JPS6187223A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6187223A JPS6187223A JP20890684A JP20890684A JPS6187223A JP S6187223 A JPS6187223 A JP S6187223A JP 20890684 A JP20890684 A JP 20890684A JP 20890684 A JP20890684 A JP 20890684A JP S6187223 A JPS6187223 A JP S6187223A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
（従来の技術）
従来、磁気記録方式には、長手記録方式と垂直記録方式
とがある。これまでは、磁気記録媒体の移動方向と平行
に、その媒体を磁化し、その長さと強さとで音や映像の
情報を表わす長手記録方式が用いられてきた。ところが
、長手記録には、減磁作用が付随しており、記録密度を
増すためには・磁気記録媒体を薄膜化する必要がある。
とがある。これまでは、磁気記録媒体の移動方向と平行
に、その媒体を磁化し、その長さと強さとで音や映像の
情報を表わす長手記録方式が用いられてきた。ところが
、長手記録には、減磁作用が付随しており、記録密度を
増すためには・磁気記録媒体を薄膜化する必要がある。
しがし、磁気記録媒体の薄ｊ摸化には限度があり、薄膜
化による記録密度の増加には、すでに限界が見え始めて
いる。この記録の高密度化に応じられるものとして、近
年、垂直記録方式が再度注目され、多くの人が同方式に
対する種々の提案を行なっている。
化による記録密度の増加には、すでに限界が見え始めて
いる。この記録の高密度化に応じられるものとして、近
年、垂直記録方式が再度注目され、多くの人が同方式に
対する種々の提案を行なっている。
この垂直記録方式は、磁気記録媒体を媒体面と垂直に磁
化し、記録する方法であり、記録密度を増す上に減磁作
用という原理上の制限はない。そのため同じ長さでも、
長手記録方式より多くの情報が記録でき、鮮明で長持ち
する記録が期待できる。
化し、記録する方法であり、記録密度を増す上に減磁作
用という原理上の制限はない。そのため同じ長さでも、
長手記録方式より多くの情報が記録でき、鮮明で長持ち
する記録が期待できる。
とりわけ、スバ、り法という製法により基体上に形成さ
れた合金膜、例えばＣｏとＣｒとを主成分とするものな
どが、垂直磁気記録媒体として優れている。このスパッ
タ法は、高真空中でアルゴンなどの不活性ガスの放電プ
ラズマで、ターゲット（合金膜原料）から原子をたたき
出し、基体上に合金膜をつくる方法である。このような
スパッタ法には、第２図に示すようなドラムを用いて、
基体上に合金膜を連続的に形成する方法がある。図中、
１０は加熱可能なドラム、１２は基体例えばボリエチレ
ン・テレフタレート （ＰＥＴ）のフィルムである。そ
の基体１２はアンワインダ−１４から送り出され、約半
周に亘ってドラム１０の外周壁と密着した後、ワインダ
ー１６に順次巻き取られて行く。この基体１２とドラム
１０との密着過程で、ターゲット１８より基体１２上に
原料粒子が降り注ぎ、それらの粒子にさらされた基体部
分に合金膜が形成される。第６図は、このようなスパッ
タ法により形成された合金膜のドラム温度（Ｏｃ〕 （
横軸）と保持力（０，）（縦軸）との関係を示す磁化特
性曲線図である。この第６図から明らかなように、磁気
記録媒体たる合金膜の保持力を上げるには、ドラムの温
度を上げて行かねばならない。ドラム１０は、その内部
に入れる温媒による加熱や放電プラズマの発生による輻
射熱などを得て、その温度は上昇する。
れた合金膜、例えばＣｏとＣｒとを主成分とするものな
どが、垂直磁気記録媒体として優れている。このスパッ
タ法は、高真空中でアルゴンなどの不活性ガスの放電プ
ラズマで、ターゲット（合金膜原料）から原子をたたき
出し、基体上に合金膜をつくる方法である。このような
スパッタ法には、第２図に示すようなドラムを用いて、
基体上に合金膜を連続的に形成する方法がある。図中、
１０は加熱可能なドラム、１２は基体例えばボリエチレ
ン・テレフタレート （ＰＥＴ）のフィルムである。そ
の基体１２はアンワインダ−１４から送り出され、約半
周に亘ってドラム１０の外周壁と密着した後、ワインダ
ー１６に順次巻き取られて行く。この基体１２とドラム
１０との密着過程で、ターゲット１８より基体１２上に
原料粒子が降り注ぎ、それらの粒子にさらされた基体部
分に合金膜が形成される。第６図は、このようなスパッ
タ法により形成された合金膜のドラム温度（Ｏｃ〕 （
横軸）と保持力（０，）（縦軸）との関係を示す磁化特
性曲線図である。この第６図から明らかなように、磁気
記録媒体たる合金膜の保持力を上げるには、ドラムの温
度を上げて行かねばならない。ドラム１０は、その内部
に入れる温媒による加熱や放電プラズマの発生による輻
射熱などを得て、その温度は上昇する。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、ドラム温度の上昇には限度がある。基体
１２としてＰＥＴフィルムを用い、その基体部分に付着
する合金膜の保持力を３００ｏｅまで増加させるために
は、ドラム温度を２００°Ｃに保つ必要がある。このよ
うに保持力が増加しない原因として、ドラム１０の熱容
量は大きく、ドラム１０と基体１２とは広い範囲に亘っ
て密着しているために、高温のスバ、り粒子の熱が瞬時
的に基体１２を経てドラム１０に逃げ、保持力を高める
のに必要な結晶化温度にまで至らないからである。そこ
で、保持力を３０００ｅ以上に増加しようとし、ドラム
温度を２００°Ｃ以上に上げると、ＰＫＴフィルムは熱
的変形が決定的となり、溶解してしまう。このため、基
体１２にＰＥＴフィルムを用いて、合金膜の保持力を５
ｏｏｏｅ以上に増加することは困難である。もちろん、
ＰＥＴフィルムなどより耐熱性のあるポリイミド基体を
用いると、ドラム温度を２００°Ｃ以上に上げられるの
で、当然合金膜の保持力を上げることができる。しかし
、ポリイミドは高価で生産ペースに乗っておらず、基体
として多量に使用できる程販売されていないため、多量
生産には使用不可能である。
１２としてＰＥＴフィルムを用い、その基体部分に付着
する合金膜の保持力を３００ｏｅまで増加させるために
は、ドラム温度を２００°Ｃに保つ必要がある。このよ
うに保持力が増加しない原因として、ドラム１０の熱容
量は大きく、ドラム１０と基体１２とは広い範囲に亘っ
て密着しているために、高温のスバ、り粒子の熱が瞬時
的に基体１２を経てドラム１０に逃げ、保持力を高める
のに必要な結晶化温度にまで至らないからである。そこ
で、保持力を３０００ｅ以上に増加しようとし、ドラム
温度を２００°Ｃ以上に上げると、ＰＫＴフィルムは熱
的変形が決定的となり、溶解してしまう。このため、基
体１２にＰＥＴフィルムを用いて、合金膜の保持力を５
ｏｏｏｅ以上に増加することは困難である。もちろん、
ＰＥＴフィルムなどより耐熱性のあるポリイミド基体を
用いると、ドラム温度を２００°Ｃ以上に上げられるの
で、当然合金膜の保持力を上げることができる。しかし
、ポリイミドは高価で生産ペースに乗っておらず、基体
として多量に使用できる程販売されていないため、多量
生産には使用不可能である。
本発明は、このような従来の問題点に着目してなされた
ものであり、基体上に磁気記録媒体たる合金膜を形成す
る際に行なう基体の冷却方法を改善することによって、
ＰＥＴフィルムなど耐熱性が不十分の基体上に、保持力
の高い合金膜を形成し得る磁気記録媒体の製造方法を提
供すること全目的とする。
ものであり、基体上に磁気記録媒体たる合金膜を形成す
る際に行なう基体の冷却方法を改善することによって、
ＰＥＴフィルムなど耐熱性が不十分の基体上に、保持力
の高い合金膜を形成し得る磁気記録媒体の製造方法を提
供すること全目的とする。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成するために、本発明では、基体上に磁気
記録媒体たる合金膜を形成するに際し、その合金膜を形
成する粒子にさらされる基体部分を、その基体部分を冷
却する冷却体に密着させることなく離し、それらの間に
空間を保持させるものである。即ち、合金膜を形成する
粒子にさらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷
却体例えば水冷板間に所要の離隔距離を保持する。
記録媒体たる合金膜を形成するに際し、その合金膜を形
成する粒子にさらされる基体部分を、その基体部分を冷
却する冷却体に密着させることなく離し、それらの間に
空間を保持させるものである。即ち、合金膜を形成する
粒子にさらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷
却体例えば水冷板間に所要の離隔距離を保持する。
（作用）
上記手段は次のように作用する。合金膜を形成する粒子
にさらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷却体
間に熱伝導率の悪い空間が存在するため、高温のスバ、
り粒子が基体に付着しても、その熱が瞬時的に逃げるこ
となく、粒子は保持力の高い合金膜を形成するに必要な
結晶化温度に維持される。なお、ＰＥＴフイ′ルムなど
の基体では、その表面に粒子が付着し、その部分のみ温
度上昇しても、基体の粒子にさらされる部分は全体的に
、冷却体で冷やされ温度制御されているため、基体が熱
的変形を起こし溶解するようなことはない。
にさらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷却体
間に熱伝導率の悪い空間が存在するため、高温のスバ、
り粒子が基体に付着しても、その熱が瞬時的に逃げるこ
となく、粒子は保持力の高い合金膜を形成するに必要な
結晶化温度に維持される。なお、ＰＥＴフイ′ルムなど
の基体では、その表面に粒子が付着し、その部分のみ温
度上昇しても、基体の粒子にさらされる部分は全体的に
、冷却体で冷やされ温度制御されているため、基体が熱
的変形を起こし溶解するようなことはない。
（実施例）
以下、本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の第１実施例を示す説明図である。図
中、２０は基体例えばＰＥＴフィルムである。基体２０
はアンワインダ−２２から送り出され、ワインダー２４
に巻き取られて行く。２６（２６＆、２６ｂ）はいずれ
もガイドローラであり、基体２０の移動過程で、その基
体に張力を与えるものである。３０は冷却体例えば水冷
板であり、張力を与えられた基体２０より一定の距離ｄ
離して設置されている。なお、冷却体用の冷媒には、他
に水以外の液体、気体など種々のものがある。６２はタ
ーゲットであり、基体２０上に合金膜を形成するＣ１ｏ
−Ｏｒ金合金どが備えられている。
中、２０は基体例えばＰＥＴフィルムである。基体２０
はアンワインダ−２２から送り出され、ワインダー２４
に巻き取られて行く。２６（２６＆、２６ｂ）はいずれ
もガイドローラであり、基体２０の移動過程で、その基
体に張力を与えるものである。３０は冷却体例えば水冷
板であり、張力を与えられた基体２０より一定の距離ｄ
離して設置されている。なお、冷却体用の冷媒には、他
に水以外の液体、気体など種々のものがある。６２はタ
ーゲットであり、基体２０上に合金膜を形成するＣ１ｏ
−Ｏｒ金合金どが備えられている。
このようなターゲ、トロ２のＯＯＣｒ 合金に、スパ２
夕放電により発生したアルゴンなどの不活性ガスのイオ
ンが当たると、ｃｏやＯｒの原子（スパッタ粒子）がた
たき出される。これらの粒子は基体２０上に降り注ぎ、
それらの粒子にさらされた基体部分に、順次保持力の高
い合金膜を形成する。このとき、冷却体３０はその基体
部分を全体的に冷却しており、その温度制御には、基体
部分との離隔距離ｄを変えればよい。第４図は、このよ
うにして形成された合金膜の離隔距離ｄ（闘）（横軸）
と保持力（Ｏｅ） （縦軸）との関係を示す磁化特性
曲線図である。この第４図から明らかなように、磁気記
録媒体たる合金膜の保持力を上げるには、離隔距離ｄを
大きくしていけばよいことがわかる。
夕放電により発生したアルゴンなどの不活性ガスのイオ
ンが当たると、ｃｏやＯｒの原子（スパッタ粒子）がた
たき出される。これらの粒子は基体２０上に降り注ぎ、
それらの粒子にさらされた基体部分に、順次保持力の高
い合金膜を形成する。このとき、冷却体３０はその基体
部分を全体的に冷却しており、その温度制御には、基体
部分との離隔距離ｄを変えればよい。第４図は、このよ
うにして形成された合金膜の離隔距離ｄ（闘）（横軸）
と保持力（Ｏｅ） （縦軸）との関係を示す磁化特性
曲線図である。この第４図から明らかなように、磁気記
録媒体たる合金膜の保持力を上げるには、離隔距離ｄを
大きくしていけばよいことがわかる。
ただし、離隔距離ｄが一定以上になると、基体２０を構
成しているＰＥＴフィルムが熱的変形を起こし、ついに
は溶解する。
成しているＰＥＴフィルムが熱的変形を起こし、ついに
は溶解する。
第５図は、本発明の第２実施例図である。図中、６４は
基体、６６はアンワインダー、６８はワイングー、４０
（４０ａ、４０ｂ、４０Ｑ、４０ｄ）はガイ１０−ル
、４２ （４２ａ、４２ｂ）はターゲット、４４ （
４４ａ、４４ｂ）は冷却体、ｄは基体６４と各冷却体４
４との離隔距離である。このようにすると、第１実施例
におけると同様な保持力の高い合金膜を、基体ろ４の両
面に順次形成することができる。
基体、６６はアンワインダー、６８はワイングー、４０
（４０ａ、４０ｂ、４０Ｑ、４０ｄ）はガイ１０−ル
、４２ （４２ａ、４２ｂ）はターゲット、４４ （
４４ａ、４４ｂ）は冷却体、ｄは基体６４と各冷却体４
４との離隔距離である。このようにすると、第１実施例
におけると同様な保持力の高い合金膜を、基体ろ４の両
面に順次形成することができる。
第６図は、本発明の第６実施例図である。図中、４６は
基体、４８はアンワインダー、５０はワイングー、５２
（５２ａ、５２ｂ、５２ｃ、５２ｃＬ）はガイドロー
ル、５４ （５４ａ、５４ｂ）と５６（５６ａ、５６ｂ
）はターゲット、５８（５８＆、５８ｂ）は冷却体、ｄ
は基体４６と各冷却体５８との離隔距離である。各ター
ゲット５４には、例エバＮｉ −Ｆｅ 合金（パーマロ
イ、スーパーマロイなど）を備え、各ターゲット５６に
は、例えばＣｏ −Ｏｒ金合金備えると、基体４６上に
、片面ずつ下地層、その上に記録層を成膜し、その両面
に各々保持力の高い合金膜を形成することができる。
基体、４８はアンワインダー、５０はワイングー、５２
（５２ａ、５２ｂ、５２ｃ、５２ｃＬ）はガイドロー
ル、５４ （５４ａ、５４ｂ）と５６（５６ａ、５６ｂ
）はターゲット、５８（５８＆、５８ｂ）は冷却体、ｄ
は基体４６と各冷却体５８との離隔距離である。各ター
ゲット５４には、例エバＮｉ −Ｆｅ 合金（パーマロ
イ、スーパーマロイなど）を備え、各ターゲット５６に
は、例えばＣｏ −Ｏｒ金合金備えると、基体４６上に
、片面ずつ下地層、その上に記録層を成膜し、その両面
に各々保持力の高い合金膜を形成することができる。
第７図は、本発明の第４実施例図である。第１実施例と
比較して、ターゲットカバー６０、基体カバー６２など
を備えている点のみが異なり、他はすべて第１図と同一
であるため、対応する同一部分には、同一符号を付し、
説明を略す。これらのカバー６０．６２により、粒子に
さらされる基体部分の範囲が制限され、基体２０上によ
り均一な合金膜が順次形成されて行く。なお、当然筒６
、第４の各実施例にも同様なカバーを備えることができ
る。
比較して、ターゲットカバー６０、基体カバー６２など
を備えている点のみが異なり、他はすべて第１図と同一
であるため、対応する同一部分には、同一符号を付し、
説明を略す。これらのカバー６０．６２により、粒子に
さらされる基体部分の範囲が制限され、基体２０上によ
り均一な合金膜が順次形成されて行く。なお、当然筒６
、第４の各実施例にも同様なカバーを備えることができ
る。
（発明の効果）
以上説明した本発明によれば、合金膜を形成する粒子に
さらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷却体間
に所要の離隔距離があるため、ＰＥＴフィルムなど耐熱
性が不十分の基体上にも、保持力の高い合金膜を簡易に
形成することができる。
さらされる基体部分とその基体部分を冷却する冷却体間
に所要の離隔距離があるため、ＰＥＴフィルムなど耐熱
性が不十分の基体上にも、保持力の高い合金膜を簡易に
形成することができる。
第１図は、本発明の第１実施例を示す説明図である。
第２図は、ドラムを用いて、基体上に合金膜を連続的に
形成する従来例を示す説明図である。 第６図は、従来例によって形成された合金膜のドラム温
度と保持力との関係を示す磁化特性曲線図である。 第４図は、第１実施例によって形成された谷金膜の離隔
距離ｄと保持力との関係を示す磁化特性曲線図である。 第５図は、本発明の第２実施例を示す説明図である。 第６図は、本発明の第６実施例を示す説明図である。 ＠７図は、本発明の第４実施例を示す説明図である。 ２０．６４．４６・・・基体 ２２．３６．４８・・・
アンワインダ−２４，３８，５０山ワインダー ２６．
４０．５２・・・ガイドロール ６０．４４．５８ ・
冷却体 ３２．４２．５４．５６・・ ターゲット ６
０．６２・・・カバー ｄ・・・離隔距離
形成する従来例を示す説明図である。 第６図は、従来例によって形成された合金膜のドラム温
度と保持力との関係を示す磁化特性曲線図である。 第４図は、第１実施例によって形成された谷金膜の離隔
距離ｄと保持力との関係を示す磁化特性曲線図である。 第５図は、本発明の第２実施例を示す説明図である。 第６図は、本発明の第６実施例を示す説明図である。 ＠７図は、本発明の第４実施例を示す説明図である。 ２０．６４．４６・・・基体 ２２．３６．４８・・・
アンワインダ−２４，３８，５０山ワインダー ２６．
４０．５２・・・ガイドロール ６０．４４．５８ ・
冷却体 ３２．４２．５４．５６・・ ターゲット ６
０．６２・・・カバー ｄ・・・離隔距離
Claims (1)
- 基体上に磁気記録媒体たる合金膜を形成するに際し、そ
の合金膜を形成する粒子にさらされる基体部分とその基
体部分を冷却する冷却体間に所要の離隔距離を保持する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20890684A JPS6187223A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE19853534907 DE3534907A1 (de) | 1984-10-04 | 1985-09-30 | Verfahren zum herstellen eines magnetaufzeichnungstraegers |
| FR8514586A FR2571534B1 (fr) | 1984-10-04 | 1985-10-02 | Procede de realisation d'un support d'enregistrement magnetique |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20890684A JPS6187223A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187223A true JPS6187223A (ja) | 1986-05-02 |
Family
ID=16564080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20890684A Pending JPS6187223A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6187223A (ja) |
| DE (1) | DE3534907A1 (ja) |
| FR (1) | FR2571534B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63197027A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-15 | Tdk Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105441885B (zh) * | 2015-12-31 | 2018-10-09 | 菏泽天宇科技开发有限责任公司 | 一种真空镀膜冷却装置 |
| CN105441886A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-03-30 | 菏泽天宇科技开发有限责任公司 | 一种泡沫金属的高速真空镀膜设备及工艺 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3210351A1 (de) * | 1982-03-20 | 1983-09-22 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von magnetischen aufzeichnungsschichten |
| JPS59129944A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-26 | Anelva Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
-
1984
- 1984-10-04 JP JP20890684A patent/JPS6187223A/ja active Pending
-
1985
- 1985-09-30 DE DE19853534907 patent/DE3534907A1/de not_active Withdrawn
- 1985-10-02 FR FR8514586A patent/FR2571534B1/fr not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63197027A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-15 | Tdk Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2571534B1 (fr) | 1995-03-03 |
| FR2571534A1 (fr) | 1986-04-11 |
| DE3534907A1 (de) | 1986-04-10 |
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