JPS6155921A - 電子線露光装置におけるマ−ク位置検出方法 - Google Patents
電子線露光装置におけるマ−ク位置検出方法Info
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- JPS6155921A JPS6155921A JP17685384A JP17685384A JPS6155921A JP S6155921 A JPS6155921 A JP S6155921A JP 17685384 A JP17685384 A JP 17685384A JP 17685384 A JP17685384 A JP 17685384A JP S6155921 A JPS6155921 A JP S6155921A
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- Japan
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- level
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- scanning
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
- H01J37/3045—Object or beam position registration
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、電子線露光装置において、ウェハやマスクに
付したマークの位置を自動的１ζ検出するマーク位置検
出方法に関するものである。
付したマークの位置を自動的１ζ検出するマーク位置検
出方法に関するものである。
電子ビーム露光装置においては、電子ビームと試料（マ
スクあるいはウェハ）との相対位置関係を正確に知る必
要があり、それらの位置関係を検出する技術としてマー
ク位置検出がある。
スクあるいはウェハ）との相対位置関係を正確に知る必
要があり、それらの位置関係を検出する技術としてマー
ク位置検出がある。
このマーク位置検出方法として、位置合わせ用マークを
含む試料領域を予めビーム走査し、マーク領域の走査に
よって得られる検出信号のピーク値を求めると共に、マ
ーク領域以外の試料領域の走査によって得られる検出信
号のピーク値を求め、それらのピーク値の間の値をスラ
イスレベルとして設定する方法が知られている（特開昭
５７−２０４１２６号公報）。
含む試料領域を予めビーム走査し、マーク領域の走査に
よって得られる検出信号のピーク値を求めると共に、マ
ーク領域以外の試料領域の走査によって得られる検出信
号のピーク値を求め、それらのピーク値の間の値をスラ
イスレベルとして設定する方法が知られている（特開昭
５７−２０４１２６号公報）。
しかし、上記方法では、マーク位置検出を実行するのに
、予めマーク領域の走査によって検出信号を求める方法
であることから、マーク位置の設定精度が高いことが不
可欠の条件となり、また、予めマーク検出を行なうこと
自体が無駄時間上なっていた。
、予めマーク領域の走査によって検出信号を求める方法
であることから、マーク位置の設定精度が高いことが不
可欠の条件となり、また、予めマーク検出を行なうこと
自体が無駄時間上なっていた。
また、特開昭５５−８５０２８号公報には、マーク検出
用信号増幅器の増幅度を、マーク信号の最大値が一定に
なるように制御し、かつ、最小値をオフセットｆｉｌと
みなして検出信号から除去することで、マーク信号を最
適化する方法が記載されている。
用信号増幅器の増幅度を、マーク信号の最大値が一定に
なるように制御し、かつ、最小値をオフセットｆｉｌと
みなして検出信号から除去することで、マーク信号を最
適化する方法が記載されている。
しかし、上記方法では、マーク信号の直流分、即ちオフ
セット量として、マーク信号の最小値を採用する°方法
であることから、扱いつるマークの種類に制限が生じる
という問題があった。
セット量として、マーク信号の最小値を採用する°方法
であることから、扱いつるマークの種類に制限が生じる
という問題があった。
本発明の目的は、従来技術での上記した問題点を解決し
、マーク位置検出用の電子ビーム走査を実行しながら、
即ちビーム走査の途中で、マーク位置検出のための必要
条件を設定すること、換言ゴれば、実時間でマーク検出
用波形信号を最適化すること、を可能とするマーク位置
検出方法を堤供することにある。
、マーク位置検出用の電子ビーム走査を実行しながら、
即ちビーム走査の途中で、マーク位置検出のための必要
条件を設定すること、換言ゴれば、実時間でマーク検出
用波形信号を最適化すること、を可能とするマーク位置
検出方法を堤供することにある。
上記目的を達成するために、本発明では、電子ビーム走
査開始直後の一定短期間Δｔの上記検出信号のレベル、
即ち短期間Δｔの間の平均レベルあるいはΔを経過時点
でのレベル、を求めてこれをオフセット調整量として以
降の検出信号出力レベルから除去し、引き続く走査によ
って得られる上記調整された検出信号を増幅すると同時
にその増幅利得を、前記マーク位置部に対応する検出信
号出力レベル最大値が設定レベルＥｍに等しくなるよう
に制御し、上記設定レベルＥ。のほぼ１／２を比較用ス
ライスレベルとして上記増幅して得られる検出信号レベ
ルからマーク位置情報を得る方法とする。
査開始直後の一定短期間Δｔの上記検出信号のレベル、
即ち短期間Δｔの間の平均レベルあるいはΔを経過時点
でのレベル、を求めてこれをオフセット調整量として以
降の検出信号出力レベルから除去し、引き続く走査によ
って得られる上記調整された検出信号を増幅すると同時
にその増幅利得を、前記マーク位置部に対応する検出信
号出力レベル最大値が設定レベルＥｍに等しくなるよう
に制御し、上記設定レベルＥ。のほぼ１／２を比較用ス
ライスレベルとして上記増幅して得られる検出信号レベ
ルからマーク位置情報を得る方法とする。
これを、第１図によりさら１ζ具体的に説明する。
第１図ｔａ＋は試料に装着されたマークと電子ビーム走
査との関係を示した図である。マーク１０を含む領域を
電子ビーム１１で、まずＨ−ｉｆ）、次にＩＩ−＋２＋
、さらに１ｌ−＋３＋・・・・・・のように走査する。
査との関係を示した図である。マーク１０を含む領域を
電子ビーム１１で、まずＨ−ｉｆ）、次にＩＩ−＋２＋
、さらに１ｌ−＋３＋・・・・・・のように走査する。
第１図（ｂｌの波形１２は、ビーム走査により、マーク
信号検出器から得られるマーク信号を示している。即ち
、マーク信号１２は、ビーム走査（照射）によって生じ
るベース信号レベルＥＢとマーク部位からの信号Ｅ、と
から成る。この場合、スライスレベルとしては同図に示
されている破線レベル１３が採用されることになるが、
図から判るように、ベースレベルＥＢが高いほど、即ち
コントラス） ＥＳ／ＥＢが小さいほど、検出の安定性
が損なわれる。
信号検出器から得られるマーク信号を示している。即ち
、マーク信号１２は、ビーム走査（照射）によって生じ
るベース信号レベルＥＢとマーク部位からの信号Ｅ、と
から成る。この場合、スライスレベルとしては同図に示
されている破線レベル１３が採用されることになるが、
図から判るように、ベースレベルＥＢが高いほど、即ち
コントラス） ＥＳ／ＥＢが小さいほど、検出の安定性
が損なわれる。
そこで、本発明では、ビーム走査を開始してからある一
定の比較的短かい時間Δｔが経過するまでの間１こベー
スレベルＥＢを検出する。そして、Δｔが経過した時点
以降は、検出されるマーク信号に対して、全て、ＥＢだ
け引き算される。即ち、レベルＥＢが除去され、マーク
信号は波形１４となる。一方、上記時間Δｔが経過した
後、マーク信号の最大値が予め設定されたレベルＥｆｆ
ｌと等しくなるように、マーク信号増幅器の増幅ゲイン
を制御することにより、結局、マーク信号は波形】４で
示すようにコントラストの高い信号となる。なお、今の
例の場合、ビーム走査が１１−＋１１の時の雑音は、増
幅器が最大ゲインに設定される故に、増幅されて大きく
なっている。
定の比較的短かい時間Δｔが経過するまでの間１こベー
スレベルＥＢを検出する。そして、Δｔが経過した時点
以降は、検出されるマーク信号に対して、全て、ＥＢだ
け引き算される。即ち、レベルＥＢが除去され、マーク
信号は波形１４となる。一方、上記時間Δｔが経過した
後、マーク信号の最大値が予め設定されたレベルＥｆｆ
ｌと等しくなるように、マーク信号増幅器の増幅ゲイン
を制御することにより、結局、マーク信号は波形】４で
示すようにコントラストの高い信号となる。なお、今の
例の場合、ビーム走査が１１−＋１１の時の雑音は、増
幅器が最大ゲインに設定される故に、増幅されて大きく
なっている。
ここで、第１図ｔｂｌの１５はスライスレベルでアル。
このスライスレベルはほぼ（＋／２）Ｅｆｆｌに設定さ
れる。
れる。
従って、マーク信号１４がスライスレベル１５ヲよぎっ
た時点の電子ビーム位置を求めることにより、マーク位
置が判ることになる。この様子を示しているのが第１図
（Ｃ１である。第１図ｔｃ＋において、＊印は各ビーム
走査ごと審ζ検出されるマーク位置を示している。今の
例の場合では＊印が４つ存在するビーム走査線、即ち、
１１− ＋２１及び１１−＋３１がマークをよぎってい
る走査線であるということが判る。
た時点の電子ビーム位置を求めることにより、マーク位
置が判ることになる。この様子を示しているのが第１図
（Ｃ１である。第１図ｔｃ＋において、＊印は各ビーム
走査ごと審ζ検出されるマーク位置を示している。今の
例の場合では＊印が４つ存在するビーム走査線、即ち、
１１− ＋２１及び１１−＋３１がマークをよぎってい
る走査線であるということが判る。
故に、１１−＋２１の走査を終えた所で、これ以上の走
査を実行する必要が俸いとして、走査を終了させること
ができる。もちろん、データの信頼性を上げるために、
＊印が４つ存在する走査線数が複数（Ｎ）本になった所
で走査を止めるようにすることもできる。
査を実行する必要が俸いとして、走査を終了させること
ができる。もちろん、データの信頼性を上げるために、
＊印が４つ存在する走査線数が複数（Ｎ）本になった所
で走査を止めるようにすることもできる。
以上に述べた本発明方法によるならば、マーク位ａ検出
をするために必要な条件（即ち、オフセットレベルの除
去、振幅の最適化、スライスレベルの決定）の設定を行
ないながら同時にマーク位置検出が可能となり、従来方
法の場合の俸駄時間がなくなるという利点がある。
をするために必要な条件（即ち、オフセットレベルの除
去、振幅の最適化、スライスレベルの決定）の設定を行
ないながら同時にマーク位置検出が可能となり、従来方
法の場合の俸駄時間がなくなるという利点がある。
以下、本発明の一実施例を第２図により説明する。第２
図において、１１は電子ビーム、２０は走査信号発生器
、２１はマーク１０〔第１図（ａ）〕を含む試料、２２
はマーク信号検出器、２３はオフセットを除去するため
のＤ／Ａ変換器、２４はオフセットレベル調整用増幅器
、２５はＡ／Ｄ変換器、２７は増幅器、２９はマーク信
号処理回路、３０はレジスタ、３１は最大値検出・ホー
ルド回路、３２は増幅率設定回路、３４は制＠ＣＰＵ、
３５はビームをオン／ｌ ｙ制御する回路である。
図において、１１は電子ビーム、２０は走査信号発生器
、２１はマーク１０〔第１図（ａ）〕を含む試料、２２
はマーク信号検出器、２３はオフセットを除去するため
のＤ／Ａ変換器、２４はオフセットレベル調整用増幅器
、２５はＡ／Ｄ変換器、２７は増幅器、２９はマーク信
号処理回路、３０はレジスタ、３１は最大値検出・ホー
ルド回路、３２は増幅率設定回路、３４は制＠ＣＰＵ、
３５はビームをオン／ｌ ｙ制御する回路である。
このような構成において、走査信号発生器２０には、制
＠ＣＰＵ３４より、所定のデータが予めセット−されて
いる。＊ＩＧＩＩＣＰＵ３４から走査信号発生器２゜に
起動をかけると、走査信号発生器２０は、ビームオンｈ
フ制仰回路３５に対ル、電子ビーム１１をオンにするよ
う指令を出す。この結果、電子ビーム１１が試料２１を
照射すると、マーク信号検出器２２はその時の試料２１
から発生する電子、即ち、マーク信号ノヘースレヘルヲ
検出し、オフセットレベル調整用増幅器２４を経由し、
出力線２６に電圧信号として出力する。レジスタ３０は
制＠ＣＰＵ３４によって予めリセットされている。ビー
ム走査開始から、設定された短時間Δｔが経過した時点
で、走査信号発生器２０はＡ／Ｄ変換器２５に起動をか
ける。Ａ／Ｄ変換器２５は出力線２６のこの時点の出力
電圧信号、即ち第１図（ｂｌのＥＢ、をＡ／Ｄ変換し、
これをレジスタ３０にセットする。このレジスタ３０の
内容に基いてＤ／Ａ変換器２３は、出力線２６の電圧レ
ベルがほぼ零になるような感度の出力をオフセット調整
用増幅器２４の一方の入力端に入力する。ここまでの回
路動作で、ビーム走査開始直後の設定短期間汎が経過し
た時点の検出信号レベルＥＢがオフセットレベルとして
検出され、以降の検出信号出力レベルから除去されるこ
とになる。なお、上記実施例では、設定期間Δｔが経過
した時点の検出信号レベルをオフセット調整量とすると
したが、これは、設定期間Δｔの間の検出信号レベルの
平均を求めてこれをオフセット調整量とすることも、僅
かの回路構成の変更で可能である。
＠ＣＰＵ３４より、所定のデータが予めセット−されて
いる。＊ＩＧＩＩＣＰＵ３４から走査信号発生器２゜に
起動をかけると、走査信号発生器２０は、ビームオンｈ
フ制仰回路３５に対ル、電子ビーム１１をオンにするよ
う指令を出す。この結果、電子ビーム１１が試料２１を
照射すると、マーク信号検出器２２はその時の試料２１
から発生する電子、即ち、マーク信号ノヘースレヘルヲ
検出し、オフセットレベル調整用増幅器２４を経由し、
出力線２６に電圧信号として出力する。レジスタ３０は
制＠ＣＰＵ３４によって予めリセットされている。ビー
ム走査開始から、設定された短時間Δｔが経過した時点
で、走査信号発生器２０はＡ／Ｄ変換器２５に起動をか
ける。Ａ／Ｄ変換器２５は出力線２６のこの時点の出力
電圧信号、即ち第１図（ｂｌのＥＢ、をＡ／Ｄ変換し、
これをレジスタ３０にセットする。このレジスタ３０の
内容に基いてＤ／Ａ変換器２３は、出力線２６の電圧レ
ベルがほぼ零になるような感度の出力をオフセット調整
用増幅器２４の一方の入力端に入力する。ここまでの回
路動作で、ビーム走査開始直後の設定短期間汎が経過し
た時点の検出信号レベルＥＢがオフセットレベルとして
検出され、以降の検出信号出力レベルから除去されるこ
とになる。なお、上記実施例では、設定期間Δｔが経過
した時点の検出信号レベルをオフセット調整量とすると
したが、これは、設定期間Δｔの間の検出信号レベルの
平均を求めてこれをオフセット調整量とすることも、僅
かの回路構成の変更で可能である。
走査信号発生器２０は、上記期間Δｔが経過するトＡ／
Ｄ ’ｌ Ｉｋ器２５からレジスタ３０へのデータ書込
みを禁止すると共に、電子ビーム１１を第１図（ａ）で
示したよう）こ走査する。走査の結果、出力線２６に出
現する、オフセット調整された検出信号は、増幅器２７
に送られると同時に、Ａ／Ｄ変換器２５でディジタル化
されて最大値検出・ホールド回路３１（ζ送られる。最
大値検出・ホールド回路３１の出力は、出力線２６の電
圧レベルをＥｌとし、出力線２８の電圧レベルをＥｏと
してＥＯ＝に−Ｅｉ＝一定となるような係数に１こ、増
幅率設定回路３２で、変換され、出力線３３を介して増
幅器２７の増幅率を制御する。
Ｄ ’ｌ Ｉｋ器２５からレジスタ３０へのデータ書込
みを禁止すると共に、電子ビーム１１を第１図（ａ）で
示したよう）こ走査する。走査の結果、出力線２６に出
現する、オフセット調整された検出信号は、増幅器２７
に送られると同時に、Ａ／Ｄ変換器２５でディジタル化
されて最大値検出・ホールド回路３１（ζ送られる。最
大値検出・ホールド回路３１の出力は、出力線２６の電
圧レベルをＥｌとし、出力線２８の電圧レベルをＥｏと
してＥＯ＝に−Ｅｉ＝一定となるような係数に１こ、増
幅率設定回路３２で、変換され、出力線３３を介して増
幅器２７の増幅率を制御する。
Ａ／Ｄ変換器２５の出力が最大値検出・ホールド回路３
１１ζホールドされ上記係数Ｋが増幅器２７に入力され
る動作が終了すると、この終了信号でもって、走査信号
発生器２０は所定のステップで電子ビーム１１を移動さ
せ、移動後再びＡ／Ｄ変換器２５に起動をかける。と云
った順序で第１図ｔａ）の１１−［１）で示す走査が行
なわれる。Ａ／Ｄ変換器２５の出力が、それ以前の最大
値よりも大きければ、最大値検出・ホールド回路３１の
内容は更新される。今の例の場合、第１図ｔａｌの走査
線１ｌ−ｉｆ）の走査期間にはマークが無いので増幅器
２７は最大ゲイン化設定され続ける。この結果、出力線
２８には、第１図（ｂｌの波形１４で示しているように
走査線１ｌ−ｆｉｌの期間において大きな雑音だけが生
じることになる。
１１ζホールドされ上記係数Ｋが増幅器２７に入力され
る動作が終了すると、この終了信号でもって、走査信号
発生器２０は所定のステップで電子ビーム１１を移動さ
せ、移動後再びＡ／Ｄ変換器２５に起動をかける。と云
った順序で第１図ｔａ）の１１−［１）で示す走査が行
なわれる。Ａ／Ｄ変換器２５の出力が、それ以前の最大
値よりも大きければ、最大値検出・ホールド回路３１の
内容は更新される。今の例の場合、第１図ｔａｌの走査
線１ｌ−ｉｆ）の走査期間にはマークが無いので増幅器
２７は最大ゲイン化設定され続ける。この結果、出力線
２８には、第１図（ｂｌの波形１４で示しているように
走査線１ｌ−ｆｉｌの期間において大きな雑音だけが生
じることになる。
１木目の走査線１１−＋１１の走査が終了すると、走査
信号発生器２０は電子ビーム１１をＹ軸方向（ビーム走
査と直交する方向）に所定のピッチだけ移動させ、走査
線１１−＋２１の走査を開始する。走査が進行し、電子
ビームがマーク１０を照射すると、出力線２６の電圧が
マークに対応して変化する。通常、雑音振幅よりも、第
１図［ｂｌのＥＳで示す信号の方が大きいから、マーク
位置検出に伴って、最大値検出・ホールド回路３１の内
容は増幅器２７のゲインを下げるように更新される。こ
の結果、出力線２８に現われる検出信号レベルは第１図
１ｂ＋の１１−＋２）で示すよう１ζ、設定レベルＥｆ
ｆｌとレベルか等しくなる。
信号発生器２０は電子ビーム１１をＹ軸方向（ビーム走
査と直交する方向）に所定のピッチだけ移動させ、走査
線１１−＋２１の走査を開始する。走査が進行し、電子
ビームがマーク１０を照射すると、出力線２６の電圧が
マークに対応して変化する。通常、雑音振幅よりも、第
１図［ｂｌのＥＳで示す信号の方が大きいから、マーク
位置検出に伴って、最大値検出・ホールド回路３１の内
容は増幅器２７のゲインを下げるように更新される。こ
の結果、出力線２８に現われる検出信号レベルは第１図
１ｂ＋の１１−＋２）で示すよう１ζ、設定レベルＥｆ
ｆｌとレベルか等しくなる。
出力線２８に現われる検出信号は信号処理回路２９１ζ
入力される。信号処理回路２９は、第１図１ｂ＋のレベ
ル】５、即ち上記設定レベルＥＩ、ｌの％、を比較用の
スライスレベルとして、出力線２８から入力される信号
レベルが上記比較用スライスレベルをよぎった時点のビ
ーム位置、即ちマーク位置、を抽出する回路である。即
ち、第１図ｔｃ）で示すように。
入力される。信号処理回路２９は、第１図１ｂ＋のレベ
ル】５、即ち上記設定レベルＥＩ、ｌの％、を比較用の
スライスレベルとして、出力線２８から入力される信号
レベルが上記比較用スライスレベルをよぎった時点のビ
ーム位置、即ちマーク位置、を抽出する回路である。即
ち、第１図ｔｃ）で示すように。
今の場合、＊印が４つであることを抽出する。
さらに、３本目の走査線１ｌ−＋３１に進み、第１図（
Ｃ１で示すように、この走査線１１−１３１においても
、＊印が４つであることか抽出されると、＊印４つの走
査線が２本になったことにより、信号処理回路２９は、
走査信号発生器２０に終了信号を送出すると共に、制Ｑ
ＩＣＰＵ３４に対し、終了割込みをかける。
Ｃ１で示すように、この走査線１１−１３１においても
、＊印が４つであることか抽出されると、＊印４つの走
査線が２本になったことにより、信号処理回路２９は、
走査信号発生器２０に終了信号を送出すると共に、制Ｑ
ＩＣＰＵ３４に対し、終了割込みをかける。
’ｔ制御ｃＰＵ３４は、信号処理回路２９内部に格納さ
れている、マーク位置データを読出し、必要に応じて利
用する。
れている、マーク位置データを読出し、必要に応じて利
用する。
以上の説明においては、１本目の走査線＋１−ｉｌｌの
期間、増幅器２７のゲインが太き（設定されていても、
雑音信号のレベルが比較用スライスレベル１５をよぎる
ことはないとして説明したが、しかし全ての雑音信号に
対して上記条件が成立する保証はない。この不都合を回
避する方法として、例えば次のような方法が考えられる
。即ち、前述のように、マーク位置検出と同時（ζ最大
値検出・ホールド回路３１の内容は増幅器２７のゲイン
を下げるように更新されるので、ゲインの下がる時点を
検出してそれ以前のデータを捨てる方法、あるいは前述
した第１図ｆｃ）の走査線１１−＋２１．１１−＋３１
のように、少なくとも２本の走査線に、ある範囲内の対
応位置に同じ偶数個数の＊印が検出されたことでマーク
位置検出動作終了と判定する方法、あるいは、本発明者
等１こより別途出願ずみの、増幅率設定回路３２の出力
がある値以上である場合、すなわち、１幅器２７のゲイ
ンが所定値よりも大きく設定されるような場合にはマー
ク信号処理回路２９のマーク検出動作を禁止する方法、
などが考えられる。
期間、増幅器２７のゲインが太き（設定されていても、
雑音信号のレベルが比較用スライスレベル１５をよぎる
ことはないとして説明したが、しかし全ての雑音信号に
対して上記条件が成立する保証はない。この不都合を回
避する方法として、例えば次のような方法が考えられる
。即ち、前述のように、マーク位置検出と同時（ζ最大
値検出・ホールド回路３１の内容は増幅器２７のゲイン
を下げるように更新されるので、ゲインの下がる時点を
検出してそれ以前のデータを捨てる方法、あるいは前述
した第１図ｆｃ）の走査線１１−＋２１．１１−＋３１
のように、少なくとも２本の走査線に、ある範囲内の対
応位置に同じ偶数個数の＊印が検出されたことでマーク
位置検出動作終了と判定する方法、あるいは、本発明者
等１こより別途出願ずみの、増幅率設定回路３２の出力
がある値以上である場合、すなわち、１幅器２７のゲイ
ンが所定値よりも大きく設定されるような場合にはマー
ク信号処理回路２９のマーク検出動作を禁止する方法、
などが考えられる。
なお、上述した実施例においては、電子ビームの走査は
、走査信号発生器２０によって行なうとしたが、これは
、制＠ＣＰＵ３４によって、各走査点ごとに走査信号を
送出する方法とすることもできる。また、オフセット調
整量の除去操作や、増幅器２７の増幅度設定を、出力線
２６に現われるアナログ電圧信号をＡ／Ｄ変換器２５で
ディジタル変換してディジタル的に行なっているが、こ
れらは、全てをアナログ的に行なわせることも可能であ
り、同じ効果が得られる。さらに、マーク信号処理回路
２９におけるマークエツジ抽出を、実施例ではアナログ
的に行なったが、出力線２８の途中にＡ／Ｄ変換器を設
け、ディジタル的＋Ｃ処理する方法とすることもできる
。
、走査信号発生器２０によって行なうとしたが、これは
、制＠ＣＰＵ３４によって、各走査点ごとに走査信号を
送出する方法とすることもできる。また、オフセット調
整量の除去操作や、増幅器２７の増幅度設定を、出力線
２６に現われるアナログ電圧信号をＡ／Ｄ変換器２５で
ディジタル変換してディジタル的に行なっているが、こ
れらは、全てをアナログ的に行なわせることも可能であ
り、同じ効果が得られる。さらに、マーク信号処理回路
２９におけるマークエツジ抽出を、実施例ではアナログ
的に行なったが、出力線２８の途中にＡ／Ｄ変換器を設
け、ディジタル的＋Ｃ処理する方法とすることもできる
。
以上説明したように、本発明によれば、電子ビームによ
ってマーク位置を検出するのに必要な条”１＃−（オフ
セット量の除去、検出信号を増幅するための増幅ゲイン
の最適化）設定をしながら、同時にマーク位置検出が可
能となり、この結果、マーク検出の所要時間を従来の約
Ａに短縮できる利点がある。
ってマーク位置を検出するのに必要な条”１＃−（オフ
セット量の除去、検出信号を増幅するための増幅ゲイン
の最適化）設定をしながら、同時にマーク位置検出が可
能となり、この結果、マーク検出の所要時間を従来の約
Ａに短縮できる利点がある。
第１図１ｂ＋はマークと電子ビーム走査線との位置関係
を示す図、ｔｂｌはマーク１号の一例を示す図、［Ｃ）
はマーク位置検出結果を示す図、第２図は本発明の一実
施例回路図である。 く符号の説明〉 １０・・・マーク １１−＋１１．１１−＋２１．１ｌ−＋３）・・・電子
ビーム１３．１５・・・スライスレベル ２０・・・走査信号発生器 ２１・・・マークを含む試料 ２２・・・信号検出器 ２４ 、２７・・・増幅器 ２９・・・マーク信号処理回路 ３０・・・レノスタ コト・最大値検出・ホールド回路 ３２・・・増幅率設定回路 ３４・・・制８ｃｐｕ
を示す図、ｔｂｌはマーク１号の一例を示す図、［Ｃ）
はマーク位置検出結果を示す図、第２図は本発明の一実
施例回路図である。 く符号の説明〉 １０・・・マーク １１−＋１１．１１−＋２１．１ｌ−＋３）・・・電子
ビーム１３．１５・・・スライスレベル ２０・・・走査信号発生器 ２１・・・マークを含む試料 ２２・・・信号検出器 ２４ 、２７・・・増幅器 ２９・・・マーク信号処理回路 ３０・・・レノスタ コト・最大値検出・ホールド回路 ３２・・・増幅率設定回路 ３４・・・制８ｃｐｕ
Claims (1)
- 試料上に位置合わせ用マークを設定し、このマークを含
む試料領域を電子ビームで走査し、この走査によって放
出される電子に対応する検出信号が比較用のスライスレ
ベルをよぎった時点の電子ビーム位置からマーク位置情
報を得るマーク位置検出方法において、電子ビーム走査
開始直後の一定短期間Δｔの上記検出信号のレベルを求
めこれをオフセット調整量として以降の検出信号の出力
レベルから除去し、引き続く走査によって得られる上記
オフセット調整された検出信号を増幅すると共にその増
幅利得を、前記マーク位置部に対応する検出信号出力レ
ベル最大値が設定レベルＥ＿ｍに等しくなるように制御
し、上記設定レベルＥ＿ｍのほぼ１／２を比較用スライ
スレベルとして上記増幅して得られる検出信号レベルか
らマーク位置情報を得ることを特徴とする電子線露光装
置におけるマーク位置検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17685384A JPS6155921A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 電子線露光装置におけるマ−ク位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17685384A JPS6155921A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 電子線露光装置におけるマ−ク位置検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6155921A true JPS6155921A (ja) | 1986-03-20 |
Family
ID=16020973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17685384A Pending JPS6155921A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 電子線露光装置におけるマ−ク位置検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6155921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018113371A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP17685384A patent/JPS6155921A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018113371A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 |
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