JPS6185144U - - Google Patents

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JPS6185144U
JPS6185144U JP16995284U JP16995284U JPS6185144U JP S6185144 U JPS6185144 U JP S6185144U JP 16995284 U JP16995284 U JP 16995284U JP 16995284 U JP16995284 U JP 16995284U JP S6185144 U JPS6185144 U JP S6185144U
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JP
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voltage electrode
layers
low
partition plates
parallel plate
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JP16995284U
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例を示すプラズマCVD
処理装置の概略側断面図、第2図は従来の処理装
置の概略側断面図、第3図は改良された従来の多
槽式プラズマCVD処理装置の原理的構成図であ
る。 1…チヤンバー、1A…蓋板、1B…底板、3
…絶縁体、4…導体、5…高圧電極、6…加熱器
を兼ねた低圧電極、7…基板、8…反応ガスの供
給管、9…排気管、10,10A〜C…反応ガス
、11…電源部、12…プラズマ、13…発生領
域からはみ出たプラズマ、31A,31B,31
C…隔壁板、32…支持台、33…案内板、34
…操作部、35…操作棒、36…フツク、37…
ハンドル、38…案内棒、39…ストツパ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 排気管と反応ガスの供給管とを具備したチヤン
    バー内に平板状の高圧電極と加熱器を備えた低圧
    電極とからなる一対の平行平板電極を備え、前記
    低圧電極上に載置された基板上に半導体膜を形成
    させるものにおいて、前記平行平板電極間のプラ
    ズマ発生領域の周囲を包囲可能に形成された複数
    層の隔壁板と、この隔壁板の位置および移動方向
    を規制する案内部と、前記複数層の隔壁板の移動
    をあらかじめ定まる順序に基づいて前記チヤンバ
    ー外部から操作して行えるよう形成された操作部
    とからなる残留物の収集手段を備えたことを特徴
    とするプラズマCVD処理装置。
JP16995284U 1984-11-09 1984-11-09 Pending JPS6185144U (ja)

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