JPS6162556A - 抗炎性の熱可塑性ポリマー混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、 α）　式（１）及び／または（２） （式中、Ｘは単一結合、Ｃ，、Ｃｓ−アルキレ／、Ｃ２
〜Ｃ５−アルキリテン、シクロへ苧シレン、シクロヘキ
シリゾ／または式％式％ の二官能性構造単位の５０モル％〜１００モル％、好ま
しくは７５モル％〜１００モル％、特に９０モル％〜１
００モル％そして殊に１００モル％、及び式（３） （式中、−０−Ｄ−０−は構造単位（１１及び（２）に
おけるものとは別のハロゲンを含まず、硫黄を含まずそ
して燐を含まないジフェノレート基でめシ、好ましくは
Ｃ，Ｈ及びＯ原子のみより構成されそして好ましくはＣ
原子６〜３０を有する） の別の二官能性構造単位の５０〜０モル％、好まシくは
２５モル％〜０モル％、特に１０モル％〜０モル％そし
て殊に０モル％、を含有する、熱可塑性のハロケ°ンを
含まず、硫黄を含まずそして燐つ。

を含まない芳香形Ｈｑリカーボネート、ｂ）　重量平均
分子ｆ１Ｍｗ　１０，０００〜６００．０００のハロゲ
ンを含まないスチレンポリマー、及び／または Ｃ）　ゴム：グラ７トモノマーの重量比９６％ニア０％
乃至５％：９５％、好ましくは９０％＝１０％乃至７０
％：３０％及び５０％：５０％乃至１０％：９０％に基
づく、へ口ｒノを含まないゴム上ヘハログンを含まない
モノマーをグラフトさせたハロゲンを含まないグラフト
ポリマー、ｄ）　式（７） （式中、Ｒ，、Ｒ，及びＲ３は同一もしくは相異なプｃ
Ｉ””Ｃｔｏ−炭化水素基であり、Ｒ，、Ｒ，及びＲ８
の少くとも二つは置換されもしくは置換されていないア
リール基でめる） のハロゲンを含まずそして硫黄を含まないホスフェート
エステル、及び、もし適当ならば、Ｃ）　　テトラフル
オロエテレ／４リマー、を含有し、ここで成分ａ）は２
５〜９５乗量％、好ましくは６５〜９０　Ｍ　ＪＢ：％
、特に４５〜９０を量％そして殊に好ましくは４５〜７
０重量％及び８０〜９０重景％の装置存在し、成分ｂ）
は２〜７４重量％、好ましくは５〜６５重量％そして特
に９〜５４重量％の量で存在することができ、成分Ｃ）
は２〜７４重量％、好ましくは５〜６５重量％そして特
に９〜５４重量％の量で存在することができ、成分ｄ）
は１〜４５重量％、好ましくは２．５〜６０重ＪＩｔ％
、特に好ましくは４〜２０重量％そして殊に５〜１５重
量％の景で存在し、そして成分ｅ）は０〜５重量％、好
ましくはα０２〜２重量％特に好ましくは０．０４〜１
重量％、そして殊に０．０５〜（１５重量％の量で存在
することができ、成分ｂ）＋ｃ）の和は各場合少くとも
４重量％でありそして全成分の和は各場合１００重量％
である、ことを特徴とする抗炎性の熱可塑性で５０％で
ある。

成分α）乃至ｇ）について記載した好ましい範囲は各場
合独立的と理解されるべきであり、即ちそれらは自動釣
に他の特定成分の好ましい範囲に連合するものではない
。

もし成分Ｃ）が存在するならば、本発明によるこの特定
ポリマー混合物は各場合これら特定混合物の全重量に基
づきゴムを５〜５０重量％、好ましくは５〜２５重量％
そして特に７〜２０重量％含有すべきで６る。

ドイツ特許出願公開公報筒２，２２８，０７２号によれ
ば、熱可塑性ポリカーボネートはへキサブロモベンゼン
及びアンチモン化合物の混合物により抗炎性が付与され
、これは加えてホスフェートエステルを相乗剤として含
有することができる。

可能な一リカーボネートはテトラアルキル化されたジフ
ェノールのポリカーボネートである。しかしながら、単
に１０重量部のトリフェニルホスフェートをビスフェノ
ールＡポリカーボネートに添加しただけでは燃焼試験Ｕ
Ｌ−第９４（ＵＬ−５ｕｂｊ、　９４　）に従い滴下防
止効果を何ら有しない（ドイツ特許出願公開第２．２２
ａ０７２号第２０頁参照）。このポリカーボネートの代
りに、ポリフェニルエーテル樹脂とスチレン樹脂との混
合物も抗炎性にすぎることができ、この１合ホスフェー
トエステルの単独使用では１１重量％を要する（ドイツ
特許出願公開公報筒２．２２ａ０７２号第１０頁参照）
。

発泡しうる熱可塑性物質がドイツ特許出願公開公報筒２
．４３４．　Ｏ８５号から知られておシ、なかんずくポ
リカーボネート、ポリマーまたはその混合物が熱可塑性
物質として記述されている。挙げられているポリマーは
、またブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルのポ
リマーまたはスチレンそれ自体のポリマーである。発泡
しうるグラスチックは防炎剤としてホスフェートエステ
ルを、もし適当ならばハロダン化合物と組合わせて、含
有することができる。ハロダン化合物としてポリテトラ
フルオロエチレンポリマーは何ら推奨されておらず、そ
して本発明に従って適当であるポリカーボネートはポリ
カーボネートとして推奨されていない。

ドイツ特許出願公開公報筒２．９２１．３２５号によれ
ば、ポリカーボネート用の防炎剤としてペンタエリスリ
トールジホスフェートの添加が記載されておシ、この際
ハロダン化合物を共用することができ、これらハロケ゛
ン化合物は、米国特許第３．９３２，１３６号を引用し
たドイツ特許出顧公開公報第２，９２１，３２５号の第
９頁によれば、ポリビニリデンフルオライドでるること
もできる；本発明に従って適当であるポリカーボネート
は、１？　リカーボネートとして記載されていない。Ａ
ＢＳコポリマーをポリカーボネートに混合することがで
きる。

ポリカーボネート、ＡＢＳポリマー及びハロダン化合物
の抗炎性混合物が知られているドイツ特許出願公開公報
筒２，９０３，１００号及び同第２，９１８．８８３号
参照）。ドイツ特許出願公開公報筒２．９０３，１００
号によれば、抗炎性は特定の有機スルホネートによって
達成される。フルオロ化されたポリオレフィンを滴下−
防止剤として加えることができる。ドイツ特許出願公開
公報筒２．９１８、８８３号によれば、抗炎性はアルカ
リ金属もしくはアルカリ土類金属の酸の塩と滴下防止剤
との組合せによって達成され、ここでＡ　Ｂ　Ｓ　ｙＨ
！リマーの飛は混合物全量に基づき最大で１０重量％で
ある。

ポリカーボネート、ハロゲン化合物、アルカリ全組もし
くはアルカリ土類金属の塩及びフルオロ化されたポリオ
レフィンよシ成る成型用組成物であって、これに加えて
テトラアルキル化ジフェノールからの４リカーボネート
熱可塑性樹脂を混合物全量基準で最大１０重ｔ％までの
量で含有する組成物がドイツ特許出願公開公報第２，９
１８，８８２号から知られている。

ドイツ特許出願公開公報第２．９２９．２２９号によれ
ば、ポリカーボネート／ＡＢＳ混合物を熱に対して安定
化するため特定のホスファイトが使用はれる。この成型
用組成物はまた防炎剤を含むことができる。

特定ノポリエステルとグラフトポリマー及び芳香族ぽリ
カーボネートとの組合せがドイツ特許出願公開公報第３
，００２，９８５号に記載されてお）、これらの混合物
はまた火炎遅延剤を含むことができる。燐化合物、なら
びにハロゲン化合物が火炎遅延剤として挙げられている
。滴下−防止剤もまた加えることができる（該公報第１
２頁）。

ポリカーボネートとしてアルキル化されたシフフェノー
ルのポリカーボネートは米国特許第４，０３４．０１６
号を引用して間者的に記載されているだけでメジ、そし
てハロゲン化合物としてポリテトラフルオロエチレンポ
リマーは挙げられていない。

米国特許第３，６７１，４８７号によれば、ガラス繊維
で補強されたグリコールとイン−もしくはテレ−７タル
酸に基づく熱可塑性ぼりエステルにホスフェートエステ
ル及びｄ？ポリテトラフルオロエチレン如き抗炎剤が添
加される。この特許には芳香族熱可塑性−リカーボネー
トは包含されていない。このことはまた、記載されてい
る４リエステ′が・無定形の′す″−５ネートとは反対
に・部　　　　　　　１分的に結晶性の熱可塑性材料で
あって全く異なる性質を有するのでろるから、自明のこ
とでもない。

欧州特許出願第０．ＯＴ４，１１２号によれば、ホスフ
ェートエステルは可塑剤としてポリカーボネート／ΔＢ
Ｓ混合物に添加される。例えばジフェニルオクチルホス
フェートがホスフェートエステルとして挙げられている
。本発明の成分α）に従う特定のポリカーボネートは挙
げられていない。

フルオロ化されたポリオレフィンの添加は記載されてい
ない。

欧州特許出願第０．１０３，２３０号によれば、本発明
の成分α）、ｂ）及び／またはＣ）はポリホスフェート
で抗炎性仕上げされ、このポリホスフェートはＭｗ（重
数平均）　１，６００〜１５０，０００を有することが
できる。これに加えてポリテトラフルオロエチレンを共
用することができる。しかしながらこのポリホスフェー
トは構造的に式（７）のホスフェートとは異なる。

米国特許第４．３５５，１２６号及び同第４．１０７２
５２号によれば、抗炎性Ａ　Ｂ　５　Ｊ　リマー、なか
んずく、ポリテトラフルオロエチレンを含むものもまた
知られている。トリフェニルホスフェートは防炎剤とし
て特に好ましい。これに反し、テトラアルキル化ジフコ
ノールに基づくポリカーボネートの添加が高度の抗炎性
を有する成型用組成物を生成することは予期されなかっ
たことである。

本発明によるポリマー混合物はＵＬ−第９４による公知
方法またはＡＳＴル（−Ｄ−２８６５−ＡによるＯ８指
数によって測定される抗炎性質を有する。

かくして本発明はまた、本発明によるポリマー混合物を
抗炎仕上げをされるべき熱可塑性物品製造用の防炎剤と
して使用することに関する。

本発明で使用しつる成分α）のポリカーボネートは公知
法によりハロケ°ンを含まず、硫黄を含まずそして燐を
含まない分岐剤を合体させることにより分岐されている
ことができる。

本発明においてハロダンを含まないぽリカーボネートと
は、ポリカーボネートがハロケ°／を含まないジフェノ
ール、ハロケ゛ンを含まない連鎖停止剤及び随時・ハロ
ケ°／を含まない分岐剤より形成されることを意味する
ものであり、ここで例え１↓°−ホスゲンを用い相界面
法によるポリカーボネートの製造から生ずる微小ｐｐ重
量の加水分解しうる塩素の含有は本発明においてハロゲ
ノを含むとは見なきない。このような加水分解しうる塩
素のｐｐｍ含量のポリカーボネートは本発明の情況にお
いてはハロゲノを訝まないポリカーボネートである。

同様の所説は硫黄を含まないそして燐を含まないポリカ
ーボネートにも当てはまる；例えばポリカーボネートの
仕上げ後処理の結果によるＳ−もしくはＰ−３有不純物
は勘定に入れない。

本発明に従って使用しうるポリカーボネートの製造は知
られており、そして例えばドイツ特許出願公開公報箱２
，２１１，９５７号及び同第２，６１５゜０３８号に記
載されている。

構造単位＋１）がそれに基づいている式（４）％式％ のジフェノールの例は次の通シである：ビスー（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）、ビス−（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフエ濠噛軟ニル）−メタ
ン、１，１−ビス−（３，５−シメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−二タン、２．２−ビス−（５，５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−フロノクン、１．１
−ビス−（５，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル
）−２−メテルーグロノン、２，２−ビス−（１５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−ブタン、２．４−
ビス−（５，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−２−メチヌブタン、１，１−ビス−［３＋５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン及ヒα
、α′−ビス−（５，５−ジメチル−４−ヒト９０キシ
フエニル）−ｐ−ジインプロピルベンゼン。

式（４）の好ましいジフェノールは２，２−ビス−（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン及
び２．２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒ）”ロキ
シフェニル）−ｆロパンテアリ、そして特に後者に関し
てはドイツ特許出願公開公報箱２，９２８，４６４号・
及び同第２９２８．４４３号記載の方法によって、純粋
の２，６−ジメチルフェノールから、及び工業用縁の、
特にクレゾールで汚染された、２．６−ジメチルフェノ
ールから製造されるような粗製ビスフェノールを使用す
ることも可能である。しかしながら、そのような粗製ビ
スフェノールは少くとも８０重量％、好ましくは少くと
も９０重量％の２．２−ビス−（３゜５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）−クロ・９ンを含有していなけ
ればならない。

特に好ましい式（４）のジフェノールはビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタンである
。

構造単位（２）がそれに基づいているジフェノールもま
た好ましいジフェノールである。

構造単位（３）がそれに基づいている式ｆＧＩＨＯ−Ｄ
　−ＯＨ（Ｇｌ のジフェノールの例は、レゾルシノール、ジヒドロキシ
ジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン
、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−エーテル、ビス−（ヒド
ロキシフェニル）−ケトン及ヒα、α′−ビス−（ヒド
ロキシフェニル）−ジインプロピルベンゼンである。

そのようなジフェノールは例えば論文”Ｈｅｒ−ｍａｎ
Ｓｃんｎｅｌｌ、　　ポリカーホネートノ化学ト物理（
Ｃｈｇｍｉｓｔｒｙ　　ａｎｄ　ｐｈｙｓｉｃｓ　　ｏ
ｆｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ　）”　、Ｎｅｗ　Ｙ
ｏｒｋ。

Ｉｎｔｇｒｓｃｉｇｏｃｅ　　ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、
　　１９６４、ｙ＋？リマーレビュウス（ｐｏｌｙｍｅ
ｒ　Ｒｅ５１ｗ５　）。

〆ｏｌ　　９に記載てれている。

好ましいジフェノール（６）の例は、ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）、１．１−ビス−（４−ヒドロジυヶ
穎シクロヘキサン、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−ｆロノぞン、ビスー（ヒドロキシフェニル）
−メタン（異性体混合物を含む）、２，２−ビス−（６
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロノぐン及ヒ
α、α′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジ
イソグロピルベンゼンである。

特に好ましいジフェノール（６）は例えば２．２−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｆロノぞン及びビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−メタンである。

本発明に従って使用することのできるポリカーボネート
は一般に分子＠Ｍｗ（重量平均、例えば光撒乱法により
測定される）１０．０００〜２００゜０００、好ましく
は２０．０００〜８０，０００、特に好ましくけ２５，
０００〜６１８、　Ｏ，０００そして殊に好ましくは３
０．０００〜４５，０００を有する。

本発明に従い使用しうる成分ｄ）のホスフェートエステ
ルは式（力 Ｉ Ｒ、−０−Ｐ　−０−Ｒ、（７） Ｒ１ （式中、Ｒ，、Ｒ，及びＲ５は同一もしくは相異なり、
Ｃ３〜Ｃ２゜−炭化水素基であり、Ｒ，、Ｒ１及びＲ１
の少くとも二つは置換されたまたは置換されていないア
リール基である） のものである。

好ましい炭化水素基は炭素原子２〜１６、特に６〜１０
を有するものである。好ましいアリール基も同様に炭素
原子６〜１０を有するものである。

適当な炭素原子基はアルキル、シクロアルキル及びアラ
ルキル基である。置換されていないアリール基の例はフ
ェニル及びナフチルでちる。置換されたアリール基はア
ルカリール、シクロアルカリール、アリール−置換され
たアルカリール及びアリール−置換されたアリール基で
ある。

アルキル基の例はメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、　　　　　　
ｊデシ１し、ウンデシル、ドデシル、ネオインチル、３
．５．５−ＩＪ＃−ルヘキシル、３−メチルへキシル、
２−エチルヘキシル及び２，５．５１リメテルヘキシル
で６る。

シクロアルキル基の例はシクロヘキシルである。

アラルキル基の例はベンジル及び７エネチルである。

アルカリール基の例はｏ−１ｐ−及びｍ−トリル、２，
６−及び２，４−ジメチルフェニル、トリメナルフェニ
ル、０−１ｐ−及びｒｎ−ｒシクロビルフェニル、ノ＋
’ｌ）　−’　−７’テルフエニル、２．４−ジイソプ
ロピルフェニル及びトリイソグロビルフェニルテアル。

シクロアルカリール基の例はＯ−シクロヘキシルフェニ
ルでろる。アリール−置換されたアルカリール基の例は
ｐ−ベンジルフェニル及ヒｐ−７エネチルフエニルで６
る。

アリール−置換されたアリールの例はジフエニルである
。

好ましい基はフェニル、ｏ−ｌｍ−及びｐ−トリル、２
，６−ジメチルフェニル、２，４−ジイソプロピルフェ
ニル及びトリインプロピルフェニルである。

好マシい式（７）のホスフェートエステルはａ　Ｒ＋、
Ｒ２及びＲ８がアリール基またはアルカリール基のもの
である。

本発明に従って使用しうる芳香族ホスフェートの例ａ次
の通り：ビス−（フェニル）メチルホスフェート、ビス
−（フェニル）エテルホスフェート、ビス−（フェニル
）ブチルホスフェート、ヒス−（４−メチルフェニル）
２−エテルヘキシルホスフェート、ビス−（フェニル）
２−エチルへ中シルホスフェート、ビス−（フェニル）
オクチルホスフェート、ビス−（フェニル）イソデフル
ホスフエート、トリス−（フェニル）ホスフェート、ト
リス−（２−メチルフェニル）ホスフェート、トリス−
（，５−メチルフェニル）ホスフェート、トリス−（４
−メチルフェニル）ホスフェート、トリス−＋２．６−
ジメチルフェニル）ホスフェート、トリス−（イングロ
ビルフェニル）ホスフェート、トリス−（ノニルフェニ
ル）ホスフェート、ビス−（フェニル）２−メチルフェ
ニルホスフエート、ビス−（フェニル）４−メチルフエ
ニルホスフエート、ビス−（フェニル）イソプロピルフ
ェニルホスフェート、ヒス〜（フェニル）−２，６−ジ
メチルフェニルホスフェート、ビス−（２−メｆルフェ
ニル］−７エニルホスフエート、ビス−（４−メチルフ
ェニル）−フェニルホスフェート、ヒス−（イソプロピ
ルフェニル）−フェニルホスフエート、ビス−（２，６
−ジメチルフェニル）−フェニルホスフェート、ヒス−
（２，６−ジメチルフェニル）４−ｔ−ブチルフェニル
ホスフェート、ビス＝（２，６−ジメチル、＝フェニル
）　３−メ−７−ルフェニルホスフエート、ヒス−（２
，６−ジメチルフェニル）４−イングロ・−ビルフェニ
ルホスフェート及ヒヒスー（２，６−ジメチルフェニル
）２−イングロ゛ビルフェニルホスフェート。

好ましい式（力のホスフェートは次の通りニドリス−（
フェニル）ホスフェート、トリス−（メチルフェニル）
ホスフェート、トリス−（２，６−ジメチルフェニル）
ホスフェート、ビス−（フェニルホスフェート、ビス−
（メチルフェニル）フェニルホスフェート、ビス−（２
，６−ジメチルフェニル）フェニルホスフェート及ヒビ
ス−（２，６−ジメチルフェニル）メチルフェニルホス
フェート。

に特好ましい式（力のホスフェートは、トリス−（フェ
ニル）ホスフェート、トリス−（メチルフェニル）ホス
フェート及ヒヒス−（フェニル）メチルフェニルホスフ
ェートである。

本発明に従って使用しうる成分Ｃ）のテトラフルオロエ
チレンポリマーはフッ未含有′Ｍ′６５〜７６重量％、
好ましくは７０〜７６取量％のポリマーである。その例
はポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレ
ン／ヘキサフルオロプロピレンコポリマーまたはテトラ
フルオロエチレンと少量のフッ素を含まない共重合しう
るエチレン性不飽和モノマーとのコポリマーである。ポ
リテトラフルオロエチレンが好ましく用いられる。

これらのポリマーは知られている。それらは微粒状、通
常粉末として使用することができる。それらは公知方法
、例えばテトラブルオロエチレンを水性媒体中で遊離基
を形成する触媒例えば過酸化二値酸ナトリウム、過酸化
二値酸カリウムまたは過酸化二値酸アンモニウムを用い
、圧カフ〜７１に９／ｃ＋（、温度０〜２００℃、好ま
しくは２０〜１００°Ｃにおいて重合することによって
製造することができる（更に詳しくは例えば米国特許第
２．３９３，９６７号参照）。

本発明に従って適当なポリテトラフルオロエチレンは好
ましくは重量平均分子１Ｍｗ１０１′〜１０６を有すべ
きである。

成分ｂ）のハロク°／を含まないスチレンポリマーとは
、ホモポリマー及びスチレン群及び七のハロケ°／を含
まない誘導体からえらばれる少くとも一つのモノマーの
共重合された単位を少くとも５０重重量含有するコｙｌ
？リマーであると解せられるべきである。このスチレン
群は例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチル
スチレン、３．４−ジメチノヒスタ゛レン、〇−及びｐ
−ジビニルベンゼン及びｐ−メチル−α−メチルスチレ
ンを包含する。スチレン及びα−メチル−及びｐ−メチ
ル−スチレンが好ましく、スチレン及びｐ−メチルスチ
レンは特に好ましく、ナしてスチレンそれ自体に殊に好
ましい。

本発明におけるスチレンポリマーはスチレン及びその誘
導体の他に、アクリル及びメタクリル化合物より成る荏
：及び不飽和ジカルボン限無水物より成る群からえらば
れる少くとも一つのハロケ゛／を含まないモノマーの共
重合された単位を５０重量％まで含有することができる
。第一の群は例えばアクリル及びメタクリル酸、アクリ
ロニトリル、メタクリレートリル、メチルアクリレート
、エナルアクリレート、ｎ−及びイソ−７６ｅ７ビルア
クリレート、　　　　　−”　　　　　　　　　　　　
、　ｎ　−及びイソ−ブチルアクリレート、２−エチル
へキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、ｎ−及びイノ−プロピルメタクリレー
ト、九−及びイソープチルメタオリレートユ、７クロヘ
キシルメタクリレート及びインボルニルメタクリレート
を包含する。この群の中で欠アクリロニトリル及びメチ
ルメタクリレートが好ましい。第二の群のうち好ましい
モノマーはマレイノ酸無水物である。

好ましいハロケ゛ンを含まないスチレンポリマーは特に
、ポリスタレン、アクリロニトリル含量１．５〜１５重
訃％のスチレン／アクリロニトリルコポリマー、スチレ
ン／メチルメタクリレートコポリマー、マレイノ酸無水
物２０重量％までのスチレン／マレイン酸無水物フポリ
マー、及びアクリロニトリル１．５〜１５１ｉ量％、マ
レイン酸無水物２０重量％までのスチレン／アクリロニ
トリル／マレイン酸無水物コポリマーである。これらの
つうち７１？リステレン及び上記スチレン／アクリロニ
トリルコ、１？　リマーが好ましく、そして後者は殊に
好ましい。本発＃ＪＫ従って用いられるスチレンポリマ
ーは平均重歌平均分子ｉ１（ジメチルホルムアミド中、
Ｃ＝５１／ｌ、２０℃で測定）１０，０００〜６００．
０００を有すべきでラシ、これは公知法により触媒の存
在において塊状、懸濁または乳化重合によって製造する
ことができる。

（関連文献：パイルスタイン有機化学便覧ｌ　Ｂｒ１ｓ
ｔｅｉｎｓ　　ｌ１８、ｎｄｂｕｃｈ　　ｄｅｒ　　ｏ
ｒｇａ−ｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ　）　、第４版
、第３補遺、第５巻、１１６３〜１１６９頁、Ｓｐｒｉ
ｎｇｅｒ　　−ＰｅｒＬａｇ、　　１９６４　；及びＨ
、Ｏｈｌ　ｉｎｇｅｒ　。

ボリスチレ７　（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ　）第１部、
生成物の製法及び性質（ＩｌｅｒｓｔｅｌｌｔＬｎｇｓ
ｖｅｒｆａ−ｈｒｅｎ　　ｗｎｄ　　Ｅｉｇｅｎｓｃｈ
ａｆｔｅｎ　　ｄｅｒｐｒｏｄｘｌｃｔｅ　）、Ｓｐｒ
ｉｎｇｅｒ　　Ｖｅｒｌａｇ。

１９５５）。

成分Ｃ）のハログ／を含まないグラフドーリマーとは少
くとも１ｍのハロゲンを含まないモノマーをグラフトし
たハロゲンを含まないゴムを意味する。使用しうるハロ
ケ°ンを含まないモノマーは、本発明に用いられるスチ
レンポリマーの製造用に上に挙げたモノマーである。そ
こに好ましいもの及び特に好ましいものとして掲げられ
ているモノマーは、ゴムにグラフトしてグラフトポリマ
ーと　　　　　　１するものにも同様に好ましくまたは
特に好ましいものである。

任意所望のハロケ°／を含まないゴムは、本発明に従い
用いられるハロゲンを含まないグラフトポリマー製造用
のグラフト基体として使用することができる。好ましい
ゴムは、ハロゲンを含まないコモノマー、好ましくはス
チレンまたはアクリロニトリルを！５ｏ；ｒｔ対％まで
共重合されたブタジェンゴム、特にポリブタジェンでお
る。ハロゲンを含まないアクリルエステルゴム及びハロ
ｒンヲ含マないポリオレフィンゴム例ｔ　ばエチレン／
プロピレン／ジェンターポリマーもまた好ましい。特に
好ましいハロゲンを含まないゴムはポリブタジェン及び
ハロゲンを含まないアクリルエステルゴムでおる。その
ようなゴムは例えばドイツ特許出願公開公報第２．３２
９．５８５号及び同第４１１８，８６１号に記載されて
いる。本発明に従って用いられるハロケ°ンを含まない
グラフトポリマーはゴム：クラフトモノマーのｔｉ−比
９５％ニア％乃至５％：９５％、好ましくは９０％：１
０％乃至７０％：３０％、及び５０％：５０％乃至１０
％：９０％を有すべきで心る。そのようなグラフトポリ
マーは公知法、例えば乳化型ｆ１または懸濁重合法によ
って得ることができる。

本発明に従い好ましく用いられるグラフトポリマーは、
ハロゲンを含ｉないゴムとその上にグラフトされたスチ
レン、メチルメタクリレート、スチレン／アクリロニト
リル混合物、スチレン／メチルメタクリレート混合物ま
たはスチレン／マレイン酸無水鶴１ら成るものである。

ゴムとその上にグラフトされたスチレン／アクリロニト
リル混合物とから成り、アクリロニトリルの含量がグラ
フトされたスチレン／アクリロニトリル混合物に基づき
１．５〜１５重１１：％であるグラフトポリマーは特に
好ましい。

既述した如く、グラフトポリマーは公知法、例えば上に
引用した二つの公開公報中に記載されている方法により
製造することができる。

グラフトポリマーは好ましくはグラフト基体であるゴム
の存在において１種またはそれ以上のグラフトモノマー
を遊離基重合せしめることによって得られる。ゴム上へ
の１種より多いモノマーのグラフト重合は、東金後にグ
ラフトポリマーのｎｔ、１脂成分が所望のモノマー比を
有するように実施されるべきである。”グラフトされた
含量”とは、ゴムに化学的に結合したモノマーの割合と
は無関係に、グラフト重合用に使用されたモノマーの全
重合部分として理解されるべきである。かくして本発明
により使用される成分Ｃ）のグラフトポリマーはグラフ
トポリマーとホモポリｉ−またはコぽリマーとの緊密な
混合物から成ることもできる。

本発明の関連において、スチレンポリマー及びグラフト
ポリマーは、またスチレンポリマーの混合物及びグラフ
トポリマーの混合物としても理解されるべきで６る。

本発明に従う混合物は公知方法によってつくられる。

本発明による抗炎性熱可塑性混合物は良好な性質をあら
れす。本発明で使用しうる芳香族ポリカーボネート、ス
チレンポリマー及び芳香族ホスフェートの相容性は非常
に良好で、成る場合には完全に透明なポリマー混合物を
得ることができる。

本発明に従ってもしポリテトラフルオロエチレンが用い
られるならば、これら透明の混合物は半透明になるかも
知れない。本発明によってもしグラフトポリマーが使用
されると、それらは半透明になシうる。もし芳香族ホス
フェートの含有量が比較的高くなったとしても、本発明
の抗炎性熱可塑性混合物は粘着性とはならず、高品質の
光沢表面を有する。更にまた、もし純粋な出発成分が使
用されると、混合物は無色乃至白っぽい不１６明である
。本発明によるポリマー混合物の良好な抗炎性は、それ
自体部分的には極度に短かい燃焼時間及び極度に低い滴
下傾向によって証明されるのであるが、特に重要でるる
。

それらはまた比較的高い熱変形点及び良好な機械的性質
を有する。それらの接合線強度は抜群である。それらは
加水分解に対し非常に安定である。

熱可塑性加工処理過程で、それらは比較的低い処理温度
においてさえも、良好な流れを有する。それらは、たと
えば処理温度が高くても、加工処理に対して非常に安定
である。なおそれらの耐光性及び耐挨性は高い。

本発明による熱可塑性−リマー混合物が、芳香族ホスフ
ェートを単に少量だけ含有するものを含めて、高い抗炎
性を有することは特に驚くべきことである。なお、本発
明のポリマー混合物中に少量のポリテトラフルオロエチ
レンを用いることにより、炎を発した後の燃焼時間が徹
底的に低減することは特に篤くべきことである。また本
発明の熱可塑性ポリマー混合物における抗炎性が、共縮
合されたビス−（５，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−メタンを含む芳香族ポリカーボネートを使用
することにより、そしてまたスチレン／アクリロニトリ
タコポリマー及ヒステレン／アクリロニトリルをグラフ
トしたゴムで、重合されたスチレン／アクリロニトリル
混合物中のアクリロニトリル含量が１．５〜１５重量％
であるもの、を使用することにより、著しく増大するこ
ともまた特に驚くべきことである。

本発明による抗炎性熱可塑性ポリマー混合物は０、指数
が２４％以上、特に０２指数２６％以上のものが好まし
いが、特にそれらは０２指数２８％以上、殊に６０％以
上のものが好ましい。しかし、混合物はそれらがＵＬ−
第９４に従う分類Ｖ■、Ｖｌ及びＶＤを達成するならば
特別に好ましいものでメジ、ここで好ましい度合は上記
分類記載の順でるる。

本発明のポリマー混合物はまた熱可塑性ポリカーボネー
ト及び／またはスチレンポリマー及び／またはグラフト
ポリマーに普通用いられている添加物、即ち鉱物質また
はカーボンブラックの如き充填剤、ガラス繊維または炭
素繊維の如き補強物質、ＵＶ、酸化及び熱に対する安定
剤の如き安定剤、離型剤、染料もしくは顔料、塘たはそ
の他の常用添加剤を含有することができる。

本発明のポリマー混合物は抗炎性プラスチック、特に抗
炎性ポリカーボネー）　／ｓｒ　ＩＪママ−合物の使用
が要求されるすべての場合、即ち例えば装置群。

関係の領域、電気及びエレクトロニクスの分野、設備及
び加熱の分野及び交通運輸の領域において使用すること
ができる。

本発明の抗炎性ポリマー混合物の使用例は、コ−ヒー機
器、料理用電気器具、グリル器具、衣類アイロン、洗６
Ｉｄ機械、フィルム装置、スライド映写機、ケーブル架
線、電話設備、テレックス設備、ケーブルテレビジョン
設備、電気モーター、窒調施設、コンピューター設備、
照明設備、家庭及び工業分野における電気設備、ラジオ
、テレビジョン、レコードプレーヤー、ビデオレコーダ
ー、自働車及び航空機である。

本発明のポリマー混合物のいくつかの特定使用例は、自
動車の中の灰皿、航空機の中の食料器、自働車の中の計
器盤、ランプ台、各種機器における電気及びエレクトロ
エックス部品の支持具、及び電気設備におけるヒユーズ
要素及び電流スイッチ用のカバーである。

実施例　１ 各種ポリカーボネート、グラフトポリマー、トリフェニ
ルホスフェート及びポリテトラフルオロエチレンの混合
物の抗炎性 表１中に示す混合物を二軸押出機中約２９０℃における
溶融を経て１４製した。次いでこの混合物を射出成型押
出改工によって試験片とし、次にこれらを表１中に記載
の抗炎性試験に付した。表１から見られるように、試験
は次の結果７（−力えた。

トリフェニルホスフェートとポリテトラフルオロエチレ
ンとの組合せを用いることにより、本発明のポリカーボ
ネートとグラフトポリマーの混合物の抗炎性を著しく改
善することができる（冥ｈ１福例１α〜１ｈ参照）。ア
クリロニトリル低容量のスチレン／アクリロニトリル■
ここではスチレン／アクリロニトリルの重ｆ書９０／１
０部）をグラフトさせたグラフトポリマーを使用すると
き、特に短い燃焼時間が達成される（実施例１ｄと１１
を比較せよ）。主としてビス−（３，４−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニルンーメタンヲ言ｂ　４リカーボネ
ートを使用すると、グラフトポリマー１０％を含む混合
物は添加剤なしに既に良好な抗炎性をあられす（実施例
１ｇ参照）、しかしトリ（フェニルホスフェート及びＰ
ＴＦＥを添加することによっても抗炎性は寸だ著しく増
大する（　’Ａ　ＭＩＪ例１ｈ参照）。

表１において、 ＡｆＰＣ＝２．２−ビス−（５，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−グロノＪ？ｙ（ＴＭＢｐＡ）のポ
リカーボネート、ηｒｅｌ＝１．２９７（５，＠／Ａｔ
　　ＣＨ，Ｃ１，，２５°Ｃ）。

１？　Ｐ　Ｃ＝ビスー（５，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−メタン（ＴＭＢｐＦ）とＴ　Ａ（ｎ　
Ｐ　Ａとのモル比７５／２５のコポリカーボネート、η
ｒｇｌ＝１．２９５＜５１／ｌ　　ＣＨ，Ｃ１，、２５
℃）。

Ａ　ＣＲコポリマーを形成するモノマーの重量比であら
れして次の組成を有する芯／ジャケット構造のグラフト
ポリマー： ｎ−ブチルアクリレート／ブタン−１゜６−ジオールジ
アクリレート／ジアリルＡ　Ｂ　Ｓ　＝グラフトされた
スチレン／アクリロニトリル（ｙ　２／２８ｘ量部）コ
ポリマー５０重量部とグラフト基体としての平均粒径０
．４μｍのポリブタジェンゴム５０重量部とから成るグ
ラフトポリマー。

ＡＢＳ〜グラフトされたスチレン／アクリロニトリル１
９０／１０重景部）コポリマー ５０重量部とグラフト基体としての平均粒径０．４μｍ
のポリブタジェンゴム５０重量部とから成るグラフトポ
リマー。

ｒｐｐ＝　トリフェニルホスフェート ｐＴＦＥ＝粉末ポリテトラフルオロエチレン（／７ｏｇ
ｃんｓｔ　　ＡＧ、　　Ｈｏ５ｔａｆｌｏｎ、　　　Ｔ
Ｆ２０２６）。

ＵＬ第９４の抗炎性データ、試験片厚さ１．６龍（表１
を見よ）；ｆ＝不合格；Ｖ■、Ｖｌ、ＶＤを有する試験
片の数；下段列の数値データ＝２３℃で２日間貯蔵した
試験片の後−燃焼時間の和／７０℃で７日間貯蔵した試
験片の後−燃焼時間の和／最長の個々の後−燃焼時間。

抗炎性の分類に追加して与えられている数値データは抗
炎性を評価するための付加的情報を提供するものでろる
。

実施例　２ Ｔ　Ａｆ　Ｂ　Ｐ　Ｆ／　Ｔ　Ｍ　Ｂ　Ｐ　Ａモル比７
５／２５のコポリカーボネート、ＳＡＮもしくはＡＢＳ
及びトリフェニルホスフェート、及び随時ポリテトラフ
ルオロエチレンの混合物の抗炎性 表２に記載の混合物をつくシ実圧倒１記載の如く加工し
て試験片とした。表２に見られる如く、試験は次の結果
を与えた。ＴＭＢＰＦ／ＴＭＢＰＡ、７５／２５モル比
のコポリカーボネートとＳＡＭもしくはＡＢＳとの混合
物に５重量％のトリフェニルホスフェートを添加すると
、その抗炎性が著しく増大する（実施例２αと２ｂ及び
２ｅと２１を比較せよ）。、＋？リテトラフルオロエチ
レン０．２重量％を添加することによシ燃焼時間が更に
短縮される（ＵＬ第９、実施例２ｂと２Ｇ及び実施例２
ｆと２１参照ン。トリフェニルホスフェートの量を５重
量％から１０重量％に増し、一方ポリテトラフルオロエ
チレンの量を一定に保つと燃焼時間を更に短縮する（Ｕ
Ｌ第９、実施例２Ｃと２ｄ及び実施例２ｇと２ｈ参照）
。

表２において、 ＮＰＣ，ＡＢＳ”、ＴＰＰ、ＰＴＦＥ＝実施例１におけ
る説明と同じ、ｆ、ＶＵ、Ｖｌ及びＶＧ＝実施例１にお
ける説明と同じ、”ＵＬ第９４”における数値データ＝
実施例１における説明と同じ、５ＡＮ＝スチレン／アク
リロニトリルコポリマー（９０／１０）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ａ）式（１）及び／または（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、Ｘは単一結合、Ｃ＿１〜Ｃ＿５−アルキレン、
   Ｃ＿２〜Ｃ＿５−アルキリデン、シクロヘキシレン、シ
   クロヘキシリデンまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の２価の基である） の二官能性構造単位の５０〜１００モル％、及び式（３
   ） ▲数式、化学式、表等があります▼（３） （式中、−Ｏ−Ｄ−Ｏ−は構造単位（１）及び（２）に
   おけるものとは別のハロゲンを含まず、 硫黄を含まずそして燐を含まないジフエノ レート基である） の別の二官能性構造単位の５０〜０モル％、を含有する
   、熱可塑性のハロゲンを含まず、硫黄を含まずそして燐
   を含まない芳香族ポリカーボネート、 ｂ）重量平均分子量１０，０００〜６００，０００のハ
   ロゲンを含まないスチレンポリマー、及び／または ｃ）ゴム：グラフトモノマーの重量比 ９５％：７％乃至５％：９５％に基づく、ハロゲンを含
   まないゴム上ヘハロゲンを含まないモノママーがグラフ
   トされたハロゲンを含まないグラフトポリマー、 ｄ）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（７） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＲ＿３は同一もしくは相異
   なり、Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿０−炭化水素基であり、Ｒ＿１
   、Ｒ＿２及びＲ＿３の少くとも二つは置換されもしくは
   置換されていないアリール基 である） のハロゲンを含まずそして硫黄を含まないホスフェート
   エステル、及び、所望により、 ｅ）テトラフルオロエチレンポリマー、 を含有し、ここで成分ａ）は２５〜９５重量％の量で存
   在し、成分ｂ）は、もし存在するならば、２〜７４重量
   ％の量で存在し、成分ｃ）は、もし存在するならば、２
   〜７４重量％乃量で存在し成分ｄ）は１〜４５重量％の
   量で存在し、そして成分ｅ）は、もし存在するならば、
   ０〜５重量％の量で存在し、成分ｂ）＋ｃ）の和は各場
   合少くとも４重量％でありそして全成分の和は各場合１
   ００重量％である、熱可塑性ポリマー混合物。 ２、成分ａ）は式（１）及び／または（２）の構造単位
   ７５モル％〜１００モル％及び式（３）の構造単位２５
   モル％〜０モル％を含有する、特許請求の範囲第１項記
   載のポリマー混合物。 ３、成分ａ）は式（１）及び／または（２）の構造単位
   ９０モル％〜１００モル％及び式（３）の構造単位１０
   モル％〜０モル％を含有する、特許請求の範囲第１項記
   載のポリマー混合物。 ４、成分ａ）は式（１）及び／または（２）の構造単位
   １００モル％及び式（３）の構造単位０モル％を含有す
   る、特許請求の範囲第１項記載のポリマー混合物。 ５、基−Ｏ−Ｄ−Ｏ−は炭素、水素及び酸素原子のみよ
   り構成されている、特許請求の範囲第１〜３項のいずれ
   かに記載のポリマー混合物。 ６、基−Ｏ−Ｄ−Ｏ−は炭素原子６〜３０を有する、特
   許請求の範囲第５項記載のポリマー混合物。 ７、成分ｃ）のグラフトポリマーはゴム：グラフトモノ
   マーの重量比９０％：１０％乃至７０％：３０％または
   ５０％：５０％乃至１０％：９０％を有する、特許請求
   の範囲第１〜６項のいずれかに記載のポリマー混合物。 ８、成分ａ）は３５〜９０重量％の量で存在する、特許
   請求の範囲第１〜７項のいずれかに記載のポリマー混合
   物。 ９、成分ａ）は４５〜７０重量％または８０〜９０重量
   ％の量で存在する、特許請求の範囲第８項記載のポリマ
   ー混合物。 １０、成分ｄ）は２．５〜３０重量％の量で存在する、
   特許請求の範囲第１〜９項のいずれかに記載のポリマー
   混合物。 １１、成分ｄ）は５−１５重量％の量で存在する、特許
   請求の範囲第１０項記載のポリマー混合物。 １２、成分ｅ）は０．０２〜２重量％の量で存在する、
   特許請求の範囲第１〜１１項のいずれかに記載のポリマ
   ー混合物。 １３、成分ｅ）は０．０５〜０．５重量％の量で存在す
   る、特許請求の範囲第１２項記載のポリマー混合物。 １４、成分ｂ）及び／または成分ｃ）は各場合５〜６５
   重量％の量で存在する、特許請求の範囲第１〜１３項の
   いずれかに記載のポリマー混合物。 １５、成分ｂ）及び／または成分ｃ）は各場合９〜５４
   重量％の量で存在する、特許請求の範囲第１４項記載の
   ポリマー混合物。 １６、式（１）の構造単位はビス−（３，５−ジメチル
   −４−ヒドロキシフェニル）−メタンから誘導される、
   特許請求の範囲第１〜１５項のいずれかに記載のポリマ
   ー混合物。 １７、式（１）の構造単位は特許請求の範囲第１６項記
   載のジフエノールとは別の、明細書中特記されている式
   （４）のジフエノールのいずれからか誘導される、特許
   請求の範囲第１〜１５項のいずれかに記載のポリマー混
   合物。 １８、成分ｄ）のホスフェートエステルはトリス−（フ
   ェニル）ホスフェート、トリス−（メチルフェニル）ホ
   スフェートまたはビス−（フエニル）メチルフェニルホ
   スフェートである、特許請求の範囲第１〜１７項のいず
   れかに記載のポリマー混合物。 １９、成分ｄ）のホスフェートエステルは特許請求の範
   囲第１８項記載のホスフェートエステルとは別の、明細
   書中特記されている式（７）の化合物のいずれかである
   、特許請求の範囲第１〜１７項のいずれかに記載のポリ
   マー混合物。 ２０、明細書の実施例中に特記されている特許請求の範
   囲第１項記載のいずれかのポリマー混合物。 ２１、抗炎性仕上げを施すべき熱可塑性物品製造のため
   の防炎剤としての特許請求の範囲第１〜２０項のいずれ
   かに記載のポリマー混合物を使用する熱可塑性物品の防
   炎方法。