JPS6158835A - ホウロウ釉薬組成物 - Google Patents
ホウロウ釉薬組成物Info
- Publication number
- JPS6158835A JPS6158835A JP17693784A JP17693784A JPS6158835A JP S6158835 A JPS6158835 A JP S6158835A JP 17693784 A JP17693784 A JP 17693784A JP 17693784 A JP17693784 A JP 17693784A JP S6158835 A JPS6158835 A JP S6158835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frit
- glaze
- enamel
- thermal expansion
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、ホウロウ用釉薬の製造技術の分野に属する
。特に低融点ホウロウ用下釉薬の製造技術の分野に属す
る。
。特に低融点ホウロウ用下釉薬の製造技術の分野に属す
る。
従来、ホウロウは８００〜９００℃という高温で焼成さ
れていた。しかし高温焼成のため、素地である鋼板が熱
変形を起こし、結局寸法精度が悪いという欠点が現われ
る。一方省エネルギーの立場からも、低温ホウロウが強
（求められていた。
れていた。しかし高温焼成のため、素地である鋼板が熱
変形を起こし、結局寸法精度が悪いという欠点が現われ
る。一方省エネルギーの立場からも、低温ホウロウが強
（求められていた。
低温焼成ホウロウについては、本願発明者らは幾つかの
提案を行っている（特願昭５４−０９９７６１号、特願
昭５８−０７８５１２号など）。
提案を行っている（特願昭５４−０９９７６１号、特願
昭５８−０７８５１２号など）。
ところで、ホウロウ製品の構成を考えた場合、素地であ
る鋼板の上に、鋼板との密着性向上をねらいとした下釉
薬層があり、その上に化粧および耐久性番ねらいとしｙ
上釉層が設けられた構成が一般的であると言える。この
下釉薬層を低温で焼成することができないと、上釉薬を
低温で焼成してもその効果は半減する。
る鋼板の上に、鋼板との密着性向上をねらいとした下釉
薬層があり、その上に化粧および耐久性番ねらいとしｙ
上釉層が設けられた構成が一般的であると言える。この
下釉薬層を低温で焼成することができないと、上釉薬を
低温で焼成してもその効果は半減する。
従来から、低温で焼成できる下釉フリットは市販されて
いる。しかし、これらを従来から知られている上釉薬配
合でスリップ化し、焼成した後止Ｎｉ薬を塗装し、焼成
すると、密着性はよいものの１ヘアーラインすなわちホ
ウロウ製品の外観不良か認められた。
いる。しかし、これらを従来から知られている上釉薬配
合でスリップ化し、焼成した後止Ｎｉ薬を塗装し、焼成
すると、密着性はよいものの１ヘアーラインすなわちホ
ウロウ製品の外観不良か認められた。
〔発明の目的」
この発明は、低温焼成が可能で、ヘアーラインなどの不
良の発生しないホウロウ用釉薬を提供することを目的と
する。
良の発生しないホウロウ用釉薬を提供することを目的と
する。
ヘアーラインの発生の原因を種々検討した結果、下釉フ
リットの熱膨張係数が大きいことが問題であることが判
った。たとえば日本フェロ−社が販売している下釉フリ
ッ）＃：２２４０、＃２２４６の熱膨張係数は、それぞ
れ１１２Ｘ１０ ／’Ｃ、ＩＩＩＸＩＯ／’Ｃである
。
リットの熱膨張係数が大きいことが問題であることが判
った。たとえば日本フェロ−社が販売している下釉フリ
ッ）＃：２２４０、＃２２４６の熱膨張係数は、それぞ
れ１１２Ｘ１０ ／’Ｃ、ＩＩＩＸＩＯ／’Ｃである
。
そこで低温で焼成でき、鋼板との密着性かよく、熱膨張
係数の小さいフリットがあれば、下釉、上釉共に低温で
焼成することかできると考えられた。しかも、このよう
な性質のフリットは現在知られていない。
係数の小さいフリットがあれば、下釉、上釉共に低温で
焼成することかできると考えられた。しかも、このよう
な性質のフリットは現在知られていない。
この発明は、以上のような実情の下で、フリットの熱膨
張係数を低下させる方法につき検討した結果、フリット
１００ｍｆｆ１ｆｆｉｌこ対し、βニークリ１タイト、
チタン酸鉛、チタン酸アルミニウムの１押または２押以
上を、３〜２０重景％型皿することにより、目的を達成
し得ることを知った。以下詳しく説明する。
張係数を低下させる方法につき検討した結果、フリット
１００ｍｆｆ１ｆｆｉｌこ対し、βニークリ１タイト、
チタン酸鉛、チタン酸アルミニウムの１押または２押以
上を、３〜２０重景％型皿することにより、目的を達成
し得ることを知った。以下詳しく説明する。
前記βユークリプタイト、チタン酸アルミニウム、チタ
ン酸鉛はセラミックフィラーとしては公知であり、５０
〜３５０℃で徳の熱膨張係数をもつことが知られている
。
ン酸鉛はセラミックフィラーとしては公知であり、５０
〜３５０℃で徳の熱膨張係数をもつことが知られている
。
具体的に熱膨張係数を示すと以下の通りであるβユーク
リプタイト −６０−８０Ｘ１０．八（５０〜３５０
℃） チタン酸鉛 −４０〜−５３Ｘ１０ ／’Ｃ（
５０〜３５０℃） チタン酸アルミニウム −３〜−１０ＸＩＯ／’Ｃ
（５０〜３５０℃） これを下釉薬に配合することにより、間接的に熱膨張係
数を小さくすることが実現されたのである。つまり、前
記フィラーは下釉薬焼成後も下釉フリットに完全に溶は
込むことなく存在し、上釉焼成時に実質的に有効な熱膨
張係数を発現し、ヘアーラインなどの外観不良もなくす
ことができたものである。
リプタイト −６０−８０Ｘ１０．八（５０〜３５０
℃） チタン酸鉛 −４０〜−５３Ｘ１０ ／’Ｃ（
５０〜３５０℃） チタン酸アルミニウム −３〜−１０ＸＩＯ／’Ｃ
（５０〜３５０℃） これを下釉薬に配合することにより、間接的に熱膨張係
数を小さくすることが実現されたのである。つまり、前
記フィラーは下釉薬焼成後も下釉フリットに完全に溶は
込むことなく存在し、上釉焼成時に実質的に有効な熱膨
張係数を発現し、ヘアーラインなどの外観不良もなくす
ことができたものである。
なお、フィラーの配合割合か３重量％を下まわると実質
的効果が得られず、一方２０重量悌を超えるとかえって
熱形張係数が合わな（なる。
的効果が得られず、一方２０重量悌を超えるとかえって
熱形張係数が合わな（なる。
以下実施例に基づき説明する。
実施例
表１の配合により実施しｌ；。実施結果も表１に併記し
た。但し実施例１〜４は表２に示した配合Ｂのミルを使
用し、比較例は表２の配合Ａのミルを使用した。
た。但し実施例１〜４は表２に示した配合Ｂのミルを使
用し、比較例は表２の配合Ａのミルを使用した。
なＳ、上釉としＣは、実施例１の場合、日本フェロ−社
製フリット（品名：１５５３Ｂ）を使用し、その他の実
施例および比較例は、表３のフリットを使用した。
製フリット（品名：１５５３Ｂ）を使用し、その他の実
施例および比較例は、表３のフリットを使用した。
ヘアーラインの有無の横置は第１図に示したような方法
で行なった。つまり施釉−板（テストピース）にダイス
（Ｎ１２４）を２個所に押し付け、凹みを生成させ、そ
の周囲にヘアーラインが発生するか否かを目視判定した
。第１図インは、検査方法を示す側１ｌｔｏ図で、１は
訂・ｉ仮、２はホウロウ層、３は凹み、４はダイスであ
る。第１図（口Ｊはサンプルの平０］Ｊ図である。
で行なった。つまり施釉−板（テストピース）にダイス
（Ｎ１２４）を２個所に押し付け、凹みを生成させ、そ
の周囲にヘアーラインが発生するか否かを目視判定した
。第１図インは、検査方法を示す側１ｌｔｏ図で、１は
訂・ｉ仮、２はホウロウ層、３は凹み、４はダイスであ
る。第１図（口Ｊはサンプルの平０］Ｊ図である。
表２
表３ Ｄフリット組成
米Ｆ２は酸素の置換にで示した
第１図はヘアーライ：／の検査方法を示す図であり、イ
Ｊは側ＦｆＩｉ色、使）はサンプルの平曲図である。 １・・・・・・鋼板 ２・・・・・・ホウロウ ３・・・・・・凹み ４・・・・・・ダイス
Ｊは側ＦｆＩｉ色、使）はサンプルの平曲図である。 １・・・・・・鋼板 ２・・・・・・ホウロウ ３・・・・・・凹み ４・・・・・・ダイス
Claims (1)
- （１）ホウロウ用釉薬配合において、フリット１００重
量部に対して、β−ユークリプタイト、チタン酸鉛、チ
タン酸アルミニウムの１種または２種以上を、３〜２０
重量％配合したことを特徴とするホウロウ用釉薬組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17693784A JPS6158835A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | ホウロウ釉薬組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17693784A JPS6158835A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | ホウロウ釉薬組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6158835A true JPS6158835A (ja) | 1986-03-26 |
Family
ID=16022344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17693784A Pending JPS6158835A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | ホウロウ釉薬組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6158835A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101238264B1 (ko) | 2010-12-21 | 2013-03-04 | 명지대학교 산학협력단 | 티알라이트계 회색 안료 및 이의 제조방법 |
| CN105906210A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-08-31 | 李俊 | 建水陶青花施釉刊刻填泥融合制作方法 |
| CN106082706A (zh) * | 2009-12-17 | 2016-11-09 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 可辐射固化光纤涂料组合物的led固化 |
| CN112592062A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-04-02 | 景德镇乐华陶瓷洁具有限公司 | 修补釉及使用其的卫生陶瓷的制备方法 |
-
1984
- 1984-08-24 JP JP17693784A patent/JPS6158835A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106082706A (zh) * | 2009-12-17 | 2016-11-09 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 可辐射固化光纤涂料组合物的led固化 |
| KR101238264B1 (ko) | 2010-12-21 | 2013-03-04 | 명지대학교 산학협력단 | 티알라이트계 회색 안료 및 이의 제조방법 |
| CN105906210A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-08-31 | 李俊 | 建水陶青花施釉刊刻填泥融合制作方法 |
| CN112592062A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-04-02 | 景德镇乐华陶瓷洁具有限公司 | 修补釉及使用其的卫生陶瓷的制备方法 |
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