JPS6179774A - 容器内面のコ−テイング方法 - Google Patents
容器内面のコ−テイング方法Info
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- JPS6179774A JPS6179774A JP20336784A JP20336784A JPS6179774A JP S6179774 A JPS6179774 A JP S6179774A JP 20336784 A JP20336784 A JP 20336784A JP 20336784 A JP20336784 A JP 20336784A JP S6179774 A JPS6179774 A JP S6179774A
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- Japan
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- vessel
- electrode
- container
- film
- wall
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- Pending
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
- C23C16/5093—Coaxial electrodes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は容器内面のコーティング方法に関し、特にリア
クター等の容器の内面に耐摩耗用等の被膜をコーティン
グする方法に係わる。
クター等の容器の内面に耐摩耗用等の被膜をコーティン
グする方法に係わる。
周矧の６ｏ ＜、最近の化学業界では多品種少量生産の
頌同が強まシ、反応容器においてはバッチ反応操作が増
大している。従って、パッチ操作毎に容器内の反応生成
物を完全に収出し、容器内壁面をｆｆ／ ？！＋にして
おくことが要求される。
頌同が強まシ、反応容器においてはバッチ反応操作が増
大している。従って、パッチ操作毎に容器内の反応生成
物を完全に収出し、容器内壁面をｆｆ／ ？！＋にして
おくことが要求される。
しかしながら、従来技術においては、反応生成物を完全
に敞出す際、クレーバー等で内壁を夜るため、容器の内
シが塵耗するという問題が生ずる。
に敞出す際、クレーバー等で内壁を夜るため、容器の内
シが塵耗するという問題が生ずる。
本発明は上記事情にもみてなされたもので、容器内壁の
摩耗を回避するために容器内面に主としてｉｉ′を朦粍
件の被膜を形成する容器内面のコーティング方法を提供
することを目的とする。
摩耗を回避するために容器内面に主としてｉｉ′を朦粍
件の被膜を形成する容器内面のコーティング方法を提供
することを目的とする。
〔Ｊ１題産金解決するための手段〕
本発明は、容器頭部の開口部をブｒして容器内で容器内
面に沿って移シ・可能な％′１極を設け、かつ該電極の
先端からガス流出可能とした状態で容器内を一足圧力に
維持しなから該°電極を介して反応用ガスを供給し、％
極の先端と、容器内環・との間にプラズマを発生させ、
このプラズマにより容器内壁上に被ｇｔを連続的にコー
テイングすることを特徴とし、容器内壁ＯＮ粍？回避す
ることを図ったことを骨子とする。
面に沿って移シ・可能な％′１極を設け、かつ該電極の
先端からガス流出可能とした状態で容器内を一足圧力に
維持しなから該°電極を介して反応用ガスを供給し、％
極の先端と、容器内環・との間にプラズマを発生させ、
このプラズマにより容器内壁上に被ｇｔを連続的にコー
テイングすることを特徴とし、容器内壁ＯＮ粍？回避す
ることを図ったことを骨子とする。
本発明によれば、容器内面に沿って移動可能な！極と容
器との間にプラズマを発生させ、このプラズマにより容
器内壁面上に被膜を連続的にコーティングでき、かかる
被膜により容器内の反応生成物を完全に取出す際、クレ
ーパー等で容器の内壁が厚、粁するのを回避できる。
器との間にプラズマを発生させ、このプラズマにより容
器内壁面上に被膜を連続的にコーティングでき、かかる
被膜により容器内の反応生成物を完全に取出す際、クレ
ーパー等で容器の内壁が厚、粁するのを回避できる。
以下、本発明の一実柿例を第１図及び第２図を参照して
説明する。なお、第２図は第１図の×−Ｘ線に沿う断面
図である。
説明する。なお、第２図は第１図の×−Ｘ線に沿う断面
図である。
図中１は、頭部に開口部２を有する容器である。前記開
口部２には、中央−が開口された電気絶縁体からなる雰
囲気シール用の栓３が設けられている。前言と容器１内
には、前記栓３の中央部から電極棒４が挿入されている
。この電極棒４け高周波電流を導く働きをし、内部には
反応用ガス５が流通するための孔６が開孔されている。
口部２には、中央−が開口された電気絶縁体からなる雰
囲気シール用の栓３が設けられている。前言と容器１内
には、前記栓３の中央部から電極棒４が挿入されている
。この電極棒４け高周波電流を導く働きをし、内部には
反応用ガス５が流通するための孔６が開孔されている。
同電極棒４には、内部に孔を有する水平部の電極７が連
結されている。この水平部の電極７の先端は板状の電極
８になっており、両を極７．８間には板状の電極８と容
器１の内面との間隙を適当に保てるように′Ｍ極縦手９
が設けられている。前記板状ｔ！極８には、反応用ガス
５を噴出するためのガス噴串口１０が設けられている。
結されている。この水平部の電極７の先端は板状の電極
８になっており、両を極７．８間には板状の電極８と容
器１の内面との間隙を適当に保てるように′Ｍ極縦手９
が設けられている。前記板状ｔ！極８には、反応用ガス
５を噴出するためのガス噴串口１０が設けられている。
同析状市極７には、排気ダクト１１が設けられている。
これは、適当なプラズマ１２ｆｔ生成し、均一なｉ＋Ｊ
！Ｆ粁性、耐食性の被Ｉ！！１３を得る目的で未反応ガ
ス（過剰ガス）及び反応生成ガスＣＨＣｌなど）を排気
するために設けられたもので、間隙Ｉ４を介して容器１
の外へ排出される。前Ｂｅ排気ダクト１１にけ、中間ダ
クト１５〜１８が順次連結され、このうち中間ダクト１
８と開口部２の栓３間には電極棒４の上下動を円滑に行
々うための稼動型シール１９が介在されている。前記開
口部２０近くの容器１にけ補助口２０が設けられ、この
補助口２０にけシール枠２１を介して排気管２２が設け
られている。この排気ｖ２２け、コーティング開始前に
容器１内を排気するためのものである。なお、図中の２
３は電極棒４に払・続さｎた高周波電源を、２４け容器
アースを示す。
！Ｆ粁性、耐食性の被Ｉ！！１３を得る目的で未反応ガ
ス（過剰ガス）及び反応生成ガスＣＨＣｌなど）を排気
するために設けられたもので、間隙Ｉ４を介して容器１
の外へ排出される。前Ｂｅ排気ダクト１１にけ、中間ダ
クト１５〜１８が順次連結され、このうち中間ダクト１
８と開口部２の栓３間には電極棒４の上下動を円滑に行
々うための稼動型シール１９が介在されている。前記開
口部２０近くの容器１にけ補助口２０が設けられ、この
補助口２０にけシール枠２１を介して排気管２２が設け
られている。この排気ｖ２２け、コーティング開始前に
容器１内を排気するためのものである。なお、図中の２
３は電極棒４に払・続さｎた高周波電源を、２４け容器
アースを示す。
次に、作用について説明する。
まず、析出被膜の密着性を冷すために容器１の内面を予
め脱脂処理しておく。つづいて、電極棒４を容器１内に
セットした後、゛石極継手９により板状電極８と容器１
の内面との間隙を適度に調斃する。この後、ガス嘔″出
口１０から反応用ガス５を噴出させながら、枡状霜称８
と容器ｌとの間に高周ン反邂源を高周波電源２３と容器
アース２４の作用により負荷する。その結果、板状電極
８と容器１の内壁面との間隙にプラズマ１２が発生し、
このプラズマ１ノの作用により容器１の内壁面上で反応
用ガス５の分解反応が起こり、被膜１３かコーティング
さｊる。ここで（）’ｌｌえば、？ｊ７＋質被膜である
ＴｉＮ をコーティングする捲１合には、反応用ガス
５として’ｒｉｃｌ、、Ｎ、及びＨ２の３種類からなる
混会ガスを使用する。この僚、プラズマ１２の作用によ
り次式（ｉ）の反応が生じ、容器１の内面にＴｉＮが析
出し、被Ｍ１３．が形成される。
め脱脂処理しておく。つづいて、電極棒４を容器１内に
セットした後、゛石極継手９により板状電極８と容器１
の内面との間隙を適度に調斃する。この後、ガス嘔″出
口１０から反応用ガス５を噴出させながら、枡状霜称８
と容器ｌとの間に高周ン反邂源を高周波電源２３と容器
アース２４の作用により負荷する。その結果、板状電極
８と容器１の内壁面との間隙にプラズマ１２が発生し、
このプラズマ１ノの作用により容器１の内壁面上で反応
用ガス５の分解反応が起こり、被膜１３かコーティング
さｊる。ここで（）’ｌｌえば、？ｊ７＋質被膜である
ＴｉＮ をコーティングする捲１合には、反応用ガス
５として’ｒｉｃｌ、、Ｎ、及びＨ２の３種類からなる
混会ガスを使用する。この僚、プラズマ１２の作用によ
り次式（ｉ）の反応が生じ、容器１の内面にＴｉＮが析
出し、被Ｍ１３．が形成される。
ＴｉＣＡ’＋（ｇ） ＋ １／２Ｎｔ（ｇ） ” ２Ｈ
２（ｇ）−＋ Ｔｉｅｓ） ＋ ４ＨＣｌ（ｇ＞ −
・・（１）そして、板状電極８を容器１の上部にセット
した後、矢印Ａの方向に回転させながら、１回転する毎
に矢印Ｂの方向に下降させることにより、容器１の内面
を均一にコーティングすることができる。
２（ｇ）−＋ Ｔｉｅｓ） ＋ ４ＨＣｌ（ｇ＞ −
・・（１）そして、板状電極８を容器１の上部にセット
した後、矢印Ａの方向に回転させながら、１回転する毎
に矢印Ｂの方向に下降させることにより、容器１の内面
を均一にコーティングすることができる。
しかして、本発明によれば、板状電極７全回転、下降！
動させながら、板状電極７と容器１の内壁面との間隙に
プラズマ１２を発生させ、このプラズマ１２の作用によ
り容器１の内壁面上に耐摩耗性、耐食性の被膜１３を確
実でかつ連続的にコーティングできる。従って、容器内
の反応生成物を完全に取出す際、ヌクレーバー等で内壁
を擦っても、被膜Ｊ２の存在によ〕従来の如く内壁に摩
耗が生ずるのを回避できる。
動させながら、板状電極７と容器１の内壁面との間隙に
プラズマ１２を発生させ、このプラズマ１２の作用によ
り容器１の内壁面上に耐摩耗性、耐食性の被膜１３を確
実でかつ連続的にコーティングできる。従って、容器内
の反応生成物を完全に取出す際、ヌクレーバー等で内壁
を擦っても、被膜Ｊ２の存在によ〕従来の如く内壁に摩
耗が生ずるのを回避できる。
なお、上記実施例では、析出被膜の密着性を増すために
容器の内面に予め脱脂処理しておくが、これに限らず、
更に強固にするためには脱脂処理後にＨ，ガスを孔６か
ら流入して板状電極８より噴出させ、プラズマノ２を生
成させて還元処理を行なえばよい。
容器の内面に予め脱脂処理しておくが、これに限らず、
更に強固にするためには脱脂処理後にＨ，ガスを孔６か
ら流入して板状電極８より噴出させ、プラズマノ２を生
成させて還元処理を行なえばよい。
以上詳述した如く本発明によれば、容器内面に主として
耐摩耗性の被膜を研実に形成できる容器内面のコーティ
ング方法を提供できるものである。
耐摩耗性の被膜を研実に形成できる容器内面のコーティ
ング方法を提供できるものである。
第１図は本発明の一実施例に係る容器内面のコーティン
グ方法を説明するための断面図、第２図は第１図の×−
Ｘ線に沿う断面図である。 １・・・容器本体、２・・・開口部、３・・・栓、４・
・・電極棒、５・・・反応用ガス、６・・・孔、７．８
・・・電極、９・・・電極継手、１θ・・・ガス噴出口
、１１・・・排気ダクト、Ｉ２・・・プラズマ、１３・
・・被膜、１５〜１８・・・中間ダクト、１９・・・稼
動型シール、２０・・・補助口、２２・・・排気管。 出願人代代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
グ方法を説明するための断面図、第２図は第１図の×−
Ｘ線に沿う断面図である。 １・・・容器本体、２・・・開口部、３・・・栓、４・
・・電極棒、５・・・反応用ガス、６・・・孔、７．８
・・・電極、９・・・電極継手、１θ・・・ガス噴出口
、１１・・・排気ダクト、Ｉ２・・・プラズマ、１３・
・・被膜、１５〜１８・・・中間ダクト、１９・・・稼
動型シール、２０・・・補助口、２２・・・排気管。 出願人代代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
Claims (1)
- 容器頭部の開口部を介して容器内で容器内面に沿って移
動可能な電極を設け、かつ該電極の先端からガス流出可
能とした状態で容器内を一定圧力に維持しながら該電極
を介して反応用ガスを供給し、電極の先端と容器内壁と
の間にプラズマを発生させ、このプラズマにより容器内
壁面上に被膜を連続的にコーティングすることを特徴と
する容器内面のコーティング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20336784A JPS6179774A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 容器内面のコ−テイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20336784A JPS6179774A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 容器内面のコ−テイング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179774A true JPS6179774A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16472851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20336784A Pending JPS6179774A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 容器内面のコ−テイング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179774A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2607830A1 (fr) * | 1986-12-08 | 1988-06-10 | Univ Limoges | Procede et dispositif pour le depot par vaporisation a l'interieur d'un tube |
| EP0317019A2 (de) * | 1987-11-17 | 1989-05-24 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur glimmentladungsaktivierten reaktiven Abscheidung von Metall aus einer Gasphase |
| WO1998011270A1 (de) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Euromat Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum innenbeschichten metallischer bauteile |
| WO2001041942A3 (fr) * | 1999-12-06 | 2001-12-13 | Cebal | Procede de depôt d'un revêtement sur la paroi de boitiers metalliques |
| WO2004053190A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-24 | Otb Group B.V. | Method and apparatus for treating a substrate |
| WO2006096659A2 (en) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating sections of internal surfaces |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20336784A patent/JPS6179774A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2607830A1 (fr) * | 1986-12-08 | 1988-06-10 | Univ Limoges | Procede et dispositif pour le depot par vaporisation a l'interieur d'un tube |
| EP0317019A2 (de) * | 1987-11-17 | 1989-05-24 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur glimmentladungsaktivierten reaktiven Abscheidung von Metall aus einer Gasphase |
| WO1998011270A1 (de) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Euromat Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum innenbeschichten metallischer bauteile |
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| WO2004053190A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-24 | Otb Group B.V. | Method and apparatus for treating a substrate |
| JP2006509907A (ja) * | 2002-12-12 | 2006-03-23 | オーテーベー、グループ、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基板を処理する方法および装置 |
| US7645495B2 (en) | 2002-12-12 | 2010-01-12 | Otb Solar B.V. | Method and apparatus for treating a substrate |
| WO2006096659A2 (en) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating sections of internal surfaces |
| WO2006096659A3 (en) * | 2005-03-07 | 2007-03-01 | Sub One Technology Inc | Method and system for coating sections of internal surfaces |
| US7608151B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-10-27 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating sections of internal surfaces |
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