JPS617261A - 3−置換−2−オキサゾリジノン化合物の製造法 - Google Patents
3−置換−2−オキサゾリジノン化合物の製造法Info
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- JPS617261A JPS617261A JP12950184A JP12950184A JPS617261A JP S617261 A JPS617261 A JP S617261A JP 12950184 A JP12950184 A JP 12950184A JP 12950184 A JP12950184 A JP 12950184A JP S617261 A JPS617261 A JP S617261A
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- acid
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度3−置換−2−オキサゾリジノン化合物
の製造法に関するものである。
の製造法に関するものである。
3−置換−2−オキサゾリジノン化合物は高分子材料、
医薬、農薬などの原料中間体として最近注目される有用
な物質であり、その製造法としてたとえばアミノアルコ
ールにアルカリ金属化合物触媒存在下非環状カーボネー
トを反応せしめるホーマイヤ法(米国特許第2,487
,888号、第2,487゜389号、および第2,4
87,890号各明細書)が従来から知られている。
医薬、農薬などの原料中間体として最近注目される有用
な物質であり、その製造法としてたとえばアミノアルコ
ールにアルカリ金属化合物触媒存在下非環状カーボネー
トを反応せしめるホーマイヤ法(米国特許第2,487
,888号、第2,487゜389号、および第2,4
87,890号各明細書)が従来から知られている。
この改良法として本出願人は、先に2−オキサゾリジノ
ン化合物の製造法(アミノアルコールと環状カーボネー
トとを反応させる)について特許出願した(特願昭58
−96584号明細書)。
ン化合物の製造法(アミノアルコールと環状カーボネー
トとを反応させる)について特許出願した(特願昭58
−96584号明細書)。
しかしアミノアルコールと環状カーボネートを反応させ
2−オキサゾリジノン化合物を製造する場合・反応生成
物中に副生アルキレングリコール以外に未反応アミノア
ルコール)未反応環状カーボネート、副生ジヒドロキシ
アミン、副生ジアルキレングリコール、副生トリアルキ
レングリコールその他の不純物を含むため精密蒸留など
によって分別する必要がある。しかしながら精密蒸留で
は分別を充分におこなうことは大変難かしく高純度3−
置換−2−オキサゾリジノン化合物を得ることは不可能
である。
2−オキサゾリジノン化合物を製造する場合・反応生成
物中に副生アルキレングリコール以外に未反応アミノア
ルコール)未反応環状カーボネート、副生ジヒドロキシ
アミン、副生ジアルキレングリコール、副生トリアルキ
レングリコールその他の不純物を含むため精密蒸留など
によって分別する必要がある。しかしながら精密蒸留で
は分別を充分におこなうことは大変難かしく高純度3−
置換−2−オキサゾリジノン化合物を得ることは不可能
である。
本発明者らは高純度の8−1換−2−オキサゾリジノン
化合物の製造法について究した結果本発明に至った。
化合物の製造法について究した結果本発明に至った。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は一般式
(式中、R+ 、R2、R8及びR4はたがいに同−又
は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基またはアリール基であるか、あるいはその中のい
ずれか2個が連結してアルキレン基を形成していてもよ
い。R5はアルキル基、シクロアルキル基またはアラル
キル基である。)で表わされる粗製3−置換−2−オキ
サゾリジノン化合物に無機酸および/または有機酸を加
えてPHを2.0〜60に調整し、蒸留することを特徴
とする高純度3−一置換−2−オキサゾリジノン化合物
の製造法である。
は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基またはアリール基であるか、あるいはその中のい
ずれか2個が連結してアルキレン基を形成していてもよ
い。R5はアルキル基、シクロアルキル基またはアラル
キル基である。)で表わされる粗製3−置換−2−オキ
サゾリジノン化合物に無機酸および/または有機酸を加
えてPHを2.0〜60に調整し、蒸留することを特徴
とする高純度3−一置換−2−オキサゾリジノン化合物
の製造法である。
一般式(1)lζおいて、R+ 、R2、R8及びR4
のアルキル基としては炭素数1〜10の直針1または分
岐のアルキル基たとえばメチル基、エチル基、ノルマル
プロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基などが
あげられる。シクロアルキル基としてはシクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基などがあげられる。アリー
ル基としてはフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基などがあげられる。
のアルキル基としては炭素数1〜10の直針1または分
岐のアルキル基たとえばメチル基、エチル基、ノルマル
プロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基などが
あげられる。シクロアルキル基としてはシクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基などがあげられる。アリー
ル基としてはフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基などがあげられる。
R,+ 、R,2、Ra及びR4はその中のいずれか2
個(たとえばR1とR2,R1とR3,RsとR4)が
連結して炭素数8〜6のアルキレン基を形成していても
よい。
個(たとえばR1とR2,R1とR3,RsとR4)が
連結して炭素数8〜6のアルキレン基を形成していても
よい。
R5のアルキル基としては炭素数1〜10の直鎖または
分岐のアルキル基たとえばメチル基、エチル基、ノルマ
ルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基など
があげられる。シクロアルキル基としてはシクロヘキシ
ル基、メチルシクロヘキシル基などがあげられる。アラ
ルキル基としてはベンジル基があげられる。
分岐のアルキル基たとえばメチル基、エチル基、ノルマ
ルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基など
があげられる。シクロアルキル基としてはシクロヘキシ
ル基、メチルシクロヘキシル基などがあげられる。アラ
ルキル基としてはベンジル基があげられる。
一般式(1)で表わされる3−置換−2−オキサゾリゾ
ノン化合物としては3−アルキル−2−オキサゾリジノ
ン(3−メチル−2−オキサシリシノー’ 、8.4−
ジメチル−2−オキサゾリジノン、3゜5−ジメチル−
2−オキサゾリジノン、3−エチJl/−2−オキサゾ
リジノン、3−エチル−4−メチル−2−オキサゾリジ
ノン、3−ブチル−2−オキサゾリジノン、8−ブチル
−5−メチル−2−オキサゾリジノン、3−ブチル−5
−エチル−2−オキサゾリジノンなど)、3−シクロア
ルキル−2−オキサゾリジノン(3−シクロへキシル−
2−オキサゾリジノン、8〜シクロへキシル−4−メチ
ル−2−オキサゾリジノンなど)、3−アラルキル−2
−オキサゾリジノン(3−ベンジル−2−オキサゾリジ
ノン、3−ベンジル−5−メチル−2−オキサゾリジノ
ンなど)があげられる。
ノン化合物としては3−アルキル−2−オキサゾリジノ
ン(3−メチル−2−オキサシリシノー’ 、8.4−
ジメチル−2−オキサゾリジノン、3゜5−ジメチル−
2−オキサゾリジノン、3−エチJl/−2−オキサゾ
リジノン、3−エチル−4−メチル−2−オキサゾリジ
ノン、3−ブチル−2−オキサゾリジノン、8−ブチル
−5−メチル−2−オキサゾリジノン、3−ブチル−5
−エチル−2−オキサゾリジノンなど)、3−シクロア
ルキル−2−オキサゾリジノン(3−シクロへキシル−
2−オキサゾリジノン、8〜シクロへキシル−4−メチ
ル−2−オキサゾリジノンなど)、3−アラルキル−2
−オキサゾリジノン(3−ベンジル−2−オキサゾリジ
ノン、3−ベンジル−5−メチル−2−オキサゾリジノ
ンなど)があげられる。
粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物は一般式
(式中、RI 、R,2、Ra 、R−4及びR5は一
般式(1)と同じ意味をもつ)で表オつされるアミノア
ルコールと環状カーボネートとの反応生成物から副生ア
ルキレングリコールをほぼ留去した後の反応混合物を表
わす。
般式(1)と同じ意味をもつ)で表オつされるアミノア
ルコールと環状カーボネートとの反応生成物から副生ア
ルキレングリコールをほぼ留去した後の反応混合物を表
わす。
一般式(2)で表わされるアミノアルコールとしては2
−N−メチルアミノエタノール、2−N−エチルアミノ
エタノール、1−N−メチルアミノ−2−プロパツール
、2−N−メチルアミノプロパツール、■−N−メチル
アミノー2−ブタノール、2−N−メチルアミノブタノ
ール、2−N−ベンジルアミノエタノール、2−N−シ
クロへキシルアミノエタノール、2−N−シクロヘキシ
ルアミツブロバノール、2−N−メチルアミノシクロヘ
キサノール、などがあげられる。
−N−メチルアミノエタノール、2−N−エチルアミノ
エタノール、1−N−メチルアミノ−2−プロパツール
、2−N−メチルアミノプロパツール、■−N−メチル
アミノー2−ブタノール、2−N−メチルアミノブタノ
ール、2−N−ベンジルアミノエタノール、2−N−シ
クロへキシルアミノエタノール、2−N−シクロヘキシ
ルアミツブロバノール、2−N−メチルアミノシクロヘ
キサノール、などがあげられる。
環状カーボネートは原料の入手のし易さからエチレンカ
ーボネート、プロピレンカーボネートが好ましい。
ーボネート、プロピレンカーボネートが好ましい。
アミノアルコールと環状カーボネートの反応生成物を製
造するに際し、アミノアルコールノ使用量は環状カーボ
ネートに対しモル比で通常0.9〜1.3、好ましくは
1.0〜1.1である。
造するに際し、アミノアルコールノ使用量は環状カーボ
ネートに対しモル比で通常0.9〜1.3、好ましくは
1.0〜1.1である。
アミノアルコール及び環状カーボネートの添加順序は特
に制限はなく、アミノアルコール中に環状カーボネート
を添加してもよいし、環状カーボネート中にアミノアル
コールを添加してもよいし、一括添加でもよい。反応に
際しては触媒はとくに必要でない。
に制限はなく、アミノアルコール中に環状カーボネート
を添加してもよいし、環状カーボネート中にアミノアル
コールを添加してもよいし、一括添加でもよい。反応に
際しては触媒はとくに必要でない。
反応温度は通常室温から250℃、好ましくは120〜
180℃である。低温では反応速度が低下し250℃よ
りたがいと副反応の危険がある。反応時間は通常0.5
〜10 時間、好ましくは2〜5時間である。
180℃である。低温では反応速度が低下し250℃よ
りたがいと副反応の危険がある。反応時間は通常0.5
〜10 時間、好ましくは2〜5時間である。
反応は加圧下、常圧下、減圧下またはそれらの組合せの
いずれでも実施できる。また反応に関与しない溶剤など
の共存下でも実施できるが、工業的には溶剤等を使用し
ないのが経済的である。
いずれでも実施できる。また反応に関与しない溶剤など
の共存下でも実施できるが、工業的には溶剤等を使用し
ないのが経済的である。
反応終点はガスクロマトグラフィーでチェックすること
ができる。
ができる。
この反応生成物には目的物である8−置換−2−オキサ
ゾリジノン化合物、副生アルキレングリコール(エチレ
ングリコール、プロピレングリコールなど)、未反応ア
ミノアルコール、未反応環状カー、t”ネート、副生ジ
ヒドロキシアミン、副生ジアルキレングリコール、(ジ
エチレングリコール、ジプロピレングリコールなど)、
副生トリアルキレングリコール(トリエチレングリコー
ル、トリプロピレングリコールなど)、およびその他の
不純物が含まれる。
ゾリジノン化合物、副生アルキレングリコール(エチレ
ングリコール、プロピレングリコールなど)、未反応ア
ミノアルコール、未反応環状カー、t”ネート、副生ジ
ヒドロキシアミン、副生ジアルキレングリコール、(ジ
エチレングリコール、ジプロピレングリコールなど)、
副生トリアルキレングリコール(トリエチレングリコー
ル、トリプロピレングリコールなど)、およびその他の
不純物が含まれる。
反応生成物中の各成分の量は、たとえば目的物が3−メ
チル−2−オキサゾリジノンである場合、通常8−メチ
ル−2−オキサゾリジノン 56−62重量%、副
生アルキレングリコール85−88重量%、その他の成
分(副生ジヒドロキシアミン、未反応アミノアルコール
、未反応環状カーボネート、副生ジアルキレングリコー
ル、副生トリアルキレングリコールおよびその他の不純
物)0.5〜5重量%である。
チル−2−オキサゾリジノンである場合、通常8−メチ
ル−2−オキサゾリジノン 56−62重量%、副
生アルキレングリコール85−88重量%、その他の成
分(副生ジヒドロキシアミン、未反応アミノアルコール
、未反応環状カーボネート、副生ジアルキレングリコー
ル、副生トリアルキレングリコールおよびその他の不純
物)0.5〜5重量%である。
反応生成物から副生アルキレングリコールをほぼ留去(
減圧蒸留などによって除去)することによって粗製3−
置換−2−オキサゾリジノン化合物が得られる。
減圧蒸留などによって除去)することによって粗製3−
置換−2−オキサゾリジノン化合物が得られる。
粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物中の各成分
の量は、たとえば目的物が3−メチル−2−オキサゾリ
ジノンである場合、通常3−メチル−2−オキサゾリジ
ノン92−99重量%、残存副生グリコール0.5−8
重量%、その他の成分(副生ジヒドロキシアミン、未反
応アミノアルコール、未反応環状カーボネート、副生ジ
アルキレングリコール、副生トリアルキレンゲリコール
およびその他の不純物)0.5−5重量%である。
の量は、たとえば目的物が3−メチル−2−オキサゾリ
ジノンである場合、通常3−メチル−2−オキサゾリジ
ノン92−99重量%、残存副生グリコール0.5−8
重量%、その他の成分(副生ジヒドロキシアミン、未反
応アミノアルコール、未反応環状カーボネート、副生ジ
アルキレングリコール、副生トリアルキレンゲリコール
およびその他の不純物)0.5−5重量%である。
粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物を該化合物
に無機酸および/または有機酸を加えるに際し、加える
無機酸および/または有機酸としては粗製化合物に1重
量%以上溶解しうるものがあげられる。具体的に無機酸
としてはリン酸、ポリリン酸、無水リン酸、硫酸、ホウ
酸および塩酸などがあげられる。
に無機酸および/または有機酸を加えるに際し、加える
無機酸および/または有機酸としては粗製化合物に1重
量%以上溶解しうるものがあげられる。具体的に無機酸
としてはリン酸、ポリリン酸、無水リン酸、硫酸、ホウ
酸および塩酸などがあげられる。
有機酸としてはカルボン酸またはその無水物(ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マ
イレン酸、フマル酸などの脂肪1Mカルボン酸、安息香
酸、フタル酸、フェニル酢酸などの芳香族カルボン酸、
無水酢酸、無水マレイン酸および無水フタル酸などのカ
ルボン酸無水物)およびスルホン酸(P−)ルエンスル
ホン酸など)があげられる。
酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マ
イレン酸、フマル酸などの脂肪1Mカルボン酸、安息香
酸、フタル酸、フェニル酢酸などの芳香族カルボン酸、
無水酢酸、無水マレイン酸および無水フタル酸などのカ
ルボン酸無水物)およびスルホン酸(P−)ルエンスル
ホン酸など)があげられる。
無機酸および有機酸は併用してもよい。
これらの中で好ましいものは、リン酸、硫酸、p−トル
エンスルホン酸および無水フタル酸テする。特に好まし
いものはリン酸及び硫酸である。
エンスルホン酸および無水フタル酸テする。特に好まし
いものはリン酸及び硫酸である。
粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物に1重量%
以上溶解しうる酸類を用いることにより効率的かつ経済
的に不純物を除去することが出来る。
以上溶解しうる酸類を用いることにより効率的かつ経済
的に不純物を除去することが出来る。
酸の使用量は粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合
物のPHが通常2.0〜60 好ましくは3.5〜4
5になるような量である。
物のPHが通常2.0〜60 好ましくは3.5〜4
5になるような量である。
PHを20未満にすると蒸留時に3−置換−2−オキサ
ゾリジノン化合物が分解したタール状物が多量性成し収
率を低下させる。PHを6.0 より大きくすると高
純度3−置換−2−オキサゾリジノン化合物を得ること
が困難である。
ゾリジノン化合物が分解したタール状物が多量性成し収
率を低下させる。PHを6.0 より大きくすると高
純度3−置換−2−オキサゾリジノン化合物を得ること
が困難である。
酸を加えた粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物
を濾過助剤を用いて濾過した後蒸留することも可能であ
るが、酸を加えた粗製3−置換−2−オキサゾリジノン
化合物をそのまま蒸留するのが工業的には有利である。
を濾過助剤を用いて濾過した後蒸留することも可能であ
るが、酸を加えた粗製3−置換−2−オキサゾリジノン
化合物をそのまま蒸留するのが工業的には有利である。
以下実施例により本発明をさらに説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例1
2−N−メチルアミノエタノール2259(3,0モル
)とエチレンカーボネート264y−(8,0モル)を
170℃で2時間反応させ、得られた反応生成物を減圧
蒸留し、副生エチレングリコールを除去した。
)とエチレンカーボネート264y−(8,0モル)を
170℃で2時間反応させ、得られた反応生成物を減圧
蒸留し、副生エチレングリコールを除去した。
得られた粗製3−メチル−2−オキサゾリジノン800
v中の不純物量は2.5重量%であった。
v中の不純物量は2.5重量%であった。
粗製8−メチル−2−オキサゾリジノン100yに硫酸
]、、Iy−を加えPHを40 とした。攪拌下50
℃で1時間接触させたのちそのまま減圧蒸留することに
より沸点785℃10.8MHL! で3−メチル−2
−オキサゾリジノン95gを得た。
]、、Iy−を加えPHを40 とした。攪拌下50
℃で1時間接触させたのちそのまま減圧蒸留することに
より沸点785℃10.8MHL! で3−メチル−2
−オキサゾリジノン95gを得た。
この3−メチル−2−オキサゾリジノン中の不純物量は
20ppm であった。
20ppm であった。
比較のため粗製3−メチル−2−オキサゾリジノン10
07に硫酸3グを加え攪拌下50℃で1時間接触させた
。この時PHは12であった。接触後、そのまま減圧蒸
留することにより沸点785℃10108rr起3−メ
チル−2−オキサゾリジノン1?5y−を得tこ。
07に硫酸3グを加え攪拌下50℃で1時間接触させた
。この時PHは12であった。接触後、そのまま減圧蒸
留することにより沸点785℃10108rr起3−メ
チル−2−オキサゾリジノン1?5y−を得tこ。
この3−メチル−2−オキサゾリジノン中の不純物量は
1zθ叩pmであった。
1zθ叩pmであった。
実施例2
実施例1と同様にして得られた粗製3−メチル−2−オ
キサゾリジノン100y−にリン酸24yを加えI)H
を3.8 とした。
キサゾリジノン100y−にリン酸24yを加えI)H
を3.8 とした。
十浅拌下80℃で30分間接触させたのちそのまま減圧
蒸留することにより沸点785℃10.8mmH7で3
−メチル−2−オキサゾリジノン98y−を得た。
蒸留することにより沸点785℃10.8mmH7で3
−メチル−2−オキサゾリジノン98y−を得た。
この3−メチル−2−オキサゾリジノン中の不純物量は
40ppm であった。
40ppm であった。
比較のため粗製3−メチル−2−オキサゾリジノン10
0!i’にリン酸1.52を加え攪拌下80℃で30分
間接触させた。この時PHは7.5 であった。接触後
、そのまま減圧蒸留することにより沸点78.5’(7
0,smmHグで3−メチル−2−オキサゾリジノン9
5Pを得た。
0!i’にリン酸1.52を加え攪拌下80℃で30分
間接触させた。この時PHは7.5 であった。接触後
、そのまま減圧蒸留することにより沸点78.5’(7
0,smmHグで3−メチル−2−オキサゾリジノン9
5Pを得た。
この8−メチル−2−オキサゾリジノン中の不純物量は
200ppmであった。
200ppmであった。
本発明は粗製3−置換−2−オキサゾリジノン化合物を
無機酸および/または有機酸と接触させることにより不
純物である残存副生アルキレングリコール、副生ジヒド
ロキシアミン、未反応アミノアルコール、未反応環状カ
ーボネート、副生ジアルキレングリコール、副生トリア
ルキレングリコールおよびその他の不純物をより高沸点
化合物に変換させ1.簡単な蒸留で容易に不純物濃度を
ppmオーダーまで低減させた高純度3−置換−2−オ
キサゾリジノン化合物を製造することができ、すなわち
非常に簡単な方法でかつ経済的に高純度3−置換−2−
オキサゾリジノン化合物を製造することができるという
効果を奏する。
無機酸および/または有機酸と接触させることにより不
純物である残存副生アルキレングリコール、副生ジヒド
ロキシアミン、未反応アミノアルコール、未反応環状カ
ーボネート、副生ジアルキレングリコール、副生トリア
ルキレングリコールおよびその他の不純物をより高沸点
化合物に変換させ1.簡単な蒸留で容易に不純物濃度を
ppmオーダーまで低減させた高純度3−置換−2−オ
キサゾリジノン化合物を製造することができ、すなわち
非常に簡単な方法でかつ経済的に高純度3−置換−2−
オキサゾリジノン化合物を製造することができるという
効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4はたがいに
同一又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、シク
ロアルキル基またはアリール基であるか、あるいはその
中のいずれか2個が連結してアルキレン基を形成してい
てもよい。R_5はアルキル基、シクロアルキル基また
はアラルキル基である。)で表わされる粗製3−置換−
2−オキサゾリジノン化合物に無機酸および/または有
機酸を加えてPHを2.0〜6.0に調整し、蒸留する
ことを特徴とする高純度3−置換−2−2オキサゾリジ
ノン化合物の製造法。 2、粗製3置換−2−オキサゾリジノン化合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4及びR_5は
一般式(1)と同じ意味をもつ)で表わされるアミノア
ルコールと環状カーボネートとの反応生成物から副生ア
ルキレングリコールをほぼ留去した後の反応混合物であ
る特許請求の範囲第1項記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12950184A JPS617261A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 3−置換−2−オキサゾリジノン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12950184A JPS617261A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 3−置換−2−オキサゾリジノン化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS617261A true JPS617261A (ja) | 1986-01-13 |
Family
ID=15011040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12950184A Pending JPS617261A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 3−置換−2−オキサゾリジノン化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS617261A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010013399A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Nippon Nyukazai Kk | 2−オキサゾリジノン化合物の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12950184A patent/JPS617261A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010013399A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Nippon Nyukazai Kk | 2−オキサゾリジノン化合物の製造方法 |
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