JPS6185144U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6185144U JPS6185144U JP16995284U JP16995284U JPS6185144U JP S6185144 U JPS6185144 U JP S6185144U JP 16995284 U JP16995284 U JP 16995284U JP 16995284 U JP16995284 U JP 16995284U JP S6185144 U JPS6185144 U JP S6185144U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage electrode
- layers
- low
- partition plates
- parallel plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Description
第1図は本考案の実施例を示すプラズマCVD
処理装置の概略側断面図、第2図は従来の処理装
置の概略側断面図、第3図は改良された従来の多
槽式プラズマCVD処理装置の原理的構成図であ
る。 1…チヤンバー、1A…蓋板、1B…底板、3
…絶縁体、4…導体、5…高圧電極、6…加熱器
を兼ねた低圧電極、7…基板、8…反応ガスの供
給管、9…排気管、10,10A〜C…反応ガス
、11…電源部、12…プラズマ、13…発生領
域からはみ出たプラズマ、31A,31B,31
C…隔壁板、32…支持台、33…案内板、34
…操作部、35…操作棒、36…フツク、37…
ハンドル、38…案内棒、39…ストツパ。
処理装置の概略側断面図、第2図は従来の処理装
置の概略側断面図、第3図は改良された従来の多
槽式プラズマCVD処理装置の原理的構成図であ
る。 1…チヤンバー、1A…蓋板、1B…底板、3
…絶縁体、4…導体、5…高圧電極、6…加熱器
を兼ねた低圧電極、7…基板、8…反応ガスの供
給管、9…排気管、10,10A〜C…反応ガス
、11…電源部、12…プラズマ、13…発生領
域からはみ出たプラズマ、31A,31B,31
C…隔壁板、32…支持台、33…案内板、34
…操作部、35…操作棒、36…フツク、37…
ハンドル、38…案内棒、39…ストツパ。
Claims (1)
- 排気管と反応ガスの供給管とを具備したチヤン
バー内に平板状の高圧電極と加熱器を備えた低圧
電極とからなる一対の平行平板電極を備え、前記
低圧電極上に載置された基板上に半導体膜を形成
させるものにおいて、前記平行平板電極間のプラ
ズマ発生領域の周囲を包囲可能に形成された複数
層の隔壁板と、この隔壁板の位置および移動方向
を規制する案内部と、前記複数層の隔壁板の移動
をあらかじめ定まる順序に基づいて前記チヤンバ
ー外部から操作して行えるよう形成された操作部
とからなる残留物の収集手段を備えたことを特徴
とするプラズマCVD処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16995284U JPS6185144U (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16995284U JPS6185144U (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6185144U true JPS6185144U (ja) | 1986-06-04 |
Family
ID=30727663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16995284U Pending JPS6185144U (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6185144U (ja) |
-
1984
- 1984-11-09 JP JP16995284U patent/JPS6185144U/ja active Pending