JPS6153009A - セラミツク成形体の製造方法 - Google Patents
セラミツク成形体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6153009A JPS6153009A JP17460284A JP17460284A JPS6153009A JP S6153009 A JPS6153009 A JP S6153009A JP 17460284 A JP17460284 A JP 17460284A JP 17460284 A JP17460284 A JP 17460284A JP S6153009 A JPS6153009 A JP S6153009A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- ceramic molded
- clay
- manufacture
- material powder
- Prior art date
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- Pending
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- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Preparation Of Clay, And Manufacture Of Mixtures Containing Clay Or Cement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は押出成形法あるいは射出成形法によってセラミ
ック成形体を製造する方法に関するものである。
ック成形体を製造する方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
押出成形法におりては、従来セラミック原料粉末と有機
バインタ水溶液及び可塑剤を二一夕や三段０−ル等の混
練機にてよく混練し、次−で真空土練機にて坏土を練っ
た後、押出成形機にて所定の形状に成形していた。また
、射出成形法においては、セラミック原料粉末と有機パ
イ：７タ及び潤滑剤や分散剤等を加熱二一夕等にて加熱
混練し、冷却後粗砕し、射出成形機にて所定の形状に成
形していた。これらの成形方法のいずれにおいても、セ
ラミック原料粉末と有機パイｙり等の混線工程が最重要
ポイントで、ミクロ−Ｊ単位の原料粉末と有機パイ、７
タをいかに均一に練りあげるかが、後の成形性を左右し
、また、その後の焼成工程での完成品のばらつきを左右
するポイントである。このため、この混線工程には十分
時間をかけ、いわゆる「練り」を良くする努力がなされ
てきたが、米だ十分とはいえず、焼結体の内部にバイン
ダの未溶解あるいは、偏在による粗大気孔がみられたり
、また焼結体の寸法ばらつきも十分小さｉとはいえなか
った。
バインタ水溶液及び可塑剤を二一夕や三段０−ル等の混
練機にてよく混練し、次−で真空土練機にて坏土を練っ
た後、押出成形機にて所定の形状に成形していた。また
、射出成形法においては、セラミック原料粉末と有機パ
イ：７タ及び潤滑剤や分散剤等を加熱二一夕等にて加熱
混練し、冷却後粗砕し、射出成形機にて所定の形状に成
形していた。これらの成形方法のいずれにおいても、セ
ラミック原料粉末と有機パイｙり等の混線工程が最重要
ポイントで、ミクロ−Ｊ単位の原料粉末と有機パイ、７
タをいかに均一に練りあげるかが、後の成形性を左右し
、また、その後の焼成工程での完成品のばらつきを左右
するポイントである。このため、この混線工程には十分
時間をかけ、いわゆる「練り」を良くする努力がなされ
てきたが、米だ十分とはいえず、焼結体の内部にバイン
ダの未溶解あるいは、偏在による粗大気孔がみられたり
、また焼結体の寸法ばらつきも十分小さｉとはいえなか
った。
発明の目的
本発明は、上記従来の欠点を解消するもので、セラミッ
ク原料粉末と有機バインダ等をきわめて均一に混合し、
その結果としてセラミック焼結体の気孔を少なくすると
共に、セラミック焼結体の寸法ばらつきを低減すること
ができるセラミック成形体の製造方法を提供することを
目的とする。
ク原料粉末と有機バインダ等をきわめて均一に混合し、
その結果としてセラミック焼結体の気孔を少なくすると
共に、セラミック焼結体の寸法ばらつきを低減すること
ができるセラミック成形体の製造方法を提供することを
目的とする。
発明の構成
上記目的を達成するために、本発明のセラミック成形体
の製造方法は、ｔう三ツク原料粉末と有機バイシタ及び
所要の添加物を予備混練して得た坏土を凍結させた状態
で凍結粉砕機にて粉砕し、粉砕物を再び混練機にて混練
したものを成形機にて成形する構成である。
の製造方法は、ｔう三ツク原料粉末と有機バイシタ及び
所要の添加物を予備混練して得た坏土を凍結させた状態
で凍結粉砕機にて粉砕し、粉砕物を再び混練機にて混練
したものを成形機にて成形する構成である。
実施例の説明
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例１
セラミック原料粉末としてＰＺＴ系圧電材料粉末を使用
した。セラミック原料粉末１００部に対し、有機バイシ
タとしてメチルセル０−１２部、可塑剤としてグリセリ
ン２部を二一夕に入れ、乾式で５分１ｔυ混合した。そ
の後混合をつづけながら純水１２部を徐々に加え、粘土
状の坏土とした。ここまでのものを、比較例としては、
真空土練機にて２回繰り返し練ったものをつくった。ま
た、本発明の実施例として、子不土を液体窒素にて凍結
、粗砕した後、凍結粉砕機（商品名タライオミル）にて
液体窒素温度に保ったまま機械的微粉砕を行なった。し
かる後、微粉砕坏土を１０℃までの温度にもどし再び二
一夕にて８０分混練を行なった。
した。セラミック原料粉末１００部に対し、有機バイシ
タとしてメチルセル０−１２部、可塑剤としてグリセリ
ン２部を二一夕に入れ、乾式で５分１ｔυ混合した。そ
の後混合をつづけながら純水１２部を徐々に加え、粘土
状の坏土とした。ここまでのものを、比較例としては、
真空土練機にて２回繰り返し練ったものをつくった。ま
た、本発明の実施例として、子不土を液体窒素にて凍結
、粗砕した後、凍結粉砕機（商品名タライオミル）にて
液体窒素温度に保ったまま機械的微粉砕を行なった。し
かる後、微粉砕坏土を１０℃までの温度にもどし再び二
一夕にて８０分混練を行なった。
これら２種類の坏土から押出成形機にて直径６關の棒状
の試料を押出し、乾燥後１２ｍの長さに切断し、アルミ
ナ匣中で１２５０℃で１時間焼成した。
の試料を押出し、乾燥後１２ｍの長さに切断し、アルミ
ナ匣中で１２５０℃で１時間焼成した。
これら両種類のものについて、焼結体の密度及び最大気
孔径の測定値を第１表に示す。同表から、本実施例のも
のでは焼結体密度が大きく、最大気孔径が小さいことが
分る。
孔径の測定値を第１表に示す。同表から、本実施例のも
のでは焼結体密度が大きく、最大気孔径が小さいことが
分る。
＊ 密度は同種類のもの１０個の平均値や
＊＊ 最大気孔径はｌ−の顕微鏡視野内の値実施例２
セラミック原料粉末として平均粒径１２μのアルミナ粉
末を用いた。この原料粉末１００部に対し、有機バイシ
タとしてアタクチックボリプ０じトン１２都、潤滑剤と
してステｖＩ７シ酸２ｓを用いた。
末を用いた。この原料粉末１００部に対し、有機バイシ
タとしてアタクチックボリプ０じトン１２都、潤滑剤と
してステｖＩ７シ酸２ｓを用いた。
これらの材料を加熱二一夕にて１７０℃で２０分間混合
を行なった。比較例としては、更にこの加熱二一タによ
る混合を１時間続けて得られた坏土を用いた。また、本
発明の実施例として、−担常温まで冷却したも゛のを８
メツシユ鋳を通るまで乳鉢にて粗砕した後、液体窒素温
度まで冷却しながら凍結粉砕機にて微粉砕を行なった。
を行なった。比較例としては、更にこの加熱二一タによ
る混合を１時間続けて得られた坏土を用いた。また、本
発明の実施例として、−担常温まで冷却したも゛のを８
メツシユ鋳を通るまで乳鉢にて粗砕した後、液体窒素温
度まで冷却しながら凍結粉砕機にて微粉砕を行なった。
次に、粉砕物を結露しないように常温までもどした後、
再び加熱二一夕にて１７０℃で８０分間加熱混線を行な
った。
再び加熱二一夕にて１７０℃で８０分間加熱混線を行な
った。
これら両種類の坏土から射出成形機にてｌ０Ｘ４０×８
の板状標準試験片を成形した。これを８’Ｃ／［１ｒの
昇温速度で８５０℃まで上げて脱脂し、最終的に１６５
０℃で８時間焼結した。焼成後の寸法は６ｊ）Ｘ ２６
Ｘ２Ｄであった。これらの試料２０ケについて寸法ばら
つき及び機械的強度（曲げ強度）を測定した。
の板状標準試験片を成形した。これを８’Ｃ／［１ｒの
昇温速度で８５０℃まで上げて脱脂し、最終的に１６５
０℃で８時間焼結した。焼成後の寸法は６ｊ）Ｘ ２６
Ｘ２Ｄであった。これらの試料２０ケについて寸法ばら
つき及び機械的強度（曲げ強度）を測定した。
その結果を第２表に示す。同表から分るように、本実施
例によるものは、寸法ばらつきが小さく、機械的強度も
高い。
例によるものは、寸法ばらつきが小さく、機械的強度も
高い。
以上の両実施例にて示されるように、本発明が所要の効
果を発揮する理由としては、第１に、最初の予備混線で
バイシタの未溶解部分あるいけ偏在があったとしても、
凍結粉砕により再混合が行なわれ、均質化が図れること
。また、第２の理由として、たとえ未溶解のバイシタが
あっても凍結粉砕によりこのバイシタ粒子が微粉砕され
て均−分散されるからである。このバイシタの粉砕は通
常の機械的な粉砕では塑性があるため粉砕されにくいが
、液体窒素程度の温度になると脆くなり簡単に微粉砕が
り能とな為からである。
果を発揮する理由としては、第１に、最初の予備混線で
バイシタの未溶解部分あるいけ偏在があったとしても、
凍結粉砕により再混合が行なわれ、均質化が図れること
。また、第２の理由として、たとえ未溶解のバイシタが
あっても凍結粉砕によりこのバイシタ粒子が微粉砕され
て均−分散されるからである。このバイシタの粉砕は通
常の機械的な粉砕では塑性があるため粉砕されにくいが
、液体窒素程度の温度になると脆くなり簡単に微粉砕が
り能とな為からである。
発明の効果
以上のように本発明のセラミック成形体の製造方法では
、坏土の凍結微粉砕工程を付加することで、押出成形法
及び射出成形法のいずれにおいても気孔が小さく、緻密
で均質なセラミック成形体が得られ、製品の品質向上が
０Ｊ能となる。
、坏土の凍結微粉砕工程を付加することで、押出成形法
及び射出成形法のいずれにおいても気孔が小さく、緻密
で均質なセラミック成形体が得られ、製品の品質向上が
０Ｊ能となる。
Claims (1)
- １、セラミック原料粉末と有機バインダ及び所要の添加
物を予備混練して得た坏土を凍結させた状態で凍結粉砕
機にて粉砕し、粉砕物を再び混練機にて混練したものを
成形機にて成形することよりなるセラミック成形体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17460284A JPS6153009A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | セラミツク成形体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17460284A JPS6153009A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | セラミツク成形体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6153009A true JPS6153009A (ja) | 1986-03-15 |
Family
ID=15981441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17460284A Pending JPS6153009A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | セラミツク成形体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6153009A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4917834A (en) * | 1988-11-16 | 1990-04-17 | General Technology Applications, Inc. | Method for forming homogeneous blends of particulate materials |
| JPH05262553A (ja) * | 1992-03-17 | 1993-10-12 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス成形体の製造方法 |
| JP2012201570A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Han-Tang Fu | 複合記憶材料と製造方法 |
-
1984
- 1984-08-22 JP JP17460284A patent/JPS6153009A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4917834A (en) * | 1988-11-16 | 1990-04-17 | General Technology Applications, Inc. | Method for forming homogeneous blends of particulate materials |
| JPH05262553A (ja) * | 1992-03-17 | 1993-10-12 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス成形体の製造方法 |
| JP2012201570A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Han-Tang Fu | 複合記憶材料と製造方法 |
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