JPS6159827A - 電子ビ−ム露光方式 - Google Patents
電子ビ−ム露光方式Info
- Publication number
- JPS6159827A JPS6159827A JP18206284A JP18206284A JPS6159827A JP S6159827 A JPS6159827 A JP S6159827A JP 18206284 A JP18206284 A JP 18206284A JP 18206284 A JP18206284 A JP 18206284A JP S6159827 A JPS6159827 A JP S6159827A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shot
- shots
- rectangular
- pattern
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は矩形パターンをショットに分割し、順次露光し
ていく矩形分割方式の電子ビーム露光方式に関する。
ていく矩形分割方式の電子ビーム露光方式に関する。
第８図に従来の矩形分割方式の電子ビーム露光装置の一
例について概要を示してあシ、電子＠１゜ビームブラン
キング電極２．電子レン、（３，６，８，９゜１段目ア
パーチャ４．ビーム形状寸法制御電極５゜２段目アパー
チャア、位置決めデフレクタ１０．試料１１から構成さ
れている。 １段目の７パーチヤ４で得られた成形像を
２段目のアパーチャに、発生すべきパターン寸法に応じ
て５のビーム形状寸法制御電極に加える電圧を変えて偏
部制御し、位置を変えて投影し、２段目アパーチャア０
通過成分を試料上に縮小投影する方式である。実際の露
光にあたっては、露光すべきパターンを矩形に分割し、
ビーム形状寸法を上記ビーム形状寸法制御電極５で決め
、ブランキング時に位置決めデフレクタ１０で位置決め
し、ブランキングを解除し、露光し、このサイクルの連
続で矩形パターンの塗シつぶしを行う。
例について概要を示してあシ、電子＠１゜ビームブラン
キング電極２．電子レン、（３，６，８，９゜１段目ア
パーチャ４．ビーム形状寸法制御電極５゜２段目アパー
チャア、位置決めデフレクタ１０．試料１１から構成さ
れている。 １段目の７パーチヤ４で得られた成形像を
２段目のアパーチャに、発生すべきパターン寸法に応じ
て５のビーム形状寸法制御電極に加える電圧を変えて偏
部制御し、位置を変えて投影し、２段目アパーチャア０
通過成分を試料上に縮小投影する方式である。実際の露
光にあたっては、露光すべきパターンを矩形に分割し、
ビーム形状寸法を上記ビーム形状寸法制御電極５で決め
、ブランキング時に位置決めデフレクタ１０で位置決め
し、ブランキングを解除し、露光し、このサイクルの連
続で矩形パターンの塗シつぶしを行う。
ところが、上記矩形分割方式の電子ビーム露光において
、分割パターンを次々とショットして矩形パターンの塗
りつぶしを行うとき、第１ショットは周囲の温度が上っ
ていないのに対して、第２ショット以降は周囲の温度が
上っている。レジストの感度には温度依存性があるから
、その結果、第１ショットだけが薄くな少、第６図のご
とく第１ショット■の角１２が凹んでしまう。−次元パ
ターンの場合は、第７図に示すごとく、第１ショット■
の部分が薄くなる結果、長さが短かくなる。
、分割パターンを次々とショットして矩形パターンの塗
りつぶしを行うとき、第１ショットは周囲の温度が上っ
ていないのに対して、第２ショット以降は周囲の温度が
上っている。レジストの感度には温度依存性があるから
、その結果、第１ショットだけが薄くな少、第６図のご
とく第１ショット■の角１２が凹んでしまう。−次元パ
ターンの場合は、第７図に示すごとく、第１ショット■
の部分が薄くなる結果、長さが短かくなる。
同様のことは最後のショット、例えは■と折シ返しの第
１ショット、例えば■においても生ずる。
１ショット、例えば■においても生ずる。
本発明は、矩形パターンを矩形のショットに分割し、順
次露光していく電子ビーム露光方式において、矩形の第
１ショット、最後のショット、及び折返しの最初のショ
ットの少なくともいずれかを他のショットに比べてショ
ット時間を長くする。
次露光していく電子ビーム露光方式において、矩形の第
１ショット、最後のショット、及び折返しの最初のショ
ットの少なくともいずれかを他のショットに比べてショ
ット時間を長くする。
それによシ、矩形の第１ショット、最後のショット、折
返しの第１ショットにおいて他のショットより露光量が
増加し、その結果各ショットとも適正に露光することが
できる。
返しの第１ショットにおいて他のショットより露光量が
増加し、その結果各ショットとも適正に露光することが
できる。
第２図に一次元パターンの場合を拡大して示してオシ、
従来、Ｂのように周囲温度が上っていない第１ショット
■は露光が他の■以下のショット に比較して不足す
るから、等感度面をとると線幅が狭く、かつ長さが短か
くなってしまう。次々とショットされる■以下は前のシ
ョットで周囲温度が高くなっているから、露光感度が高
くなっている。これに対して、本発明の第２図のＡの場
合、第１のショット■は、他の■以下のショットよりシ
ョット時間が長いから、第１ショットの露光量が増大し
、露光不足が解消する結果、Ａのごとく、各ショットと
も適正露光を行うことができる。第４図はポジレジスト
の感度曲線であシ、初期の膜厚が現像後どれだけになる
かを示し、温度が高い程、レジストの感度が良くなるこ
とが示されている。他方第５図には、５０Ａ／ａｍ”の
電子ビームで露光した時のレジストの温度変化の様子を
示すものであって、図示のごとく第１のショットは周囲
温度が低いから、温度の上）方が遅く、ショット終了時
の温度が比較的に低い。したがって、゛電子ビームのエ
ネルギは各ショットとも一定なのだが、温度の上シ方が
低い第１ショットは第２図Ｂのように等感度面が薄くな
る。これに対して、本発明において、第１ショットのシ
ョット時間を第２ショット以下よシ長くすれば、第１シ
ョットの温度が上）、各ショットの温度が均一化される
から、レジスト感度の不揃が防止される。第３図のよう
にパターンを分割露光する場合には第１ショットの■の
他、最後のショット、例えば■や折返しの最初のショッ
ト０等斜線の部分のショットが薄くなるから、これらに
ついても第１ショット■と同様に無光時間を長くすれば
良い。
従来、Ｂのように周囲温度が上っていない第１ショット
■は露光が他の■以下のショット に比較して不足す
るから、等感度面をとると線幅が狭く、かつ長さが短か
くなってしまう。次々とショットされる■以下は前のシ
ョットで周囲温度が高くなっているから、露光感度が高
くなっている。これに対して、本発明の第２図のＡの場
合、第１のショット■は、他の■以下のショットよりシ
ョット時間が長いから、第１ショットの露光量が増大し
、露光不足が解消する結果、Ａのごとく、各ショットと
も適正露光を行うことができる。第４図はポジレジスト
の感度曲線であシ、初期の膜厚が現像後どれだけになる
かを示し、温度が高い程、レジストの感度が良くなるこ
とが示されている。他方第５図には、５０Ａ／ａｍ”の
電子ビームで露光した時のレジストの温度変化の様子を
示すものであって、図示のごとく第１のショットは周囲
温度が低いから、温度の上）方が遅く、ショット終了時
の温度が比較的に低い。したがって、゛電子ビームのエ
ネルギは各ショットとも一定なのだが、温度の上シ方が
低い第１ショットは第２図Ｂのように等感度面が薄くな
る。これに対して、本発明において、第１ショットのシ
ョット時間を第２ショット以下よシ長くすれば、第１シ
ョットの温度が上）、各ショットの温度が均一化される
から、レジスト感度の不揃が防止される。第３図のよう
にパターンを分割露光する場合には第１ショットの■の
他、最後のショット、例えば■や折返しの最初のショッ
ト０等斜線の部分のショットが薄くなるから、これらに
ついても第１ショット■と同様に無光時間を長くすれば
良い。
第１図において、パターンメモリ１３から露光すべきパ
ターンについて矩形パターンの始点（ｘｌ＋ｙ＋）と大
きさくｘ＊、ｙｔ）を読出し、矩形分解回路１４はショ
ットサイズ（ｓｒ、Ｓｙ）とショット位ｆＲＣｚ、ｖ’
）を決定する。これらのデータは適当な段数のシアニ ドレジスタ１５を経てＤ／Ａ変換器でアナログ信号−シ に変え、電子ビーム露光装置のコフムに与える。
ターンについて矩形パターンの始点（ｘｌ＋ｙ＋）と大
きさくｘ＊、ｙｔ）を読出し、矩形分解回路１４はショ
ットサイズ（ｓｒ、Ｓｙ）とショット位ｆＲＣｚ、ｖ’
）を決定する。これらのデータは適当な段数のシアニ ドレジスタ１５を経てＤ／Ａ変換器でアナログ信号−シ に変え、電子ビーム露光装置のコフムに与える。
第８図の場合、（ｚ、ｙ）をｖ／Ａ変換した信号を位置
決めデフレクタ１０に、また（ｓｒ、Ｓｙ）をＤ ７／
を変換したデータをビーム形状寸法制御電極５に加える
。
決めデフレクタ１０に、また（ｓｒ、Ｓｙ）をＤ ７／
を変換したデータをビーム形状寸法制御電極５に加える
。
ショット時間はシフトレジスタの各段のクロック入力部
１６に与えるクロック＜ｃｒ、ｘ＞をカウントして設定
する。矩形分割の第１クロツクとして設定、するものと
第２クロツク以下として設定するものとで変化させれば
良い。例えば、カウンタ値を１０００に設定したときシ
ョット時間を１μｚｇｃとすれば、８００で２０％減、
１２００で２０チ増となる。第１ショット時間は他
のショットよシ２０チ〜５０チ長く設定すれば、露光が
適切になる。
１６に与えるクロック＜ｃｒ、ｘ＞をカウントして設定
する。矩形分割の第１クロツクとして設定、するものと
第２クロツク以下として設定するものとで変化させれば
良い。例えば、カウンタ値を１０００に設定したときシ
ョット時間を１μｚｇｃとすれば、８００で２０％減、
１２００で２０チ増となる。第１ショット時間は他
のショットよシ２０チ〜５０チ長く設定すれば、露光が
適切になる。
本発明によれば、以上のごとく、矩形分割方式の電子ビ
ーム露光方式において、矩形の第１ショット、最後のシ
ョット及び折返しの最初のショット等の露光量を増加さ
せることができ、第１シヨツ″ト等が薄くなる問題が解
決でき、高精度なパターン形成が可能となる利点がある
。
ーム露光方式において、矩形の第１ショット、最後のシ
ョット及び折返しの最初のショット等の露光量を増加さ
せることができ、第１シヨツ″ト等が薄くなる問題が解
決でき、高精度なパターン形成が可能となる利点がある
。
第１図は本発明の一実施例の構成図、
第炎図は一次元の分割露光パターンを示す図、第３図は
矩形パターンの分割ショットを示す本発明による露光例
を示す図、 第４図はポジレジストの感度曲線を示す図、第５図はシ
ョット部のレジスト温度の変化を示す図、 第６図、第７図はそれぞれ従来の矩形パターン及び１次
元パターンの矩形分割露光例を示す図、第８図は電子ビ
ーム露光装置の一例を示す図。 １・・・電子鏡 ２・・・ビームブランキング電極 ３．６，８．９・・・電子レンズ ４・・・１段目アパーチャ ５・・・ビーム形状寸法制御電極 ７・・・２段目アパーチャ １０・・・位置決めテ７レクタ １１・・・試 料 １３・・・パターンメモリ １４・・・矩形分解回路 １５・・・シフトレジスタ １６・・・クロック入力部 １７・・・Ｚ）／、４変換器 １８・・・コラム 第 １ 図 第 ２ 口 第 ３ 図 第４図 第 ５ 図 照 射ｖｆ 閤 鼾 ６ 図 ［］■ ■ ■ ■ ■ ■ 第 ８ 図
矩形パターンの分割ショットを示す本発明による露光例
を示す図、 第４図はポジレジストの感度曲線を示す図、第５図はシ
ョット部のレジスト温度の変化を示す図、 第６図、第７図はそれぞれ従来の矩形パターン及び１次
元パターンの矩形分割露光例を示す図、第８図は電子ビ
ーム露光装置の一例を示す図。 １・・・電子鏡 ２・・・ビームブランキング電極 ３．６，８．９・・・電子レンズ ４・・・１段目アパーチャ ５・・・ビーム形状寸法制御電極 ７・・・２段目アパーチャ １０・・・位置決めテ７レクタ １１・・・試 料 １３・・・パターンメモリ １４・・・矩形分解回路 １５・・・シフトレジスタ １６・・・クロック入力部 １７・・・Ｚ）／、４変換器 １８・・・コラム 第 １ 図 第 ２ 口 第 ３ 図 第４図 第 ５ 図 照 射ｖｆ 閤 鼾 ６ 図 ［］■ ■ ■ ■ ■ ■ 第 ８ 図
Claims (1)
- 矩形パターンを複数のショットに分割し、順次露光し
ていく電子ビーム露光方式において、矩形の第１ショッ
ト、最後のショット、及び折返しの最初のショットの少
なくともいずれかを他のショットに比べてショット時間
を長く設定することを特徴とする電子ビーム露光方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18206284A JPS6159827A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 電子ビ−ム露光方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18206284A JPS6159827A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 電子ビ−ム露光方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6159827A true JPS6159827A (ja) | 1986-03-27 |
Family
ID=16111674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18206284A Pending JPS6159827A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 電子ビ−ム露光方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6159827A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58135641A (ja) * | 1982-02-06 | 1983-08-12 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム露光方法 |
| JPS5922325A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム描画装置 |
| JPS59208720A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Hitachi Ltd | 描画方法および装置 |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP18206284A patent/JPS6159827A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58135641A (ja) * | 1982-02-06 | 1983-08-12 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム露光方法 |
| JPS5922325A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム描画装置 |
| JPS59208720A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Hitachi Ltd | 描画方法および装置 |
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