JPS616280A - 無電解メツキマスキング剤および無電解メツキ方法 - Google Patents

無電解メツキマスキング剤および無電解メツキ方法

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JPS616280A
JPS616280A JP12787084A JP12787084A JPS616280A JP S616280 A JPS616280 A JP S616280A JP 12787084 A JP12787084 A JP 12787084A JP 12787084 A JP12787084 A JP 12787084A JP S616280 A JPS616280 A JP S616280A
Authority
JP
Japan
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electroless plating
masking agent
resin
methyl methacrylate
electroless
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12787084A
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English (en)
Inventor
Tamaki Iida
飯田 玉樹
Yojin Inoue
井上 要人
Kichiji Eikuchi
吉次 栄口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP12787084A priority Critical patent/JPS616280A/ja
Publication of JPS616280A publication Critical patent/JPS616280A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
    • H05K3/184Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1603Process or apparatus coating on selected surface areas
    • C23C18/1605Process or apparatus coating on selected surface areas by masking

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は無電解メッキマスキング剤およびこれを用いる
無電解メッキ方法に関するものであり、特にアクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン系樹脂もしくはポリフェ
ニレンオキサイド系樹脂成形体表面に所望のパターンを
有する無電解メッキを施こすに当り有用とされる高性能
、高耐久性のメッキマスキング剤およびこれを用いる無
電解メッキ方法に関する。
(従来の技術) アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂(AB
8樹脂)は、無電解メッキにより表面修飾される樹脂と
して代表的なものであり、ポリフェニレンオキサイド系
樹脂(PPO樹脂)も無電解メッキの施こされる樹脂と
してすぐれたものである。ABS樹脂成形体に無電解メ
ッキを施こして得られるメッキ製品は、そのメッキ膜が
生地との密着力にすぐれているために、自動車用部品な
どのように比較的摩耗の激しい箇所、環境の悪い箇所で
使用しても丈夫であり、現在では種々の場所で使用され
ている。
しかし、同一成形品の表と裏C二別々の違ったメッキを
実施するとか、同一表面C:二種類のメッキを実施する
場合、さらに同一表面の一部分は生地のまますなわち地
肌面としておきたい場合に適当なマスキング剤は現在提
供されていない。
本発明者らはかかる技術的課題にかんがみ鋭意研究した
結果、上記諸口的に好適とされるメッキマスキング剤を
開発すると共にこれを用いるメッキ方法を確立したもの
で、これにより上記各種の態様の無電解メッキが可能と
なり、それら樹脂成形体の無電解メッキによる用途の拡
大が図られる。
すなわち、本発明はメチルメタクリレート−アクリル酸
エステル系共重合体を主剤としてなる。
ABB系樹脂もしくはPPO系樹脂成形体用無電解メッ
キマスキング剤に関するものであり、さらに本発明は無
電解メッキ方法を提供するもので、これはABS系樹脂
、PPO系樹脂から選ばれる合成樹脂成形体の表面に、
メチルメタクリレート−アクリル酸エステル系共重合体
の有機溶剤溶液を用いてマスキング層を形成し、ついで
非マスキング部分に無電解メッキを施こしたのち、該マ
スキング層を除去することを特徴とする方法である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明ζ二かかわる無電解メッキマスキング剤はメチル
メタクリレート−アクリル酸エステル系共重合体を主剤
としてなるものであるが、このメチルメタクリレートと
共重合されるアクリル酸エステルとしては、アクリル酸
のメチル、エチル、ブチル、プロピル、2−エチルヘキ
シルエステルなどが例示される。なお、さらに他のビニ
ル系単量体たとえばアクリル酸、アクリロニトリル、ス
チレンなどを共重合させてもよい。共重合体の組成はメ
チルメタクリレート50〜95重量%、アクリル酸エス
テル5〜50重量%、その他のビニル系単量体0〜20
重量%とすることが望ましく、アクリル酸エステルが5
重量%以下であると接着力、膜強度が強くなりすぎるし
、また50重量%以上であると接着力、膜強度が弱くな
り、いずれの場合にも本発明の目的に不適当である。
本発明においては上記共重合体をジアセトンアルコール
などのケトン系溶剤、エチルセルソルブ、ブチルセルソ
ルブなどの多価アルコール系溶剤に溶解することにより
、または該共重合体を溶液重合法で製造することにより
得た濃度20〜45重量%(好ましくは25〜35重量
%)の有機溶剤溶液として使用するのが便利であり、通
常はこの溶液I:着色剤約0.1%、乾燥助剤的0.5
%が添加されメッキマスキング剤としての使用に供され
る。
この具体的使用方法は次のとおりである。
(1)  まず、無電解メッキ(Ou、N1、Cr、C
など)を実施しようとするAB8樹脂%PPO樹脂の板
、フィルム等の成形品、またはこれら成形品に物理的あ
るいは化学的エツチング処理を行ったものを用意する。
(2)上記の成形品に関しスクリーン印刷、へヶ塗り等
でメッキマスキング剤(前記共重合体の有機溶剤溶液)
を塗布する。
(3)メッキマスキング剤をスクリーン印刷等で塗布し
た後、自然乾燥あるいは加熱乾燥し、メッキマスキング
剤すなわち前記共重合体からなる耐酸、耐アルカリ性の
層を形成する。
(4)以下慣用の手段にしたがい、メッキしようとする
部分を物理的または化学的エツチング処理し、最初にエ
ツチングしであるものはそのままで、増感処理、活性化
処理、および無電解メッキを行う。
(5)次に、ジアセトンアルコール、エチルセルソルブ
、ブチルセルソルブなどの有機溶剤でエツチングしてメ
ッキマスキング剤を取り除く。
(6)この後、さらにメッキを行うものは慣用の手段に
よりメッキを行うが、成形品の生地(地肌)が必要な場
合には溶剤によって侵されることなく元の生地を得るこ
とが可能となる。
以上の操作によりAB8樹脂、PPO樹脂の板、フィル
ム等の成形品の表面に所望のメッキが施こされた製品が
きわめて有利l二得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、メチルメタクリレート−アクリル酸エステル系共重
    合体を主剤としてなる、アクリロニトリル−ブタジエン
    −スチレン系樹脂もしくはポリフェニレンオキシド系樹
    脂成形体用無電解メッキマスキング剤 2、メチルメタクリレート50〜95重量%、アクリル
    酸エステル5〜50重量%およびその他のビニル系単量
    体0〜20重量%の割合からなる共重合体を用いる特許
    請求の範囲第1項記載の無電解メッキマスキング剤 3、前記メチルメタクリレート−アクリル酸エステル系
    共重合体を濃度20〜45重量%で有機溶剤に溶解して
    なる特許請求の範囲第1項記載の無電解メッキマスキン
    グ剤 4、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、
    ポリフェニレンオキシド系樹脂から選ばれる合成樹脂成
    形体の表面に、メチルメタクリレート−アクリル酸エス
    テル系共重合体の有機溶剤溶液を用いてマスキング層を
    形成し、ついで非マスキング部分に無電解メッキを施こ
    したのち、該マスキング層を除去することを特徴とする
    、前記合成樹脂成形体表面への無電解メッキ方法
JP12787084A 1984-06-21 1984-06-21 無電解メツキマスキング剤および無電解メツキ方法 Pending JPS616280A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000204480A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Origin Electric Co Ltd 部分メッキ方法及びこれを施した物品

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS508732A (ja) * 1973-05-26 1975-01-29

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS508732A (ja) * 1973-05-26 1975-01-29

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000204480A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Origin Electric Co Ltd 部分メッキ方法及びこれを施した物品

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