JPS6153703A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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JPS6153703A
JPS6153703A JP17568184A JP17568184A JPS6153703A JP S6153703 A JPS6153703 A JP S6153703A JP 17568184 A JP17568184 A JP 17568184A JP 17568184 A JP17568184 A JP 17568184A JP S6153703 A JPS6153703 A JP S6153703A
Authority
JP
Japan
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film
temperature
alloy
composition
direction perpendicular
Prior art date
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Pending
Application number
JP17568184A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunio Nakajima
邦雄 中島
Tadashi Sato
正 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
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Publication of JPS6153703A publication Critical patent/JPS6153703A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、膜面と垂直な方向に磁化容易軸?有し、元を
介して反転磁区を作ることにより情報を記録し、磁気光
学効果(カー効果)全利用して読み出すことのできる光
磁気記録媒体に関するものである。
〔従来の技術〕
一般に、膜面と垂直な方向に磁化容易軸?有する磁性薄
膜をガラス、PO1PMMA基板面上に形成させ、キュ
リ一点あるいは、磁気的補償温度を利用して元ビームに
よシ反転出区全作ることに工って情報で記録させ、記録
させた情報を磁気光学効果を利用して読み出す光磁気記
録が知られている。
従来、膜面と垂直な方向に06化容易@を有する非晶質
磁性薄膜材料は、希土類と鉄族元素との組み合せ力・ら
なシ光破気記碌媒体として進められている。
上記の非晶質磁性薄膜材料とじてに、P。
ChauaharlらによるApplPhye、Let
t、 。
VoL 22(1973)Nα7,9557−559に
示されているG 60 o 、 S’hunsuke、
MatsuhLtaらによるJapan、J、Appl
、Phys、、VoL15(1976)Nα4.P71
3−714に示されているTbFeなどの希土類−鉄族
金属の組み合せより成る合金である。
これらの研究で明らかなように、TbFe等のFe系合
金薄膜は、キュリ一温度?利用した記録方法であり; 
GdCo等のCo系合金薄膜は、補償温度を利用した記
録方法で記録の原理が異なっている。
この中で補償温度記録を行なうGdCo非晶質磁性薄膜
は、 (1)補償温度以上での保磁力の急激な減少全利用して
いるので書き込み感度が高い。
(2)耐酸化性にすぐれている。
(3)反射率がよい。
(4)  キュIJ−i度が高いため磁気カー効果によ
る読み出し信号が太きい。
などの実用上優れ7c%徴に有している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、室温にかける保磁力が小さく(300〜500
エルステツド)、記録されたビットがFe系合金に比べ
て不安定であるという欠点に有している。
しかも、300〜500エルステツドの保持力を有する
非晶質磁性薄膜全作製するために砿組成全約1原子パー
セント以内に制御する必要があり作製の面でもかなυ困
難である。
また大きな保磁力に持つことができないので書き込みビ
ットが安定に存在する温度範囲すなわち使用温度範囲が
狭いという欠点があった。
そこで1本発明は従来のこのような欠点全解決し、小さ
なビット径が広い温度範囲にわたり安定に存在し、〃λ
つ均一な磁気特性をtつ大面積の溝膜を提供すること2
目的としている。
〔問題を解決するための手段〕
上記の問題全解決する窺めにこの発明は、従来OCo系
合金膜が補償温度以上での保持力の急激な減少を利用し
た情報の記録方式を膜面に垂直な    1方向に磁化
容易aIIk有する磁性薄膜で合金の組成式f (T 
”b x Oo 1− x) 】−Y M xとしたと
き、MldRe、Ru、Rh、Ti、Zr、Hf、V。
Nb、Taの一種以上で、かつ合金の組成範囲が0.1
≦X≦0.4 、0.01≦Y≦Q、25とすることに
より、キュリ一温度を利用しt情報の記録方式とし使用
することを可能とした。
〔作用〕
Tb0o膜UT b’a度が18〜25原子バー−(=
ントのとき室温での保磁力が1000エルステッド以上
であり、かつ補償温度が100℃以下にあり膜面に垂M
な方向に磁化容易軸をもつがキュリa 、’ixは、こ
の膜が結晶化する温度(350〜450℃)よシも高く
迎常の方法では測定できないことが知られている。
従って、Tb0o膜のキュリ一温度全適当な値K #l
J御するために本発明では、第三元素としてRe、Ru
、Rh、Ti、Zr、Hf、V、Nbのうち一種以上に
添加することを見いだした。
第6図は従来がら知られているTb0o膜におけるキュ
リ一温度、補償温度、結晶化温度のTbA匿との関係を
示している。第1図は、Tb25原子パーセントのとき
、TL’z添加した場合のものである。TLki加する
ことにょ)キュリ一温度が制御でき、効果が現われてい
ることt示している。
〔実薙例〕
以下、この発明の実晦例にもとすいて説明する。
これらの膜は、スパッタリング法により作製したが真空
蒸着法、イオンブレーティング法などのその他の多くの
物理的ペイバーディポジション法によっても作製するこ
とができる。また基鈑には、ガラス、透明プラスチック
などに用いる。
第1図に示す二うに添加元素の量を調整することにより
キュリーτ島度Tcを制御できる。まt添加量とともに
結晶化温度が上昇するtめの熱的な膜の安定性も向上す
る。図面は、T1の例であるがRe、Ru、Rh、Zr
、Hf、V、Nbも同様の効果がみられる。さらにこれ
らの元素老複合させて添加することも効果がある。
第2図は室温で測定した補償組成付近の保−力HcとT
b纜度との関g−を示したものである。
T1の添加は検出力Hct若干減少させるが、比取的広
い組成範囲にわたり保持力Hcの大きな部分が存在し、
厘径1μm程度の微少ビットが安定に存在することがで
き光磁気記録媒体として優れてbる。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したように、合金の組成式%式% Nb、Taのうち一種以上で、組成範囲が0.i≦X≦
Q、40,0.01≦Y≦125のとき、キュリ一温度
?利用し7C記録が可能とな)小さなビット径が広い温
度範囲に2−)たり安定に存在し、均一な磁気特注tも
つ大面積の磁性薄膜老提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に刀)かる(TbXC01−x)1−
YMYの代表例を示す。すなわち、M=T L 。 X=[125のときの添加量に対するキュリ一温度。 補償湯度、結晶fヒ温度との関係を示す。 第2図は’rbcoとTbc!OT1とのTb濃度と保
S力の関係?示す。 第5図はTl)Coの場合のTk)濃度とキュリ一温度
、補償温度、結晶化温度の関係士示す図である。 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 第1図 丁b25こC75−X TLX TLのJ>jn量X(qtVo) 第2図 袖′償組仄 (αto10)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性導膜で合金
    の組成が、 (TbxCo_1_−_x)_1_−_Y_M_Yで表
    わされることを特徴とする光磁気記録媒体。 ここでMは、Re、Ru、Rh、Ti、Zr、Hf、V
    、Nb、Taの一種以上であり、合金組成範囲は 0.1≦X≦0.4 0.01≦Y≦0.25 である。
JP17568184A 1984-08-23 1984-08-23 光磁気記録媒体 Pending JPS6153703A (ja)

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Cited By (4)

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