JPS6166869A - Rf型イオン・エンジン - Google Patents
Rf型イオン・エンジンInfo
- Publication number
- JPS6166869A JPS6166869A JP18882784A JP18882784A JPS6166869A JP S6166869 A JPS6166869 A JP S6166869A JP 18882784 A JP18882784 A JP 18882784A JP 18882784 A JP18882784 A JP 18882784A JP S6166869 A JPS6166869 A JP S6166869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge vessel
- plasma
- discharge
- engine
- better
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F03—MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS; WIND, SPRING, OR WEIGHT MOTORS; PRODUCING MECHANICAL POWER OR A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F03H—PRODUCING A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F03H1/00—Using plasma to produce a reactive propulsive thrust
- F03H1/0037—Electrostatic ion thrusters
- F03H1/0056—Electrostatic ion thrusters with an acceleration grid and an applied magnetic field
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/16—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
- H01J27/18—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明は人工衛屋の姿勢制御に好適なRF型ベイオン
エンジンに関する。
エンジンに関する。
従来t:r) RF (Radiofrequency
)型イオン・エンジンの構成を第3図に示す。ガス導
入系5から放電容器1内に導入されたHgガスにインダ
クシヨンコイル6によって加速された電子が衝突して電
離プラズマを放を室8内に生成し、Hg+イオンが電極
2,3.4で構成される加速電極によって運動エネルギ
を与えられ、中和器7から放出される電子によって電気
的に中和化された後放出されてイオン・エンジンの推力
となる。効率の良い推力を得るためには、電極2の表面
でのプラズマの一様性が満たされる必要性がある。プラ
ズマの一様性を満たすためKは、放電室8内のガス圧と
して】×10”−’ Torr以上必要であるが、実際
には5 X I Q−’Torr程度にしか上げること
が出来ず電柵中心部でのプラズマ密度が周辺部より低く
な抄、推進効率を下げるという問題がある。
)型イオン・エンジンの構成を第3図に示す。ガス導
入系5から放電容器1内に導入されたHgガスにインダ
クシヨンコイル6によって加速された電子が衝突して電
離プラズマを放を室8内に生成し、Hg+イオンが電極
2,3.4で構成される加速電極によって運動エネルギ
を与えられ、中和器7から放出される電子によって電気
的に中和化された後放出されてイオン・エンジンの推力
となる。効率の良い推力を得るためには、電極2の表面
でのプラズマの一様性が満たされる必要性がある。プラ
ズマの一様性を満たすためKは、放電室8内のガス圧と
して】×10”−’ Torr以上必要であるが、実際
には5 X I Q−’Torr程度にしか上げること
が出来ず電柵中心部でのプラズマ密度が周辺部より低く
な抄、推進効率を下げるという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、電極
表面でのプラズマの一様性を改善して推進効率の良いF
LF型イオン・エンジンを提供することを目的とする。
表面でのプラズマの一様性を改善して推進効率の良いF
LF型イオン・エンジンを提供することを目的とする。
本発明は放電容器1を複数本の磁気カスプ現状線で覆っ
てプラズマの磁気閉じ込めを行ない、放電基8壁面での
プラズマ損失を減少させると伴にf!栂同周辺部プラズ
マを中心部に適当に集めてブラズマの一様性を改善する
ことを特徴とするRF型イオン・エンジンである。
てプラズマの磁気閉じ込めを行ない、放電基8壁面での
プラズマ損失を減少させると伴にf!栂同周辺部プラズ
マを中心部に適当に集めてブラズマの一様性を改善する
ことを特徴とするRF型イオン・エンジンである。
本発明によれば、簡単な構成で電極部でのプラズマの一
様性を改善でき推進効率の良いRFfiイオン・エンジ
ンを構成できる。
様性を改善でき推進効率の良いRFfiイオン・エンジ
ンを構成できる。
以下本発明の実施例を詳細に説明する。なお従来装置と
その構成が同一の部分については同一符号を附けてその
説明を省略する。第1図に示すように放電容器1の壁に
1N極と8極が交互になるように磁石を固定し、磁力線
の大部分が閉じて放′vt室8の壁面近傍以外に磁場が
存在しないように放電容器1の一部又は全てを複数本の
磁気カスプ環状線で穣う、。磁力線の様子は放電室8内
のみ示し外側については省略している。放電N8内で生
成された電離プラズマは放電室8壁面で再結合し消滅す
るか反射される。放電容器1を磁気カスブ環状縁で覆う
ことKより電子を磁力線で移動させ再結合領域を減少さ
せると伴に反射も少なくする。
その構成が同一の部分については同一符号を附けてその
説明を省略する。第1図に示すように放電容器1の壁に
1N極と8極が交互になるように磁石を固定し、磁力線
の大部分が閉じて放′vt室8の壁面近傍以外に磁場が
存在しないように放電容器1の一部又は全てを複数本の
磁気カスプ環状線で穣う、。磁力線の様子は放電室8内
のみ示し外側については省略している。放電N8内で生
成された電離プラズマは放電室8壁面で再結合し消滅す
るか反射される。放電容器1を磁気カスブ環状縁で覆う
ことKより電子を磁力線で移動させ再結合領域を減少さ
せると伴に反射も少なくする。
電子不足になっている領域には磁気圧が作用し。
周辺部のプラズマを中心部に移動させる、ガス圧が低い
ために中心部が周辺部よりプラズマ不足になっていたも
のが補正され一様性が改善されることKなる。
ために中心部が周辺部よりプラズマ不足になっていたも
のが補正され一様性が改善されることKなる。
第2図に放電容器】の壁忙固定した磁石の別の固定法を
示す。要は放電容器1の放電室8側を辿数本の磁気カス
プ環状線で覆うように磁石を配置すればよく第1図、第
2図の固定法に限定するものではない。また、導入ガス
としてHg を用いているが、Hgガスに限定するもの
ではない。
示す。要は放電容器1の放電室8側を辿数本の磁気カス
プ環状線で覆うように磁石を配置すればよく第1図、第
2図の固定法に限定するものではない。また、導入ガス
としてHg を用いているが、Hgガスに限定するもの
ではない。
本発明は、RFタイプのイオン・エンジンニついて説明
したが、FLFタイプの放電室を使用している全ての装
置に適用できる。例えば、核融合で使用されているプラ
ズマ加熱用中性粒子入射l&hのFLF型イオン源につ
いても全て同じように適用できる。
したが、FLFタイプの放電室を使用している全ての装
置に適用できる。例えば、核融合で使用されているプラ
ズマ加熱用中性粒子入射l&hのFLF型イオン源につ
いても全て同じように適用できる。
第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図は本発明
での別の実施例を示す斜視囚、第3図は従来のFLF型
イオン・エンジンの構成図である。 1・・放電容器 2,3.4・・・電極5・・ガ
ス導入系 6・インダクシヨンコイル7・・・中
和器 8・・放電室9・・・磁石 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)第
1 図 第2図 第 3 図
での別の実施例を示す斜視囚、第3図は従来のFLF型
イオン・エンジンの構成図である。 1・・放電容器 2,3.4・・・電極5・・ガ
ス導入系 6・インダクシヨンコイル7・・・中
和器 8・・放電室9・・・磁石 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)第
1 図 第2図 第 3 図
Claims (1)
- 放電容器とガス導入系と電極とインダクシヨンコイルと
中和器と電源等で構成されるイオン・エンジンに於いて
、放電容器の一部又は全てを複数本の磁気カスプ環状線
で覆つたことを特徴とするRF型イオン・エンジン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18882784A JPS6166869A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Rf型イオン・エンジン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18882784A JPS6166869A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Rf型イオン・エンジン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6166869A true JPS6166869A (ja) | 1986-04-05 |
Family
ID=16230518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18882784A Pending JPS6166869A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Rf型イオン・エンジン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6166869A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4110320Y1 (ja) * | 1964-01-20 | 1966-05-16 | ||
JPS4415835Y1 (ja) * | 1965-10-18 | 1969-07-08 | ||
JPS5679900A (en) * | 1979-12-05 | 1981-06-30 | Hitachi Ltd | Ion source |
JPS56160743A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-10 | Mitsuharu Uo | Ion source |
JPS57185653A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-15 | Toshiba Corp | Ion-source device |
JPS58125820A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Toshiba Corp | 電子サイクロトロン共鳴型放電装置 |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP18882784A patent/JPS6166869A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4110320Y1 (ja) * | 1964-01-20 | 1966-05-16 | ||
JPS4415835Y1 (ja) * | 1965-10-18 | 1969-07-08 | ||
JPS5679900A (en) * | 1979-12-05 | 1981-06-30 | Hitachi Ltd | Ion source |
JPS56160743A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-10 | Mitsuharu Uo | Ion source |
JPS57185653A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-15 | Toshiba Corp | Ion-source device |
JPS58125820A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Toshiba Corp | 電子サイクロトロン共鳴型放電装置 |
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