JPS6157610A - 感光性共重合体およびその製造方法 - Google Patents
感光性共重合体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6157610A JPS6157610A JP17760884A JP17760884A JPS6157610A JP S6157610 A JPS6157610 A JP S6157610A JP 17760884 A JP17760884 A JP 17760884A JP 17760884 A JP17760884 A JP 17760884A JP S6157610 A JPS6157610 A JP S6157610A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- molecular weight
- lower alkyl
- photosensitive
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の惑元注共重合体は、前記一般式(I)で表わさ
れる単量体(以下、「単量体■」という。)K工び前記
一般式(ff)で表わされる単量体(以下、「単量体■
」という。・)との共電1合体であって、そのポリスチ
レン換算数平均分子量が100,000〜500.00
0と特定の範囲内にある共重合体である。
れる単量体(以下、「単量体■」という。)K工び前記
一般式(ff)で表わされる単量体(以下、「単量体■
」という。・)との共電1合体であって、そのポリスチ
レン換算数平均分子量が100,000〜500.00
0と特定の範囲内にある共重合体である。
前記単量体■としては、4′−アクリロキシカルコン、
゛4′−メタクロイロキシカル;ン、4’−(α−エチ
ル)−アクリロキシカルコン、4/ (α−プロピル
)−7クリロキシカルコン 41−(α−グチル)アク
リロキシカルコン、4′−アクリロキンー4−メトキシ
カルコン、4′−アクリロキシ−4−エトキシカルコン
、4′−メタクロイロキシ−4−メトキシカルコン、4
′−メタクロイロキシ−4−エトキシカルコン、4’−
(α−エチル)アクリロキシ−4−メチルカルコン 4
/ ++ (α−ブチル)ア・り゛°リロキシー4−メ
トキシカルコン、 4’−(α+ブチル)アクリロキ
シ−4−エトキシカルコン、41−アク、クロキシ−4
−ブトキシカルコン、4′−メタクロイロキシ−4−ブ
トキシカルコン、4′−アクリロキシ−4−メチルカル
コン、4′−アクリロキシ−4−エチルカルコン、4′
−メタクリ口中シー4−ブチルカルコン等?例示するこ
とができる。これらの単量体Iは併用することもできる
。
゛4′−メタクロイロキシカル;ン、4’−(α−エチ
ル)−アクリロキシカルコン、4/ (α−プロピル
)−7クリロキシカルコン 41−(α−グチル)アク
リロキシカルコン、4′−アクリロキンー4−メトキシ
カルコン、4′−アクリロキシ−4−エトキシカルコン
、4′−メタクロイロキシ−4−メトキシカルコン、4
′−メタクロイロキシ−4−エトキシカルコン、4’−
(α−エチル)アクリロキシ−4−メチルカルコン 4
/ ++ (α−ブチル)ア・り゛°リロキシー4−メ
トキシカルコン、 4’−(α+ブチル)アクリロキ
シ−4−エトキシカルコン、41−アク、クロキシ−4
−ブトキシカルコン、4′−メタクロイロキシ−4−ブ
トキシカルコン、4′−アクリロキシ−4−メチルカル
コン、4′−アクリロキシ−4−エチルカルコン、4′
−メタクリ口中シー4−ブチルカルコン等?例示するこ
とができる。これらの単量体Iは併用することもできる
。
前記単量体■としては、アクリル酸グリシジル、メタク
リル醒グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、
α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチ
ルアクリル酸グリシジル、アクリル1l−3、4−エポ
キシブチル、メタクリル酸−3,4−エボキシプテル、
メタクリル酸−4,5−工4qシペンテル、アクリルi
ii!2−6 、7−エポ゛キシペンチル、メタクリル
酸−6,7−エボキシベンテル、α−エチルアクリル酸
−6,7−エボキシペンテル等全例示することができ、
これらの化合物の中でも、前記一般式(fI)にSいて
R4が水素原子、メチル基またはエチル基であり、n
が11だに2であるものが好ましい。これらの単量体r
1は併用することもできる。
リル醒グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、
α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチ
ルアクリル酸グリシジル、アクリル1l−3、4−エポ
キシブチル、メタクリル酸−3,4−エボキシプテル、
メタクリル酸−4,5−工4qシペンテル、アクリルi
ii!2−6 、7−エポ゛キシペンチル、メタクリル
酸−6,7−エボキシベンテル、α−エチルアクリル酸
−6,7−エボキシペンテル等全例示することができ、
これらの化合物の中でも、前記一般式(fI)にSいて
R4が水素原子、メチル基またはエチル基であり、n
が11だに2であるものが好ましい。これらの単量体r
1は併用することもできる。
上記単量体の共重合量は、単量体■の全量に対する単量
体Hの組成比が、モル単位でl:l−に40、好1しく
はl:2〜1:20でるることが望ましい。この組成比
にどいて単量体■が1エク小さいと、単量体Iかわずか
に可視元111j金吸収する性質kVすることがら共重
合体に着色が生じ、この共重合体によって形成される塗
膜の透明性が低下するだけでな(、塗膜と基体との密着
性が悪化する傾向がるる。1だffi成比に3いて単量
体■が40全越えると、共重合体にJ6げる感光基、丁
なわち紫外線の照射によって架橋する基を構成するため
の単量体Iが過小となり、七の結果、この共重合体の紫
外線に対する感度が不十分となる。
体Hの組成比が、モル単位でl:l−に40、好1しく
はl:2〜1:20でるることが望ましい。この組成比
にどいて単量体■が1エク小さいと、単量体Iかわずか
に可視元111j金吸収する性質kVすることがら共重
合体に着色が生じ、この共重合体によって形成される塗
膜の透明性が低下するだけでな(、塗膜と基体との密着
性が悪化する傾向がるる。1だffi成比に3いて単量
体■が40全越えると、共重合体にJ6げる感光基、丁
なわち紫外線の照射によって架橋する基を構成するため
の単量体Iが過小となり、七の結果、この共重合体の紫
外線に対する感度が不十分となる。
不発明の感光性共重合体は、必要に応じて他の単量体が
共重合されていてもよ(、他の単量体としては、例えば アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタク
リル数ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、ア
クリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸
、メタクリル酸、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アク
リル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシ
プロピル、メタクリル酸−2−”ビドc2−?ジプロピ
ル、アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタクリル酸
−2−ヒドロキシブチル等のアクリル酸もしくはメタク
リル酸系化合物。
共重合されていてもよ(、他の単量体としては、例えば アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタク
リル数ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、ア
クリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸
、メタクリル酸、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アク
リル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシ
プロピル、メタクリル酸−2−”ビドc2−?ジプロピ
ル、アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタクリル酸
−2−ヒドロキシブチル等のアクリル酸もしくはメタク
リル酸系化合物。
スチレン、α−メチルスチレン、p−メテルスチVン、
ビニルナフタノン等のビニル芳香族化合物、ブタジェン
、イソクエン、ピペリレン、ジメチルブタジェン等のジ
エン系化合初 等?挙げることができる。不発明の感光性共重合体に3
ける他の単量体の共重合量は、通常、単量体116エび
単量体■の合計量、1−Tニルに対して0.2モル程度
以下でるる。
ビニルナフタノン等のビニル芳香族化合物、ブタジェン
、イソクエン、ピペリレン、ジメチルブタジェン等のジ
エン系化合初 等?挙げることができる。不発明の感光性共重合体に3
ける他の単量体の共重合量は、通常、単量体116エび
単量体■の合計量、1−Tニルに対して0.2モル程度
以下でるる。
不発明の感光性共重合体の分子量は、ヒリスチレン換算
数平均分子量で100,000〜500,000、好1
しくは150,000〜350,000でるる。共重合
体のポリスチレン換算数平均分子量が100,000よ
り小さいと感度が小さく、そのため元架橋によって共重
合体全硬化ぜしめて溶剤に不溶化する紫外線照射工程に
3いて大きな紫外線照射it全要し、したがって長時間
の紫外線照射を必要とすることからハレーションを生じ
ゃ丁いのみでなく生産性も劣ることになる。−万、共重
合体のポリスチレン換算数平均分子量が500,0OO
t−越えると、当該共重合体の溶液がゲル化しゃ丁(な
り、その保存安定性が不十分となる。
数平均分子量で100,000〜500,000、好1
しくは150,000〜350,000でるる。共重合
体のポリスチレン換算数平均分子量が100,000よ
り小さいと感度が小さく、そのため元架橋によって共重
合体全硬化ぜしめて溶剤に不溶化する紫外線照射工程に
3いて大きな紫外線照射it全要し、したがって長時間
の紫外線照射を必要とすることからハレーションを生じ
ゃ丁いのみでなく生産性も劣ることになる。−万、共重
合体のポリスチレン換算数平均分子量が500,0OO
t−越えると、当該共重合体の溶液がゲル化しゃ丁(な
り、その保存安定性が不十分となる。
不発明の感光性共重合体の分子量分散度は特に限定され
ないが、ボッスチレン換算重量平均分子iMwと?リス
チレン換算数平均分子ii MNの比Mw/MNが5以
下、好1しくは3以下でめることが好ましい。このMw
/MNの値が5倉越えると、解像注、感度等の感光注能
が悪化する傾向がめる。
ないが、ボッスチレン換算重量平均分子iMwと?リス
チレン換算数平均分子ii MNの比Mw/MNが5以
下、好1しくは3以下でめることが好ましい。このMw
/MNの値が5倉越えると、解像注、感度等の感光注能
が悪化する傾向がめる。
次に、上述した感光性共重合体の製造方法について述べ
る。
る。
不発明の感光性共重合体の製造にどいて使用する溶媒は
、車量体j6エび京合開始剤金溶解し、かつ生成する共
重合体?溶解し、lだ溶媒自身が反応しないものでみれ
ば特に限定されるものではなく、例えば アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピル
ケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル−n−ブチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−〇−アミ
ルケトン、メチル−n−へキシルケトン、ジエチルクト
ン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ホロン等
のケトン系溶媒; エチルエーテル、イソプロピルエーテル、 n−fチル
エーテル、ジイソアミルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチV
ングリコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒;ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸−n−
ブチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸−n−ブチル、酢m−n−アミル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチVン
グリコール七ツメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエテルエーテルアセテート等のエステル
系溶媒金挙げることができる。これらの溶媒は単独で使
用しても2種以上を混合して使用しても工い。
、車量体j6エび京合開始剤金溶解し、かつ生成する共
重合体?溶解し、lだ溶媒自身が反応しないものでみれ
ば特に限定されるものではなく、例えば アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピル
ケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル−n−ブチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−〇−アミ
ルケトン、メチル−n−へキシルケトン、ジエチルクト
ン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ホロン等
のケトン系溶媒; エチルエーテル、イソプロピルエーテル、 n−fチル
エーテル、ジイソアミルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチV
ングリコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒;ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸−n−
ブチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸−n−ブチル、酢m−n−アミル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチVン
グリコール七ツメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエテルエーテルアセテート等のエステル
系溶媒金挙げることができる。これらの溶媒は単独で使
用しても2種以上を混合して使用しても工い。
1だ不発明の感光性共重合体の製造にSいて使用される
重合開始剤は特に限定されるものではなく、一般的なラ
ジカル重合開始剤?用いることができ1例えば 2.2′−7ゾビスイソプテロニトリル、2.2’−ア
ゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、。
重合開始剤は特に限定されるものではなく、一般的なラ
ジカル重合開始剤?用いることができ1例えば 2.2′−7ゾビスイソプテロニトリル、2.2’−ア
ゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、。
2.2’−’アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチ
ルバレロニトリル)、2,2′−ア°ゾビスイソrMI
酸、ジメチル、l、l’−アゾビス(シクロヘキサン−
1−カルダニトリル)、2.2’−アゾビス(2−アミ
ジノプロノぞン)二塩酸塩等のアゾ系化合物;ベンゾイ
ルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、t−ブチルク
ミルペルオキシド、l、1−ビス(I−ブチル4ルオキ
シ)3,3.5− )リメチルシクロヘキサン、2゛、
2−ビス(t−ブチルペルオキシ)オクタン等のペルオ
キシ系化合物全挙げることができる。
ルバレロニトリル)、2,2′−ア°ゾビスイソrMI
酸、ジメチル、l、l’−アゾビス(シクロヘキサン−
1−カルダニトリル)、2.2’−アゾビス(2−アミ
ジノプロノぞン)二塩酸塩等のアゾ系化合物;ベンゾイ
ルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、t−ブチルク
ミルペルオキシド、l、1−ビス(I−ブチル4ルオキ
シ)3,3.5− )リメチルシクロヘキサン、2゛、
2−ビス(t−ブチルペルオキシ)オクタン等のペルオ
キシ系化合物全挙げることができる。
重合開始剤の使用tは、通常重合に用いられる単量体の
合計量1モルに”対して1/l OOO〜1/200モ
ルでめ・す、好1しくはl/800〜↓/300モルで
るる。重合開始剤の使用量が少ないと重合収率が低下し
、使用量が多丁ぎると目的とする分子量の感光性共重合
体が得に(く#4なる。なMNN湿温度雫に限定される
ものではない゛が1通常20〜120℃の範囲である。
合計量1モルに”対して1/l OOO〜1/200モ
ルでめ・す、好1しくはl/800〜↓/300モルで
るる。重合開始剤の使用量が少ないと重合収率が低下し
、使用量が多丁ぎると目的とする分子量の感光性共重合
体が得に(く#4なる。なMNN湿温度雫に限定される
ものではない゛が1通常20〜120℃の範囲である。
不発明の感光性共重合体の製造にHいて使用する溶媒の
址に、全単量体に対して0.5〜4倍量(重量)でろり
、好’EL<にl〜3.5倍量(重量)でめる。溶媒の
使用量が0.5倍量未満の場合は、重合系の粘度が高(
なり攪拌効率が悪(なるのみでな(、生成したポリマー
がゲル化しや丁くなる。
址に、全単量体に対して0.5〜4倍量(重量)でろり
、好’EL<にl〜3.5倍量(重量)でめる。溶媒の
使用量が0.5倍量未満の場合は、重合系の粘度が高(
なり攪拌効率が悪(なるのみでな(、生成したポリマー
がゲル化しや丁くなる。
また溶媒の使用量が4倍th越えると、目的とする分子
量OMc元注共重共電金得ることができず、また重合後
に感光性共重合体を収率工く凝固精製するのが困難とな
る。
量OMc元注共重共電金得ることができず、また重合後
に感光性共重合体を収率工く凝固精製するのが困難とな
る。
本発明の感光性共重合体は、通常過半な溶剤に溶解する
ことによって感光性塗膜?形成するための溶液?調製す
る。このような溶液の溶媒としては、上記感光性共重合
体全溶解し、かつそれと反応しないものであれば、種々
の溶媒を使用することができ、例えば、前記感光性共重
合体の製造に8いて使用する溶媒と同様の溶媒を挙げる
ことができる。
ことによって感光性塗膜?形成するための溶液?調製す
る。このような溶液の溶媒としては、上記感光性共重合
体全溶解し、かつそれと反応しないものであれば、種々
の溶媒を使用することができ、例えば、前記感光性共重
合体の製造に8いて使用する溶媒と同様の溶媒を挙げる
ことができる。
本発明の感光性共重合体の溶ah調裂する場合の溶液良
度は使用目的に応じて適宜選択することができるが、一
般的には5〜50重i′%程直である。
度は使用目的に応じて適宜選択することができるが、一
般的には5〜50重i′%程直である。
本発明の感光性共重合体の溶液を基体表面に塗布する方
法としては例えばスジノー法、ロールコート法、回転塗
布法など全挙げろことができる。
法としては例えばスジノー法、ロールコート法、回転塗
布法など全挙げろことができる。
得られた感光性共重合体の塗膜は、通常50〜100℃
で10分間〜1時間程展の熱処理で行ない、塗膜の溶媒
を除去した後、・ぞターンマスクを介して紫外線全照射
する。紫外線の照射量は、波長が365nmの光で通常
50〜10100O/F+2でおる。また、塗膜の紫外
線禾照射部分全溶解除去して現像上行なうのに用いられ
る溶媒は、通常、不発明の感光性共重合体の溶解度が大
きい、例えばメチルエチルケトンの工うな良溶媒と、本
発明の感光性共重合体の溶解度が小さい、例えばイソプ
ロピルアルコールの工うな貧溶媒?適当な割合で混合し
たものでろろ。また、現像後に必要に応じてリンス液に
よる処理上行う場合がある。リンス液としては、例えば
メチルインブチルケトンの工うな貧溶媒倉卒げることが
できる。次いで、このようにして得られろ4膜で、10
0〜200℃の温度で30分間〜2時間熱処理すること
により、所望の形状の硬化塗膜を得ろことができろ。
で10分間〜1時間程展の熱処理で行ない、塗膜の溶媒
を除去した後、・ぞターンマスクを介して紫外線全照射
する。紫外線の照射量は、波長が365nmの光で通常
50〜10100O/F+2でおる。また、塗膜の紫外
線禾照射部分全溶解除去して現像上行なうのに用いられ
る溶媒は、通常、不発明の感光性共重合体の溶解度が大
きい、例えばメチルエチルケトンの工うな良溶媒と、本
発明の感光性共重合体の溶解度が小さい、例えばイソプ
ロピルアルコールの工うな貧溶媒?適当な割合で混合し
たものでろろ。また、現像後に必要に応じてリンス液に
よる処理上行う場合がある。リンス液としては、例えば
メチルインブチルケトンの工うな貧溶媒倉卒げることが
できる。次いで、このようにして得られろ4膜で、10
0〜200℃の温度で30分間〜2時間熱処理すること
により、所望の形状の硬化塗膜を得ろことができろ。
本発明は、以下の工うな特徴音Mする。
■不発明の感光性共重合体は、優れた感光性?Mする。
■不発明の感光性共重合体から得られる塗膜は、紫外か
ら可視の領域にわたる広い範囲の波長域に3いて高い光
線透過″4七石し、透明性に優れている。
ら可視の領域にわたる広い範囲の波長域に3いて高い光
線透過″4七石し、透明性に優れている。
■不発明の感光性共重合体は、ガラス、金属、プラスチ
ック等の種々の材料からなる基体に対して優れた接着性
を示す。
ック等の種々の材料からなる基体に対して優れた接着性
を示す。
■不発明の感光性共重合体から得られる塗膜は、十分に
大きい硬度t−Wし、耐光性、耐熱性、耐水性、耐溶剤
性8工び耐染性に優れてSり、長期にわたる使用によっ
ても変色などの変質を起工ことがな(、優れた耐久性七
府する。
大きい硬度t−Wし、耐光性、耐熱性、耐水性、耐溶剤
性8工び耐染性に優れてSり、長期にわたる使用によっ
ても変色などの変質を起工ことがな(、優れた耐久性七
府する。
■不発明の感光性共重合体の装造方法は、上記■〜■の
特徴kWする感光性共京合体金得ることができる。
特徴kWする感光性共京合体金得ることができる。
これらの特徴’kWする結果、不発明の感光性共重合体
にエリ形成される塗膜は、優れた機械的強度、接着強度
ならびに耐久性を石していて各種物品の基体表面の保護
塗膜として有用でるるのみならず、優れた感光性、透明
性、平滑性ならびに耐染性tMすることから、ホトリソ
グラフィー’kffする光字系材料として有用であり、
例えば色分離フィルターの防染保護膜、辰面保匝膜等と
して極めて好適でるり、色の鮮明度や明るさに優れ、信
頼性の高い色分離フィルターを得ることができる。
にエリ形成される塗膜は、優れた機械的強度、接着強度
ならびに耐久性を石していて各種物品の基体表面の保護
塗膜として有用でるるのみならず、優れた感光性、透明
性、平滑性ならびに耐染性tMすることから、ホトリソ
グラフィー’kffする光字系材料として有用であり、
例えば色分離フィルターの防染保護膜、辰面保匝膜等と
して極めて好適でるり、色の鮮明度や明るさに優れ、信
頼性の高い色分離フィルターを得ることができる。
次1c実施例に工って不発開音さらに詳細に説明するが
、本発明はこれら実施例により限定されるものではない
。
、本発明はこれら実施例により限定されるものではない
。
な2本実施例にj6けるボリスチVン換g数平均分子量
に工びポリステノン換算重量平均分子tは、ゲルパーミ
ェーションクロマトグラムyt用い、下記の測定条件に
工って求めたものでるる。
に工びポリステノン換算重量平均分子tは、ゲルパーミ
ェーションクロマトグラムyt用い、下記の測定条件に
工って求めたものでるる。
装 置 米国ウオーターズ社#高温高速グルパーミェー
ションクロiトゲラム(モテル 150−CALC/GPC) カラム:昭和電工■製5HODEX A−8M、長さ
0m 測定温度:40℃ 流速:l−7分 溶 媒:テトラヒドロフラン サンプル濃度:感光性共重合体(I,li’)/テトラ
ヒト07ラン(loom) 標準ポリステノン:米国プVツシャーケミカル社製標準
ポリスチレン 実施例1 攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサーH工び窒素ガス
導入口に備えた内容813影の丸底フラスコ内金窒素ガ
スで置換した後、このクラス:1円に脱気蒸留したジオ
キサン1280 f7 (I4,54モル)?加え、ミ
らにメタクリル酸グリシジル256I(L8 %/l/
) 、4t−メタクロイロキシカルコン131.9(
0,45モル)3工びアゾビスイソブチロニトリル06
57.!;’(0,0035モル) ?!−仕込ンタ。
ションクロiトゲラム(モテル 150−CALC/GPC) カラム:昭和電工■製5HODEX A−8M、長さ
0m 測定温度:40℃ 流速:l−7分 溶 媒:テトラヒドロフラン サンプル濃度:感光性共重合体(I,li’)/テトラ
ヒト07ラン(loom) 標準ポリステノン:米国プVツシャーケミカル社製標準
ポリスチレン 実施例1 攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサーH工び窒素ガス
導入口に備えた内容813影の丸底フラスコ内金窒素ガ
スで置換した後、このクラス:1円に脱気蒸留したジオ
キサン1280 f7 (I4,54モル)?加え、ミ
らにメタクリル酸グリシジル256I(L8 %/l/
) 、4t−メタクロイロキシカルコン131.9(
0,45モル)3工びアゾビスイソブチロニトリル06
57.!;’(0,0035モル) ?!−仕込ンタ。
次いで反応溶液全攪拌しながら50 ’Cで18時間に
わたって加熱した。七の後、反応溶液を呈温1で冷却し
てlOJのメタノールで処理し、共重合体全凝固させた
。凝固した共重合体全戸別した後、室温下にどいて減圧
乾燥して白色粉末状の共重合体260,9”i得た。こ
の共重合体の組成比を紫外暇吸元度法で定量したところ
、グリシジルユニットとカルコンユニットとのモル比i
78:22”??6つだ。またこの共重合体のゲルA−
ミエーションクロマトグラム(GPC)にエフ測定した
ポリスチノン換算数平均分子iは300,000であり
、Mw/MNは2.2であった。かくして得られた共重
合体IL09全エチルセロンルブアセテート89.OI
Iに溶解し、この溶液全孔径0.2μmのメンブランフ
ィルタ−で加圧濾過したのち、スピンコーターで用いて
ガラス板上に回転数240 Orpmで回転塗布した後
、80°Cで10分間乾燥した。得られた塗膜の表面は
極めて滑らかでめり、膜荒れは全(見られなかった。
わたって加熱した。七の後、反応溶液を呈温1で冷却し
てlOJのメタノールで処理し、共重合体全凝固させた
。凝固した共重合体全戸別した後、室温下にどいて減圧
乾燥して白色粉末状の共重合体260,9”i得た。こ
の共重合体の組成比を紫外暇吸元度法で定量したところ
、グリシジルユニットとカルコンユニットとのモル比i
78:22”??6つだ。またこの共重合体のゲルA−
ミエーションクロマトグラム(GPC)にエフ測定した
ポリスチノン換算数平均分子iは300,000であり
、Mw/MNは2.2であった。かくして得られた共重
合体IL09全エチルセロンルブアセテート89.OI
Iに溶解し、この溶液全孔径0.2μmのメンブランフ
ィルタ−で加圧濾過したのち、スピンコーターで用いて
ガラス板上に回転数240 Orpmで回転塗布した後
、80°Cで10分間乾燥した。得られた塗膜の表面は
極めて滑らかでめり、膜荒れは全(見られなかった。
触針式膜厚計(ダンクテーラーホブソン社製、タリステ
ップ)によって測定した膜厚はLO3μmでめった。次
いで共重合体塗膜?形成したガラス板にパターンマスク
?通じて紫外線(波長36°5 nmの光線の強度が7
.3mW/cm2の高圧水銀ランプケ使用)?照射した
。これ全メチルエチルケトンとインプロパツールの混合
溶媒(重量比で6:1)に、室温で1分間浸漬すること
により未照射部分全溶解して現像したのちメチルイソブ
チルケトンに室温で1分間浸漬してリンス処理し、ノぐ
ターンマスクに忠実な所望の形状の塗膜金得ることがで
きた。
ップ)によって測定した膜厚はLO3μmでめった。次
いで共重合体塗膜?形成したガラス板にパターンマスク
?通じて紫外線(波長36°5 nmの光線の強度が7
.3mW/cm2の高圧水銀ランプケ使用)?照射した
。これ全メチルエチルケトンとインプロパツールの混合
溶媒(重量比で6:1)に、室温で1分間浸漬すること
により未照射部分全溶解して現像したのちメチルイソブ
チルケトンに室温で1分間浸漬してリンス処理し、ノぐ
ターンマスクに忠実な所望の形状の塗膜金得ることがで
きた。
これtさらに150℃の恒温槽中にMいて1時間熱処理
した。
した。
この場合の紫外線照射時間の最適値(以下、「最適露光
時間」という。)414秒(紫外線エネルギー換算量1
02.2 mJ/cwt2)でめった。な3「最適露光
時間」とは、紫外線照射量の不足によって現像後に光硬
化した塗膜が肌荒れ現象?生じず、かつ紫外線照射量の
過多によって解像度が低下することのない紫外線照射時
間?示すものでるる。
時間」という。)414秒(紫外線エネルギー換算量1
02.2 mJ/cwt2)でめった。な3「最適露光
時間」とは、紫外線照射量の不足によって現像後に光硬
化した塗膜が肌荒れ現象?生じず、かつ紫外線照射量の
過多によって解像度が低下することのない紫外線照射時
間?示すものでるる。
以上のようにして作製した光硬化した釜膜につき以下の
試験全行なった。lず上記の方法で光硬化した塗膜を形
成したガラス板の吸収スペクトル?、塗膜を形成しない
同様のガラス板全対照として測定した。波長400nm
〜8QQnmの全領域に3いて光線透過率は95%以上
でめった。次にこの゛ガラス板上で光硬化した塗膜の接
着性を調べるためにテープ剥離によるゴパン目試験(、
J I S K−5400) k行なった。その結果剥
離は全(認めらレナかった。)たこのガラス板全沸騰水
中に入れて5時間放置したのち、同様にして2パン目試
験を行なったが、この場合も剥離は全く見られなかった
。また、上記の塗膜つきのガラス板全トルニジ中に入れ
て、5時間加熱還流したのちtパン目試験を行なったが
ミこの場合も剥離は全(認められなかった。また、上記
と同様にして作製した光硬化した塗膜金つげたガラス板
を200℃のギヤオープン中で200時間熱処理し、塗
膜の耐熱性?検討したところ、クラックの発生は認めら
れず、また吸収スペクトルの変化も認められなかった。
試験全行なった。lず上記の方法で光硬化した塗膜を形
成したガラス板の吸収スペクトル?、塗膜を形成しない
同様のガラス板全対照として測定した。波長400nm
〜8QQnmの全領域に3いて光線透過率は95%以上
でめった。次にこの゛ガラス板上で光硬化した塗膜の接
着性を調べるためにテープ剥離によるゴパン目試験(、
J I S K−5400) k行なった。その結果剥
離は全(認めらレナかった。)たこのガラス板全沸騰水
中に入れて5時間放置したのち、同様にして2パン目試
験を行なったが、この場合も剥離は全く見られなかった
。また、上記の塗膜つきのガラス板全トルニジ中に入れ
て、5時間加熱還流したのちtパン目試験を行なったが
ミこの場合も剥離は全(認められなかった。また、上記
と同様にして作製した光硬化した塗膜金つげたガラス板
を200℃のギヤオープン中で200時間熱処理し、塗
膜の耐熱性?検討したところ、クラックの発生は認めら
れず、また吸収スペクトルの変化も認められなかった。
さらに、上記と同様にして作製した光硬化した塗膜tつ
げたガラス板金下記の組成の染色浴中に入れ、100℃
で30分間放置したのち、ガラス板金とり出して工(水
洗し乾燥したのち塗膜の様子全目視で調べ、耐染性勿検
討したところ、クラックや膜荒れ等の異常は認められず
、1だ塗膜の光線透過率は、波長400nm〜8QQn
mの範囲にどいて95%以上であった〇 (染色浴) 酸性染料(Kayanol Milling Red
R8−125) 2 l氷酢酸 2g 蒸留水 10J9 箇だざらに、ガラス板上に市販のゼラチン水溶液(固形
分含量20%)で回転塗布して膜厚L52μmのゼラチ
ン膜全形成し、150℃の恒温槽中で1時間熱処理した
のち、さらに上記の感光性共重合体溶液と同様のもの?
、上述の場合と同一条件で回転塗布、乾燥、露光、現像
、リンス、熱処理の各操作全行なって二層構造の塗膜?
形成した。これについてテープ剥離によるゴパン目試験
?行なったところ剥離は全(認められなかった。こnら
の箱果勿lとめて第1表に示す。
げたガラス板金下記の組成の染色浴中に入れ、100℃
で30分間放置したのち、ガラス板金とり出して工(水
洗し乾燥したのち塗膜の様子全目視で調べ、耐染性勿検
討したところ、クラックや膜荒れ等の異常は認められず
、1だ塗膜の光線透過率は、波長400nm〜8QQn
mの範囲にどいて95%以上であった〇 (染色浴) 酸性染料(Kayanol Milling Red
R8−125) 2 l氷酢酸 2g 蒸留水 10J9 箇だざらに、ガラス板上に市販のゼラチン水溶液(固形
分含量20%)で回転塗布して膜厚L52μmのゼラチ
ン膜全形成し、150℃の恒温槽中で1時間熱処理した
のち、さらに上記の感光性共重合体溶液と同様のもの?
、上述の場合と同一条件で回転塗布、乾燥、露光、現像
、リンス、熱処理の各操作全行なって二層構造の塗膜?
形成した。これについてテープ剥離によるゴパン目試験
?行なったところ剥離は全(認められなかった。こnら
の箱果勿lとめて第1表に示す。
実施例2
操拌1ice、温度計、冷却用コンデンサー、2索ガス
導入口を備えた内容、tllgの丸底フラスコ内を窒素
ガスで置換した後、このフラスコ内に脱気蒸留したジオ
キサン315,9(3,58モル)を加え、さら[4’
−メタクロイロキシカルコン53I(0,18モル)、
4′−メタクロイc1午シー4−メトキシカルコン19
,91(0,06モル)、メタクリル酸グリシジル13
8.9(0,97モル)ど工びアゾビスイソブチロニト
リル0.479 (0,0029モル)t−仕込んだ。
導入口を備えた内容、tllgの丸底フラスコ内を窒素
ガスで置換した後、このフラスコ内に脱気蒸留したジオ
キサン315,9(3,58モル)を加え、さら[4’
−メタクロイロキシカルコン53I(0,18モル)、
4′−メタクロイc1午シー4−メトキシカルコン19
,91(0,06モル)、メタクリル酸グリシジル13
8.9(0,97モル)ど工びアゾビスイソブチロニト
リル0.479 (0,0029モル)t−仕込んだ。
以後は実施例1と同様の操作により、白色粉末状の共重
合体126 IIg得た。この共重合体の組成比七核a
気共鳴スペクトルで定量したところ、カルコンユニット
と4−メトキクカルコンユニットとグリシジルユニット
とのモル比i17:6:77でめった。1だ、この共重
合体のGF’cVcよるポリスチレン侯算数平均分子量
は270.000でめり、Mw/MNは2.5であった
。
合体126 IIg得た。この共重合体の組成比七核a
気共鳴スペクトルで定量したところ、カルコンユニット
と4−メトキクカルコンユニットとグリシジルユニット
とのモル比i17:6:77でめった。1だ、この共重
合体のGF’cVcよるポリスチレン侯算数平均分子量
は270.000でめり、Mw/MNは2.5であった
。
この共重合体のlL5,9@シクロへやT/−ン88.
5.!i+に溶解し、この溶液を孔径0.2μmのメン
ブランフィルタ−でWEE濾過したの)、スビンコー/
−に用いてガラス板上に回転数2500 rpmで回転
塗布した。得られた塗膜について実施例1と同様にして
最適露光時間で求めたところ10秒(紫外線エネルギー
換算量73 mJ10n’ )でめった。
5.!i+に溶解し、この溶液を孔径0.2μmのメン
ブランフィルタ−でWEE濾過したの)、スビンコー/
−に用いてガラス板上に回転数2500 rpmで回転
塗布した。得られた塗膜について実施例1と同様にして
最適露光時間で求めたところ10秒(紫外線エネルギー
換算量73 mJ10n’ )でめった。
また得られた元硬化した塗膜について、既述の植々の特
注試験を行なった。その結果を第1表に示す。
注試験を行なった。その結果を第1表に示す。
実施例3
実施例1にSけるメタクリル酸グリシジルのかわりにメ
タクリル酸3,4−エポキシグチル28017(L8モ
ル)k用い、4′−メタクロイロキシカルコンのかわり
に41−メタクロイ0:j?−シー4−エトキシカルコ
ン148.p(0,44モル)全周いたほかは、実施例
1と同様にして共重合体t″!H造した。
タクリル酸3,4−エポキシグチル28017(L8モ
ル)k用い、4′−メタクロイロキシカルコンのかわり
に41−メタクロイ0:j?−シー4−エトキシカルコ
ン148.p(0,44モル)全周いたほかは、実施例
1と同様にして共重合体t″!H造した。
この共重合体の?リステレン換算数平均分子ta250
.000、Mw/MNは2.3、紫外線吸収スペクトル
から求めた4−エトキシ”噂カルコンユニットと3゜4
−エボキシプテルユニットとの組成モル比に25ニア5
でめった。
.000、Mw/MNは2.3、紫外線吸収スペクトル
から求めた4−エトキシ”噂カルコンユニットと3゜4
−エボキシプテルユニットとの組成モル比に25ニア5
でめった。
ついで、この共重合体11.p’i用いて実施例1と同
様にして塗布溶液kv4製し、さらに実施例1と同様に
して膜厚LOμmの1!!膜を形成し、この塗膜につい
て、既述の工うなi&遥露尤時間H工び元硬化した塗膜
の、種々の特注について調べた。その結果を第l衣に示
す。
様にして塗布溶液kv4製し、さらに実施例1と同様に
して膜厚LOμmの1!!膜を形成し、この塗膜につい
て、既述の工うなi&遥露尤時間H工び元硬化した塗膜
の、種々の特注について調べた。その結果を第l衣に示
す。
比較例1
攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサー、窒素ガス導入
口を備えた内容!R12の丸底フラスコ内を筺紮ガスで
置換した後、このフラスコ甲にテトラヒI−′ロフラン
300m、メタクリル酸グリシジル401i(0,28
モル) −” 4/−メタクロイロキシカルコン20J
(0,069モル)J6エびアゾビスイソブチロニトリ
ル0.169 (0,001モル)を仕込んだ。次いで
反応溶液1r攪拌しながら60℃で6時間にわたってm
熱した。その後2ぷのメタノールで処理して共重合体を
凝固さぞ、これtP別した後、呈温下に8いて減圧乾燥
して白色粉末状の共重合体309’f得た。この共重合
体の組成比?紫外FA吸収スペクトルで定量したところ
、グリシジルユニットとカルコンユニットとの組成モル
比は77:23でめった。この共重合体のGPCによる
ホリステノン換算数平均分子tは80,000でめった
。
口を備えた内容!R12の丸底フラスコ内を筺紮ガスで
置換した後、このフラスコ甲にテトラヒI−′ロフラン
300m、メタクリル酸グリシジル401i(0,28
モル) −” 4/−メタクロイロキシカルコン20J
(0,069モル)J6エびアゾビスイソブチロニトリ
ル0.169 (0,001モル)を仕込んだ。次いで
反応溶液1r攪拌しながら60℃で6時間にわたってm
熱した。その後2ぷのメタノールで処理して共重合体を
凝固さぞ、これtP別した後、呈温下に8いて減圧乾燥
して白色粉末状の共重合体309’f得た。この共重合
体の組成比?紫外FA吸収スペクトルで定量したところ
、グリシジルユニットとカルコンユニットとの組成モル
比は77:23でめった。この共重合体のGPCによる
ホリステノン換算数平均分子tは80,000でめった
。
カクシて得られたポリマー15g’(メチルセロソルブ
アセテート90−に溶解して頭布18g営調製した他は
、実施例1と同様な操作にエクガシス板上に膜厚0.9
μmの塗膜上形成し、この塗膜について、既述のような
最適U元時間を調べた。その精果金第1表に示す。
アセテート90−に溶解して頭布18g営調製した他は
、実施例1と同様な操作にエクガシス板上に膜厚0.9
μmの塗膜上形成し、この塗膜について、既述のような
最適U元時間を調べた。その精果金第1表に示す。
以上の栢果から本発明の感光性共重合体は優れた感光性
紫有し、この感光性共重合体に工って形成δれる光硬化
した塗mは平滑であり、透明性、接着性、耐水性、耐溶
剤性、耐熱性S工び耐染性が極めて丁ぐれていることが
明らかである。
紫有し、この感光性共重合体に工って形成δれる光硬化
した塗mは平滑であり、透明性、接着性、耐水性、耐溶
剤性、耐熱性S工び耐染性が極めて丁ぐれていることが
明らかである。
手続補正書(自発)
昭和59年10月9日
特許庁長官 志 賀 学 殿
1、事件の表示
昭和59年特許願第177608号
2、発明の名称
感光性共重合体およびその製造方法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 東京都中央区築地二丁目11番24号名 称
(417)日本合成ゴム株式会社4、代理人 5、補正の対象 (I)明m書の特許請求の範囲の欄 (2)■明細書第8頁第15行および第9頁第15行の
一般式(I)の構造式を下記のように訂正する。
(417)日本合成ゴム株式会社4、代理人 5、補正の対象 (I)明m書の特許請求の範囲の欄 (2)■明細書第8頁第15行および第9頁第15行の
一般式(I)の構造式を下記のように訂正する。
■同第9頁第5行および第10頁第5行中、「R4」を
[R4」 と訂正する。
[R4」 と訂正する。
■同第20頁第5行、 第20頁第12行および 第2
1頁第1行中の「塗膜」を「光硬化した塗膜」と訂正す
る。
1頁第1行中の「塗膜」を「光硬化した塗膜」と訂正す
る。
■同第32頁第5行の後ろに、以下の文章を加入する。
「実施例4
実施例1におけるメタクリル酸グリシジル256g(I
,8モル)のかわりにメタクリル酸グリシジル115g
(0,81モル)とメタクリル酸3.4−エポキシブチ
ル150g(0,96モル)を用いたほかは、実施例1
と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポリ
スチレン換算数平均分子量は280,000 、 M、
1/M、は2.4、紫外線吸収スペクトルから求めたカ
ルコンユニットとエポキシユニットとの組成モル比は2
3ニア7であった。
,8モル)のかわりにメタクリル酸グリシジル115g
(0,81モル)とメタクリル酸3.4−エポキシブチ
ル150g(0,96モル)を用いたほかは、実施例1
と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポリ
スチレン換算数平均分子量は280,000 、 M、
1/M、は2.4、紫外線吸収スペクトルから求めたカ
ルコンユニットとエポキシユニットとの組成モル比は2
3ニア7であった。
この共重合体10gを用いて実施例1と同様にして塗布
溶液を調製し、さらに実施例1と同様にして膜厚1.1
μmの塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露光
時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。その
結果を第2表に示す。
溶液を調製し、さらに実施例1と同様にして膜厚1.1
μmの塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露光
時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。その
結果を第2表に示す。
実施例5
攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサー、窒素ガス導入
口を備えた内容積31の丸底フラスコ内に脱気蒸留した
ジオキサン282g(3,2モル)を加え、さらに4″
−メターク”ロイロキシカルコン45 g (0,15
モノリ、メタクリル酸グリシジル107 g (0,7
5モル)、メタクリル酸メチル9g(0,09モル)お
よびアゾビスイソブチロニトリル0.40g(0,00
25モル)を仕込んだ。以後は実施例1と同様の操作に
より白色粉末状の共重合体112gを得た。この共重合
体の組成比を紫外線吸光度法および核磁気共鳴スペクト
ルにより定量したところ、カルコンユニットとグリシジ
ルユニ・ノドとメトキシカルボニルユニットとのモル比
は13ニア7:10であった。また、この共重合体のG
PCによるポリスチレン換算数平均分子量は290,0
00であり、M w / M sは2.7であった。
口を備えた内容積31の丸底フラスコ内に脱気蒸留した
ジオキサン282g(3,2モル)を加え、さらに4″
−メターク”ロイロキシカルコン45 g (0,15
モノリ、メタクリル酸グリシジル107 g (0,7
5モル)、メタクリル酸メチル9g(0,09モル)お
よびアゾビスイソブチロニトリル0.40g(0,00
25モル)を仕込んだ。以後は実施例1と同様の操作に
より白色粉末状の共重合体112gを得た。この共重合
体の組成比を紫外線吸光度法および核磁気共鳴スペクト
ルにより定量したところ、カルコンユニットとグリシジ
ルユニ・ノドとメトキシカルボニルユニットとのモル比
は13ニア7:10であった。また、この共重合体のG
PCによるポリスチレン換算数平均分子量は290,0
00であり、M w / M sは2.7であった。
この共重合体の10.0 gをエチルセロソルブアセテ
ート90.0gに溶解し、塗布溶液を調製した。
ート90.0gに溶解し、塗布溶液を調製した。
この塗布溶液を用い、実施例1と同様にして膜厚1.0
5μmの塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露
光時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。そ
の結果を第2表に示す。
5μmの塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露
光時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。そ
の結果を第2表に示す。
実施例6
実施例1におけるジオキサンのかわりにエチレングリコ
ールモノエチルエーテルモノアセテート1200g (
9,1モル)を用いたほかは、実施例1と同様にして共
重合体を製造した。この共重合体のポリスチレン換算数
平均分子量は300,000、M w / M Nは2
.3、紫外線吸収スペクトルから求めたカルコンユニッ
トとグリシジルユニ・ノドとの組成モル比は22ニア8
であった。
ールモノエチルエーテルモノアセテート1200g (
9,1モル)を用いたほかは、実施例1と同様にして共
重合体を製造した。この共重合体のポリスチレン換算数
平均分子量は300,000、M w / M Nは2
.3、紫外線吸収スペクトルから求めたカルコンユニッ
トとグリシジルユニ・ノドとの組成モル比は22ニア8
であった。
この共重合体を用いて実施例1と同様にして塗布溶液を
調製し、さらに実施例1と同様にして塗膜を形成し、こ
の塗膜について既述の最適露光時間および硬化塗膜の種
々の特性について調べた。
調製し、さらに実施例1と同様にして塗膜を形成し、こ
の塗膜について既述の最適露光時間および硬化塗膜の種
々の特性について調べた。
その結果を第2表に示す。
実施例7
実施例1におけるアゾビスイソブチロニトリルのかわり
にベンゾイルペルオキシド0.8 g (0,003モ
ル)を用い、重合温度を70°Cにしたほかは実施例1
と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポリ
スチレン換算数平均分子量は280,000、M w
/ M 、4は3.2、紫外線吸収スペクトルから求め
たカルコンユニットとグリシジルユニットとの組成モル
比は22ニア8であった。この共重合体を用いて実施例
1と同様にして塗布溶液を調製し、さらに実施例1と同
様にして塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露
光時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。そ
の結果を第2表に示す。
にベンゾイルペルオキシド0.8 g (0,003モ
ル)を用い、重合温度を70°Cにしたほかは実施例1
と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポリ
スチレン換算数平均分子量は280,000、M w
/ M 、4は3.2、紫外線吸収スペクトルから求め
たカルコンユニットとグリシジルユニットとの組成モル
比は22ニア8であった。この共重合体を用いて実施例
1と同様にして塗布溶液を調製し、さらに実施例1と同
様にして塗膜を形成し、この塗膜について既述の最適露
光時間および硬化塗膜の種々の特性について調べた。そ
の結果を第2表に示す。
(別紙)
2、特許請求の範囲
1)下記一般式(I)で表絞れる単量体と、下記一般式
(n)で表ヤサれる単量体との共重合体であって、その
ポリスチレン換算数平均分子量が100、000〜50
0.000であることを特徴とする感光性共重合体。
(n)で表ヤサれる単量体との共重合体であって、その
ポリスチレン換算数平均分子量が100、000〜50
0.000であることを特徴とする感光性共重合体。
一般式(I)
C式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1は水
素原子、低級アルキル基または低級アルコ矢シ基である
。〕 一般式(fI) 〔式中、ユニは水素原子または低級アルキル基、nは1
〜5の整数である。〕 2)ポリスチレン換算重量平均分子zMW /ポリスチ
レン換算数平均分子量M、の値が5以下である特許請求
の範囲第1項記載の感光性共重合体。
素原子、低級アルキル基または低級アルコ矢シ基である
。〕 一般式(fI) 〔式中、ユニは水素原子または低級アルキル基、nは1
〜5の整数である。〕 2)ポリスチレン換算重量平均分子zMW /ポリスチ
レン換算数平均分子量M、の値が5以下である特許請求
の範囲第1項記載の感光性共重合体。
3)下記一般式<1)で表愕れる単量体および下記一般
式(n)で表ゆされる単量体を、単量体の0.5〜4倍
量(重量)の溶媒中において重合することを特徴とする
ポリスチレン換算数平均分子量が100.000〜so
o、 oooである感光性共重合体の製造方法。
式(n)で表ゆされる単量体を、単量体の0.5〜4倍
量(重量)の溶媒中において重合することを特徴とする
ポリスチレン換算数平均分子量が100.000〜so
o、 oooである感光性共重合体の製造方法。
一般式(r)
C式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1は水
素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基である
。〕 一般式(ff) U 〔式中、Lは水素原子または低級アルキル基、nは1〜
5の整数である。〕
素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基である
。〕 一般式(ff) U 〔式中、Lは水素原子または低級アルキル基、nは1〜
5の整数である。〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I )で表わされる単量体と、下記一
般式(II)で表わされる単量体との共重合体であつて、
そのポリスチレン換算数平均分子量が100,000〜
500,000であることを特徴とする感光性共重合体
。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R^1は
水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基であ
る。〕 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_4は水素原子または低級アルキル基、nは
1〜5の整数である。〕 2)ポリスチレン換算重量平均分子量Mw/ポリスチレ
ン換算数平均分子量M_Nの値が5以下である特許請求
の範囲第1項記載の感光性共重合体。 3)下記一般式( I )で表わされる単量体および下記
一般式(II)で表わされる単量体を、単量体の0.5〜
4倍量(重量)の溶媒中において重合することを特徴と
するポリスチレン換算数平均分子量が100,000〜
500,000である感光性共重合体の製造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R^1は
水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基であ
る。〕 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_4は水素原子または低級アルキル基、nは
1〜5の整数である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17760884A JPS6157610A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 感光性共重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17760884A JPS6157610A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 感光性共重合体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6157610A true JPS6157610A (ja) | 1986-03-24 |
Family
ID=16033973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17760884A Pending JPS6157610A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 感光性共重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6157610A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5024785A (en) * | 1989-01-17 | 1991-06-18 | The Dow Chemical Company | Liquid crystal/rigid rodlike polymer modified epoxy/vinyl ester resins |
KR100487959B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-05-04 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 광이미지 및 광메모리용 찰콘 화합물 및 그 제조방법 |
KR100515485B1 (ko) * | 2002-08-28 | 2005-09-15 | 주식회사 동진쎄미켐 | I-라인 포토레지스트용 유기반사방지막 조성물 |
WO2007055134A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Nec Corporation | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
KR101002935B1 (ko) | 2003-10-27 | 2010-12-21 | 삼성전자주식회사 | 에폭시기 및 찰콘기를 가지는 화합물, 이의 제조 방법 및이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS501191A (ja) * | 1973-05-07 | 1975-01-08 | ||
JPS5915418A (ja) * | 1982-07-15 | 1984-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 感光性樹脂 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP17760884A patent/JPS6157610A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS501191A (ja) * | 1973-05-07 | 1975-01-08 | ||
JPS5915418A (ja) * | 1982-07-15 | 1984-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 感光性樹脂 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5024785A (en) * | 1989-01-17 | 1991-06-18 | The Dow Chemical Company | Liquid crystal/rigid rodlike polymer modified epoxy/vinyl ester resins |
KR100487959B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-05-04 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 광이미지 및 광메모리용 찰콘 화합물 및 그 제조방법 |
KR100515485B1 (ko) * | 2002-08-28 | 2005-09-15 | 주식회사 동진쎄미켐 | I-라인 포토레지스트용 유기반사방지막 조성물 |
KR101002935B1 (ko) | 2003-10-27 | 2010-12-21 | 삼성전자주식회사 | 에폭시기 및 찰콘기를 가지는 화합물, 이의 제조 방법 및이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
WO2007055134A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Nec Corporation | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
US7847017B2 (en) | 2005-11-10 | 2010-12-07 | Nec Corporation | Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, optical waveguide and method for producing optical waveguide |
JP5176546B2 (ja) * | 2005-11-10 | 2013-04-03 | 日本電気株式会社 | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
US8414733B2 (en) | 2005-11-10 | 2013-04-09 | Nec Corporation | Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, optical waveguide and method for producing optical waveguide |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109814336B (zh) | 可碱溶负性光敏聚酰亚胺树脂组合物 | |
JP2003040840A (ja) | 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物 | |
JP5552502B2 (ja) | 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物 | |
US5244935A (en) | Composition of ultraviolet curing antifogging agent and process for forming antifogging coating film | |
JPH10316721A (ja) | アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料 | |
JPH10330432A (ja) | 光吸収性ポリマー、光吸収膜形成性組成物及び光吸収膜とそれを用いた反射防止膜 | |
JPS6157610A (ja) | 感光性共重合体およびその製造方法 | |
US6913357B2 (en) | Plastic photochromic lenses for glasses and process for their production | |
JP3022412B2 (ja) | ネガ型フォトレジスト材料、およびそれを用いたパターン形成方法 | |
CN111574656B (zh) | 一种用于黑色矩阵光刻胶的含氟感光树脂及其树脂组合物 | |
EP0444864B1 (en) | Composition of ultraviolet curing antifogging agent and process for forming antifogging coating film | |
JPS5986615A (ja) | 重合性組成物 | |
JP3073556B2 (ja) | フォトクロミックプラスチックレンズの製造方法 | |
EP1474724B1 (en) | Halogenated anti-reflective coatings | |
JPS6185421A (ja) | 感光性樹脂の製造方法 | |
JPH047373A (ja) | カラーフィルター用インキ | |
JPS60217230A (ja) | 熱硬化性組成物 | |
JPS617835A (ja) | レジスト材料 | |
JPS61252225A (ja) | 熱硬化性重合体組成物 | |
JPS6332542A (ja) | 染色可能な感光性組成物 | |
JPS63183440A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
JP3579985B2 (ja) | 保護膜形成用組成物および保護膜 | |
JPS6126638A (ja) | 高屈折率樹脂成型品の製造方法 | |
JPH07188383A (ja) | エポキシ樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタ保護膜用樹脂組成物 | |
JPS61290444A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 |