JPS6157626B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6157626B2 JPS6157626B2 JP15520280A JP15520280A JPS6157626B2 JP S6157626 B2 JPS6157626 B2 JP S6157626B2 JP 15520280 A JP15520280 A JP 15520280A JP 15520280 A JP15520280 A JP 15520280A JP S6157626 B2 JPS6157626 B2 JP S6157626B2
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- JP
- Japan
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- mask
- brush
- cassette
- cleaning
- washing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 26
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 19
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 241000189524 Baccharis halimifolia Species 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置製造用パターンマスクを完
全自動化して洗浄できるマスク洗浄装置に関する
ものである。
全自動化して洗浄できるマスク洗浄装置に関する
ものである。
各種IC素子、トランジスタ素子等の半導体装
置のパターン形成工程ではパターンに対応したフ
オトマスクが繰返し用いられる。このようなパタ
ーン形成用マスクは繰返し使用した後作業者の手
垢あるいは塵埃を除去するために洗浄される。従
来、このようなマスク洗浄は作業者により一枚毎
に手で洗浄槽内で洗浄ブラシ等を用いて行なわれ
ていた。しかしながら、多種類のマスクを多数用
いる大規模な半導体装置製造工程においては作業
者の手によるマスク洗浄作業は非常に能率が悪く
半導体装置製造工程の生産性を低下させるもので
あつた。
置のパターン形成工程ではパターンに対応したフ
オトマスクが繰返し用いられる。このようなパタ
ーン形成用マスクは繰返し使用した後作業者の手
垢あるいは塵埃を除去するために洗浄される。従
来、このようなマスク洗浄は作業者により一枚毎
に手で洗浄槽内で洗浄ブラシ等を用いて行なわれ
ていた。しかしながら、多種類のマスクを多数用
いる大規模な半導体装置製造工程においては作業
者の手によるマスク洗浄作業は非常に能率が悪く
半導体装置製造工程の生産性を低下させるもので
あつた。
本発明は上記の点に鑑みなされてものであつて
半導体装置製造用パターンを完全自動化して洗浄
液による洗浄、水洗および乾燥まで行なうマスク
洗浄装置の提供を目的とする。従つて、本発明に
係るマスク洗浄装置はパターン形成すべきウエー
ハの大きさに対応した洗浄すべきマスク（３イン
チ用、４インチ用、あるいは５インチ用）をこの
マスクの大きさに対応したマスクカセツトに両面
を露出させて保持し、このマスクカセツトをカセ
ツトホルダに収容し、このカセツトホルダはＸ軸
（横方向）駆動モータおよびＹ軸（縦方向）駆動
モータと連結して洗浄槽内を縦横方向に移動可能
とし、上記洗浄槽は水洗ノズル部、乾燥用エアナ
イフ部および洗浄ブラシ部を備え、上記洗浄ブラ
シ部に洗剤液供給管および純水供給管を連結し、
上記洗浄ブラシ部を構成する洗浄ブラシはブラシ
回転用駆動装置およびマスクに対し進退運動させ
るためのブラシ移動用駆動装置と連結している。
半導体装置製造用パターンを完全自動化して洗浄
液による洗浄、水洗および乾燥まで行なうマスク
洗浄装置の提供を目的とする。従つて、本発明に
係るマスク洗浄装置はパターン形成すべきウエー
ハの大きさに対応した洗浄すべきマスク（３イン
チ用、４インチ用、あるいは５インチ用）をこの
マスクの大きさに対応したマスクカセツトに両面
を露出させて保持し、このマスクカセツトをカセ
ツトホルダに収容し、このカセツトホルダはＸ軸
（横方向）駆動モータおよびＹ軸（縦方向）駆動
モータと連結して洗浄槽内を縦横方向に移動可能
とし、上記洗浄槽は水洗ノズル部、乾燥用エアナ
イフ部および洗浄ブラシ部を備え、上記洗浄ブラ
シ部に洗剤液供給管および純水供給管を連結し、
上記洗浄ブラシ部を構成する洗浄ブラシはブラシ
回転用駆動装置およびマスクに対し進退運動させ
るためのブラシ移動用駆動装置と連結している。
第１図は本発明に係るマスク洗浄装置の一実施
例の配管系統図である。洗浄槽１は水洗ノズル
２、エアナイフ３、水ブラシ４および洗剤ブラシ
５を備えている。水洗ノズル２には純水供給管６
からフイルタ２１ｂ、電磁弁２２ａ等を介して純
水が供給される。７は排水管である。高圧ガス供
給管８より例えば５Kg／cm2の窒素ガスがレギユレ
ータ１９ａを介して洗剤タンク９の上部空間内に
供給され、このガス圧力により洗剤供給管１０を
介して洗剤液がストレーナ２０、レギユレータ１
９ｃ、電磁弁２２ｃを介して洗剤ブラシ５に供給
される。水洗ノズル２はモータ１１より回転駆動
されるカム１２により首振り運動を行なう。エア
ナイフ３には高圧ガス供給管８からレギユレータ
１９ｂ、電磁弁２２ｄ、フイルタ２１ａを介して
上記窒素ガスが供給され洗浄したマスクを乾燥さ
せる。なお、窒素ガスに代えて圧縮空気を供給し
てもよい。このエアナイフ３はモータ１３により
洗浄すべきマスク２６に対し進退運動（図面で左
右方向の運動）を行なう。水ブラシ４および洗剤
ブラシ５は例えばスポンジ製であり、各々モータ
１４，１６により洗浄すべきマスク２６に対し進
退運動を行ないかつモータ１５，１７により回転
運動を行なう。水ブラシ４には電磁弁２２ｅを開
くことにより洗剤液を供給することも可能であ
る。水洗ノズル２はカム１２を備える代りに第２
図に示すように駆動装置２ａにより洗浄槽１内を
移動可能としてもよい。エアナイフ３はワイヤ２
３（第２図）を介してモータ１３により上記進退
運動を行なう。第２図の２４，２５は各々純水ホ
ースおよび洗浄液ホースである。洗浄すべきマス
ク２６は３インチ用、４インチ用あるいは５イン
チ用に合せて形成されたマスクカセツト２７に両
面を露出して保持され、このマスクカセツト２７
はカセツトホルダ２８に収容される。このカセツ
トホルダ２８はＸ軸駆動モータ２９によりチエー
ン３０を介して洗浄槽１内でＸ方向（横方向）に
移動可能である。さらにこのカセツトホルダ２８
はＹ軸駆動モータ３２によりワイヤ３３を介して
洗浄槽１内でＹ方向（縦方向）に移動可能であ
る。３１，３４はカセツトホルダの位置検出セン
サである。このようなマスク２６が例えば３イン
チ用のものであればそのマスクカセツト２７の下
部左端部に第３図に示すように磁石３６を埋設し
ておく。カセツトホルダ２８の下部内面の左右お
よび中央に磁気センサ３８，３９，４０を埋設し
ておく。４インチ用マスクカセツトはその下部中
央に磁石が埋設され、５インチ用マスクカセツト
はその下部右端部に磁石が埋設される。従つて、
マスクカセツトをカセツトホルダに挿入すれば例
えば第４図に示すように３インチ用マスクカセツ
ト２７を挿入した場合であれば磁石３６と磁気セ
ンサ３８が対面しこの磁気センサ３８によりマス
ク２６が３インチ用のものであることが識別され
る。
例の配管系統図である。洗浄槽１は水洗ノズル
２、エアナイフ３、水ブラシ４および洗剤ブラシ
５を備えている。水洗ノズル２には純水供給管６
からフイルタ２１ｂ、電磁弁２２ａ等を介して純
水が供給される。７は排水管である。高圧ガス供
給管８より例えば５Kg／cm2の窒素ガスがレギユレ
ータ１９ａを介して洗剤タンク９の上部空間内に
供給され、このガス圧力により洗剤供給管１０を
介して洗剤液がストレーナ２０、レギユレータ１
９ｃ、電磁弁２２ｃを介して洗剤ブラシ５に供給
される。水洗ノズル２はモータ１１より回転駆動
されるカム１２により首振り運動を行なう。エア
ナイフ３には高圧ガス供給管８からレギユレータ
１９ｂ、電磁弁２２ｄ、フイルタ２１ａを介して
上記窒素ガスが供給され洗浄したマスクを乾燥さ
せる。なお、窒素ガスに代えて圧縮空気を供給し
てもよい。このエアナイフ３はモータ１３により
洗浄すべきマスク２６に対し進退運動（図面で左
右方向の運動）を行なう。水ブラシ４および洗剤
ブラシ５は例えばスポンジ製であり、各々モータ
１４，１６により洗浄すべきマスク２６に対し進
退運動を行ないかつモータ１５，１７により回転
運動を行なう。水ブラシ４には電磁弁２２ｅを開
くことにより洗剤液を供給することも可能であ
る。水洗ノズル２はカム１２を備える代りに第２
図に示すように駆動装置２ａにより洗浄槽１内を
移動可能としてもよい。エアナイフ３はワイヤ２
３（第２図）を介してモータ１３により上記進退
運動を行なう。第２図の２４，２５は各々純水ホ
ースおよび洗浄液ホースである。洗浄すべきマス
ク２６は３インチ用、４インチ用あるいは５イン
チ用に合せて形成されたマスクカセツト２７に両
面を露出して保持され、このマスクカセツト２７
はカセツトホルダ２８に収容される。このカセツ
トホルダ２８はＸ軸駆動モータ２９によりチエー
ン３０を介して洗浄槽１内でＸ方向（横方向）に
移動可能である。さらにこのカセツトホルダ２８
はＹ軸駆動モータ３２によりワイヤ３３を介して
洗浄槽１内でＹ方向（縦方向）に移動可能であ
る。３１，３４はカセツトホルダの位置検出セン
サである。このようなマスク２６が例えば３イン
チ用のものであればそのマスクカセツト２７の下
部左端部に第３図に示すように磁石３６を埋設し
ておく。カセツトホルダ２８の下部内面の左右お
よび中央に磁気センサ３８，３９，４０を埋設し
ておく。４インチ用マスクカセツトはその下部中
央に磁石が埋設され、５インチ用マスクカセツト
はその下部右端部に磁石が埋設される。従つて、
マスクカセツトをカセツトホルダに挿入すれば例
えば第４図に示すように３インチ用マスクカセツ
ト２７を挿入した場合であれば磁石３６と磁気セ
ンサ３８が対面しこの磁気センサ３８によりマス
ク２６が３インチ用のものであることが識別され
る。
以上のようなマスク洗浄装置において、まず洗
浄すべきマスクを保持したカセツトホルダが所定
の洗浄開始位置（第１図一点鎖線）にセツトさ
れ、電磁弁２２ａを開いて水洗ノズル２で水洗い
される。次にモータ１６，１７を駆動して洗剤ブ
ラシ５を回転させながらマスク２６の両面に押付
け電磁弁２２ｃを開いて洗剤液を供給しマスク表
面を洗浄する。カセツトホルダの前記マスク識別
手段によりマスクの大きさが検知されこれに基い
てＸ軸駆動モータ２９（第２図）およびＹ軸駆動
モータ３２がマスクの大きさに応じてその洗浄す
べき表面全体が洗剤ブラシ５に接触するように自
動的に駆動される。マスク２６が縦横方向に移動
して全表面を洗剤液により洗浄し終ると電磁弁２
２ｃを閉じ洗剤ブラシ５を後退させる。次にモー
タ１４，１５を駆動して水ブラシ４が回転しなが
らマスク２６の両面に接触し、電磁弁２２ｂを開
いて純水を散布しつつマスク２６を水洗する。Ｘ
軸駆動モータおよびＹ軸駆動モータによりマスク
をその大きさに応じて縦横方向に移動させマスク
全面を水ブラシ４を用いて洗浄し終ると電磁弁２
２ｂを閉じ、再び電磁弁２２ａを開いてノズル２
によりマスク表面に純水を散布する。最後に電磁
弁２２ｄを開きエアナイフ３によりマスクを乾燥
させる。
浄すべきマスクを保持したカセツトホルダが所定
の洗浄開始位置（第１図一点鎖線）にセツトさ
れ、電磁弁２２ａを開いて水洗ノズル２で水洗い
される。次にモータ１６，１７を駆動して洗剤ブ
ラシ５を回転させながらマスク２６の両面に押付
け電磁弁２２ｃを開いて洗剤液を供給しマスク表
面を洗浄する。カセツトホルダの前記マスク識別
手段によりマスクの大きさが検知されこれに基い
てＸ軸駆動モータ２９（第２図）およびＹ軸駆動
モータ３２がマスクの大きさに応じてその洗浄す
べき表面全体が洗剤ブラシ５に接触するように自
動的に駆動される。マスク２６が縦横方向に移動
して全表面を洗剤液により洗浄し終ると電磁弁２
２ｃを閉じ洗剤ブラシ５を後退させる。次にモー
タ１４，１５を駆動して水ブラシ４が回転しなが
らマスク２６の両面に接触し、電磁弁２２ｂを開
いて純水を散布しつつマスク２６を水洗する。Ｘ
軸駆動モータおよびＹ軸駆動モータによりマスク
をその大きさに応じて縦横方向に移動させマスク
全面を水ブラシ４を用いて洗浄し終ると電磁弁２
２ｂを閉じ、再び電磁弁２２ａを開いてノズル２
によりマスク表面に純水を散布する。最後に電磁
弁２２ｄを開きエアナイフ３によりマスクを乾燥
させる。
以上のような構成のマスク洗浄装置においては
洗浄すべきマスクを保持したマスクカセツトをカ
セツトホルダに挿入することによりマスクの大き
さが識別されるため洗浄槽内でのカセツトホルダ
の移動範囲をマスク寸法に応じて予め設定してお
くことができ、これによつてＸ軸駆動モータおよ
びＹ軸駆動モータを自動的に制御させてマスクを
その大きさに応じて縦横方向に移動させることが
できる。また、モータ１１，１３，１４，１５，
１６，１７および電磁弁２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，２２ｄ，２２ｅの動作順序を予め設定してシ
ーケンス制御することにより水洗ノズル、エアナ
イフ、水ブラシ、洗剤ブラシを所望の順序で自動
的に作動させることができマスク洗浄作業の完全
自動化が達成される。
洗浄すべきマスクを保持したマスクカセツトをカ
セツトホルダに挿入することによりマスクの大き
さが識別されるため洗浄槽内でのカセツトホルダ
の移動範囲をマスク寸法に応じて予め設定してお
くことができ、これによつてＸ軸駆動モータおよ
びＹ軸駆動モータを自動的に制御させてマスクを
その大きさに応じて縦横方向に移動させることが
できる。また、モータ１１，１３，１４，１５，
１６，１７および電磁弁２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，２２ｄ，２２ｅの動作順序を予め設定してシ
ーケンス制御することにより水洗ノズル、エアナ
イフ、水ブラシ、洗剤ブラシを所望の順序で自動
的に作動させることができマスク洗浄作業の完全
自動化が達成される。
第１図は本発明に係るマスク洗浄装置の一実施
例の配管系統図、第２図は本発明に係るマスク洗
浄装置の構成図、第３図は本発明に係るマスク識
別機構の構成図、第４図は第３図のマスク識別機
構使用時の−断面図である。 １…洗浄槽、２…水洗ノズル、３…エアナイ
フ、４…水ブラシ、５…洗剤ブラシ、６…純水供
給配管、９…洗剤タンク、１０…洗剤液供給配
管、１１，１３，１４，１５，１６，１７…モー
タ、２６…マスク、２７…マスクカセツト、２８
…カセツトホルダ、２９…Ｘ軸駆動モータ、３２
…Ｙ軸駆動モータ。
例の配管系統図、第２図は本発明に係るマスク洗
浄装置の構成図、第３図は本発明に係るマスク識
別機構の構成図、第４図は第３図のマスク識別機
構使用時の−断面図である。 １…洗浄槽、２…水洗ノズル、３…エアナイ
フ、４…水ブラシ、５…洗剤ブラシ、６…純水供
給配管、９…洗剤タンク、１０…洗剤液供給配
管、１１，１３，１４，１５，１６，１７…モー
タ、２６…マスク、２７…マスクカセツト、２８
…カセツトホルダ、２９…Ｘ軸駆動モータ、３２
…Ｙ軸駆動モータ。
Claims (1)
- １ 半導体装置製造用パターンマスクを該マスク
寸法に対応したマスクカセツトに両面を露出させ
て保持し、該マスクカセツトをカセツトホルダに
収容し、該カセツトホルダはＸ軸駆動モータおよ
びＹ軸駆動モータと連結して洗浄槽内を縦横方向
に移動可能とし、上記洗浄槽は水洗ノズル部、乾
燥用エアナイフ部および洗浄ブラシ部を備え、上
記洗浄ブラシ部に洗剤液供給管および純水供給管
を連結し、上記洗浄ブラシ部を構成する洗浄ブラ
シはブラシ回転用駆動装置およびマスクに対し進
退運動させるためのブラシ移動用駆動装置と連結
したマスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15520280A JPS5779619A (en) | 1980-11-06 | 1980-11-06 | Mask cleansing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15520280A JPS5779619A (en) | 1980-11-06 | 1980-11-06 | Mask cleansing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5779619A JPS5779619A (en) | 1982-05-18 |
| JPS6157626B2 true JPS6157626B2 (ja) | 1986-12-08 |
Family
ID=15600723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15520280A Granted JPS5779619A (en) | 1980-11-06 | 1980-11-06 | Mask cleansing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5779619A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195653A (ja) * | 1983-04-21 | 1984-11-06 | Nec Corp | フオトマスクの洗浄方法および洗浄装置 |
| JPS6014244A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Fujitsu Ltd | マスク洗浄装置 |
| US4715392A (en) * | 1983-11-10 | 1987-12-29 | Nippon Kogaku K. K. | Automatic photomask or reticle washing and cleaning system |
| JPS60103349A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 基板の洗浄装置 |
| JPS6143430A (ja) * | 1984-08-07 | 1986-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | カセツト洗浄装置 |
| JPH0695508B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1994-11-24 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 基板の両面洗浄装置 |
| JP2613901B2 (ja) * | 1987-12-17 | 1997-05-28 | 九州日本電気株式会社 | 縮小投影型露光装置 |
-
1980
- 1980-11-06 JP JP15520280A patent/JPS5779619A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5779619A (en) | 1982-05-18 |
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