-07-05 |
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