JPS6138567Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6138567Y2 JPS6138567Y2 JP1976140524U JP14052476U JPS6138567Y2 JP S6138567 Y2 JPS6138567 Y2 JP S6138567Y2 JP 1976140524 U JP1976140524 U JP 1976140524U JP 14052476 U JP14052476 U JP 14052476U JP S6138567 Y2 JPS6138567 Y2 JP S6138567Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- ray
- mark
- receiving surface
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はX線管の焦点からX線受像面までの距
離、所謂焦点−受像面間距離を表示するX線装置
に関する。
離、所謂焦点−受像面間距離を表示するX線装置
に関する。
一般に被写体を載置する寝台と、X線管とが一
体構成をとらないX線装置、たとえばX線管を専
用の支持装置で支持しこれと寝台とを組合わせた
X線装置や、移動形X線装置ではX線管を昇降自
在に支持して撮影の都度焦点受像面間距離を調節
するようにしている。周知のようにX線装置では
管電圧、管電流、曝射時間等のX線曝射条件、拡
大率、X線照射野等を決定するために焦点一受像
面間距離を正確に把握する必要がある。従来上記
焦点受像面間距離を測定する場合、たとえば第1
図a,bに示すようにX線管XTの側面の焦点に
対応する位置に鋼製の巻尺SLを取着し、この巻
尺SLでX線管XTの焦点fから受像面IRまでの焦
点受像面間距離Lを測定するようにしている。な
お、図中CMはX線照射野を決定するX線絞り装
置、Pは被写体である。
体構成をとらないX線装置、たとえばX線管を専
用の支持装置で支持しこれと寝台とを組合わせた
X線装置や、移動形X線装置ではX線管を昇降自
在に支持して撮影の都度焦点受像面間距離を調節
するようにしている。周知のようにX線装置では
管電圧、管電流、曝射時間等のX線曝射条件、拡
大率、X線照射野等を決定するために焦点一受像
面間距離を正確に把握する必要がある。従来上記
焦点受像面間距離を測定する場合、たとえば第1
図a,bに示すようにX線管XTの側面の焦点に
対応する位置に鋼製の巻尺SLを取着し、この巻
尺SLでX線管XTの焦点fから受像面IRまでの焦
点受像面間距離Lを測定するようにしている。な
お、図中CMはX線照射野を決定するX線絞り装
置、Pは被写体である。
しかしながらこのようなものでは次のような問
題がある。
題がある。
1 撮影の都度巻尺SLを用いて焦点−受像面間
距離を測定する必要があり測定誤差の発生と撮
影能率の低下が生ずる。
距離を測定する必要があり測定誤差の発生と撮
影能率の低下が生ずる。
2 焦点−受像面間距離の測定は巻尺SLの目盛
を読取らなければならないので操作者の操作位
置によつては見にくいことがある。
を読取らなければならないので操作者の操作位
置によつては見にくいことがある。
3 焦点−受像面間距離を所定距離に設定する場
合、巻尺SLを延ばして距離を測定しつつX線
管XTを昇降させるために距離調整多くの時間
を必要とする。
合、巻尺SLを延ばして距離を測定しつつX線
管XTを昇降させるために距離調整多くの時間
を必要とする。
4 巻尺SLがたるんだり、斜めになつたりする
恐れが多く、測定者の主観による誤差を生じ
る。
恐れが多く、測定者の主観による誤差を生じ
る。
5 X線管XTに組合わせるX線絞り装置CMの
構造によつては機械的に千渉し操作性を損うこ
とがある。
構造によつては機械的に千渉し操作性を損うこ
とがある。
本考案は上記の事情に鑑みてなされたものでX
線照射野に焦点−受像面間距離を投映するように
し、この焦点−受像面間距離を正確かつ簡単に測
定することができるX線装置を提供することを目
的とするものである。
線照射野に焦点−受像面間距離を投映するように
し、この焦点−受像面間距離を正確かつ簡単に測
定することができるX線装置を提供することを目
的とするものである。
以下本考案の一実施例を第2図に示す概略構成
図を参照して説明する。図中XTはX線管でfは
その焦点、CMはX線絞り装置、SはX線照射野
の開度を調節する絞り羽根である。そしてLは投
光器用ランプ、M1はX線管XTから照射される
X線錐に交差してX線管XTと絞り羽根Sとの間
に配設され上記投光器用ランプLの位置を光学的
に焦点fの位置に設定してX線照射野を表示する
光照射野照準用ミラーである。さらにM2は焦点
−受像面距離表示用ミラー、FRは照射野照準用
透明板、IRは受像面、LFは光照射野である。上
記照射野準用透明板FRは第3図に示すように照
射野中心を示す十字線およびランプL、各ミラー
M1,M2の位置から算出される焦点−受像面間距
離値を示す第1のマークMR1と焦点−受像面間
距離表示用の第2のマークMR2を刻印してい
る。なお上記X線管XTからX線を曝射させるた
めの電源、制御器等を設けることは勿論である。
図を参照して説明する。図中XTはX線管でfは
その焦点、CMはX線絞り装置、SはX線照射野
の開度を調節する絞り羽根である。そしてLは投
光器用ランプ、M1はX線管XTから照射される
X線錐に交差してX線管XTと絞り羽根Sとの間
に配設され上記投光器用ランプLの位置を光学的
に焦点fの位置に設定してX線照射野を表示する
光照射野照準用ミラーである。さらにM2は焦点
−受像面距離表示用ミラー、FRは照射野照準用
透明板、IRは受像面、LFは光照射野である。上
記照射野準用透明板FRは第3図に示すように照
射野中心を示す十字線およびランプL、各ミラー
M1,M2の位置から算出される焦点−受像面間距
離値を示す第1のマークMR1と焦点−受像面間
距離表示用の第2のマークMR2を刻印してい
る。なお上記X線管XTからX線を曝射させるた
めの電源、制御器等を設けることは勿論である。
このような構成であればX線絞り装置CMの絞
り羽根Sを開いてランプLを点燈すると光照射野
照準用ミラーM1によつて反射した光は絞り羽根
Sによつて所定幅に制限され透明板FRを透過し
て受像面IRに投映される。ランプLとX線管XT
の焦点fとはミラーM1によつて光学的に等しい
位置に設けられているので上記受像面IRに投映
される光照射野LFはX線照射野に一致する。こ
こで光照射野LF上には透明板にあらかじめ刻印
した十字線および焦点−受像面間距離値を示す第
1のマークMR1が同時に投映される。一方ラン
プLの光の一部は焦点−受像面距離表示用ミラー
M2によつて反射されこの光は透明板FR上の焦
点−受像面間距離表示用の第2のマークMR2を
光照射野LF上の焦点−受像面間距離値の第1の
マークMR1に重ねて投影する。したがつて上記
第1,第2のマークMR1,MR2の重なつた位
置の距離値が焦点−受像面間距離Lとなる。この
表示はランプLの点燈中は常時なされまたX線管
XTの昇降によつて第1,第2のマークMR1,
MR2の重なる位置が変化し、被写体の位置決
め、X線照射野調整と同時に焦点受像面間距離を
簡単かつ正確に測定することができる。また距離
表示用ミラーM2として充分面積の小なるものを
用いることから、このミラーM2の反射光によつ
て光照射野LFに照度のむらを生じることやある
いは光照射野端が不明瞭になることが防止でき
る。
り羽根Sを開いてランプLを点燈すると光照射野
照準用ミラーM1によつて反射した光は絞り羽根
Sによつて所定幅に制限され透明板FRを透過し
て受像面IRに投映される。ランプLとX線管XT
の焦点fとはミラーM1によつて光学的に等しい
位置に設けられているので上記受像面IRに投映
される光照射野LFはX線照射野に一致する。こ
こで光照射野LF上には透明板にあらかじめ刻印
した十字線および焦点−受像面間距離値を示す第
1のマークMR1が同時に投映される。一方ラン
プLの光の一部は焦点−受像面距離表示用ミラー
M2によつて反射されこの光は透明板FR上の焦
点−受像面間距離表示用の第2のマークMR2を
光照射野LF上の焦点−受像面間距離値の第1の
マークMR1に重ねて投影する。したがつて上記
第1,第2のマークMR1,MR2の重なつた位
置の距離値が焦点−受像面間距離Lとなる。この
表示はランプLの点燈中は常時なされまたX線管
XTの昇降によつて第1,第2のマークMR1,
MR2の重なる位置が変化し、被写体の位置決
め、X線照射野調整と同時に焦点受像面間距離を
簡単かつ正確に測定することができる。また距離
表示用ミラーM2として充分面積の小なるものを
用いることから、このミラーM2の反射光によつ
て光照射野LFに照度のむらを生じることやある
いは光照射野端が不明瞭になることが防止でき
る。
以下第4図に示す本考案の原理図を参照して第
1,第2のマークMR1,MR2の位置を透明板
FR上に設定する方法を説明する。先ずx,y直
交座標においてx座標は前述の照射野照準用透明
板FRの位置方向を表わし、y座標は前述のX線
管から曝射されるX線の進行方向中心を表わし、
ミラーM1の反射によるランプLの見かけ上の位
置、即ち焦点fの座標を(o,f)ミラーM2に
よるランプLの見かけ上の座標を(a,f)とす
る。そして透明板FRの座標を(y=o)、第2の
マークMR2の座標を(b,o)とすれば上記ミ
ラーM2によるランプLの見かけ上の位置(a,
f)と第2のマークMR2を結ぶ直線は次の1)
式で与えられる。
1,第2のマークMR1,MR2の位置を透明板
FR上に設定する方法を説明する。先ずx,y直
交座標においてx座標は前述の照射野照準用透明
板FRの位置方向を表わし、y座標は前述のX線
管から曝射されるX線の進行方向中心を表わし、
ミラーM1の反射によるランプLの見かけ上の位
置、即ち焦点fの座標を(o,f)ミラーM2に
よるランプLの見かけ上の座標を(a,f)とす
る。そして透明板FRの座標を(y=o)、第2の
マークMR2の座標を(b,o)とすれば上記ミ
ラーM2によるランプLの見かけ上の位置(a,
f)と第2のマークMR2を結ぶ直線は次の1)
式で与えられる。
y=f/a−b(x−b) ……1
そして焦点−受像面間距離がL1の受像面をIR1
(y=−(L1−f))、2)L2の受像面をIR2(y=
−(L2−f))、3)とすると1)式に示す直線と
上記(2)式及び3)式から受像面IR1,IR2との
交点のX座標xIR1及びxIR2は次の4)式及び
5)式で与えられる。
(y=−(L1−f))、2)L2の受像面をIR2(y=
−(L2−f))、3)とすると1)式に示す直線と
上記(2)式及び3)式から受像面IR1,IR2との
交点のX座標xIR1及びxIR2は次の4)式及び
5)式で与えられる。
xIR1=b−(L1−f)(a−b)/f……4
xIR2=b−(L2−f)(a−b)/f……5
第1のマークMR1は、この4)式及び5)式
に対応する位置に設定すればよいので次の6)式
及び7)式に示す(o.f)とxIR1及びxIR2を結ぶ
直線とy=oとの交点x1,x2を求めることによ
り、決定する。
に対応する位置に設定すればよいので次の6)式
及び7)式に示す(o.f)とxIR1及びxIR2を結ぶ
直線とy=oとの交点x1,x2を求めることによ
り、決定する。
y=−L1/xIR1x+f ……6
y=−L2/xIR2x+f ……7
したがつてx1,x2は次の8)式及び9)式に示
すようになる。
すようになる。
x1=f.xIR1/L1
=b−(1−f/L1)a ……8
x2=b−(1−r/L2)a ……9
したがつて透明板FRの中心cから上記x1,x2
の位置に焦点−受像面間距離L1およびL2を刻印
すればミラーM1及びミラーM2から受像面までの
距離即ちX線焦点から受像面までの距離を自動的
に受像面上に表示することが可能となる。
の位置に焦点−受像面間距離L1およびL2を刻印
すればミラーM1及びミラーM2から受像面までの
距離即ちX線焦点から受像面までの距離を自動的
に受像面上に表示することが可能となる。
以上詳述したように本考案は、照射野照準用透
明板に刻印した第1,第2のマークを各別の投光
器で照射してその投映像から焦点受像面間距離を
正確かつ容易に測定し得、それによつて撮影条件
を容易に設定することができるX線装置を提供で
きる。
明板に刻印した第1,第2のマークを各別の投光
器で照射してその投映像から焦点受像面間距離を
正確かつ容易に測定し得、それによつて撮影条件
を容易に設定することができるX線装置を提供で
きる。
第1図a,bは従来のX線装置の一例を示す正
面図、および側面図、第2図は本考案の一実施例
を示す概略構成図、第3図は上記実施例の透明板
を示す図、第4図は実施例の原理を説明する図で
ある。 XT……X線管、CM……X線絞り装置、L…
…ランプ、M1……光照射野照準用ミラー、M2
……焦点受像面距離表示用ミラー、FR……照射
野照準用透明板、IR……受像面、LF……光照射
野。
面図、および側面図、第2図は本考案の一実施例
を示す概略構成図、第3図は上記実施例の透明板
を示す図、第4図は実施例の原理を説明する図で
ある。 XT……X線管、CM……X線絞り装置、L…
…ランプ、M1……光照射野照準用ミラー、M2
……焦点受像面距離表示用ミラー、FR……照射
野照準用透明板、IR……受像面、LF……光照射
野。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 X線管と、 このX線管と所定の位置関係に配置された光源
装置と、 この光源装置からの照射光を反射して略X線照
射方向に投光する第1の光反射体及び上記光源装
置からの照射光を反射して仮想的に上記X線管の
焦点位置から投光されているようにする第2の反
射体からなる光束分離装置と、 上記光源装置及び光束分離装置に対して所定の
位置関係を保持して固定されるものであつて、X
線及び光を透過する部材に、上記第1の光反射体
からの光束によつて投影される第1のマークと、
この第1のマークの投影受像面とX線焦点−第1
のマーク投影受像面との間の距離に対応し、上記
第2の光反射体からの光束によつて投影されたと
きその投影像が上記第1のマークの投影像と重な
る第2のマークとを形成してなる距離測定用マー
ク投影装置とを有し、 これらの装置が一体的に移動可能に取付けられ
ていることを特徴とするX線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976140524U JPS6138567Y2 (ja) | 1976-10-19 | 1976-10-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976140524U JPS6138567Y2 (ja) | 1976-10-19 | 1976-10-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5357774U JPS5357774U (ja) | 1978-05-17 |
| JPS6138567Y2 true JPS6138567Y2 (ja) | 1986-11-07 |
Family
ID=28749298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976140524U Expired JPS6138567Y2 (ja) | 1976-10-19 | 1976-10-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6138567Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60108040A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-13 | 株式会社東芝 | X線撮影装置 |
| JPH0440645Y2 (ja) * | 1986-03-27 | 1992-09-24 | ||
| JP5408952B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2014-02-05 | キヤノン株式会社 | X線撮影装置 |
| JP2014533586A (ja) * | 2011-11-25 | 2014-12-15 | アリベックス インコーポレイテッド | X線距離インジケータ及び関連する方法 |
-
1976
- 1976-10-19 JP JP1976140524U patent/JPS6138567Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5357774U (ja) | 1978-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW561523B (en) | Exposure device, exposure method, and manufacturing method of devices | |
| US4246486A (en) | X-ray photography device | |
| TW569304B (en) | Focusing method, position measuring method, exposure method, device manufacturing method and exposure apparatus | |
| KR920016864A (ko) | 마스크 패턴을 반복적으로 영상화하는 방법 및 그 장치 | |
| JPS6358349A (ja) | 投影光学装置 | |
| TW200305773A (en) | Projection Aligner | |
| JPS6329619A (ja) | 対象物の寸法の測定のための方法とその装置 | |
| TW201637119A (zh) | 移動體之控制方法、曝光方法、元件製造方法、移動體裝置、及曝光裝置 | |
| JPS6138567Y2 (ja) | ||
| JPH10294268A (ja) | 投影露光装置及び位置合わせ方法 | |
| JP3506155B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| CN101826454B (zh) | 半导体装置的制造方法 | |
| US2800834A (en) | Photographic exposure probe device | |
| US4845518A (en) | Photographically measuring surface contours and dimensions | |
| US4480920A (en) | Fringe pattern method and apparatus for producing X-ray dosage compensating filters | |
| JPS6161070B2 (ja) | ||
| JPH1194700A (ja) | レンズの測定装置及び測定方法 | |
| CN107632407B (zh) | 一种柱透镜成像系统的校准装置 | |
| JPS61276546A (ja) | X線検査装置 | |
| JPS60168112A (ja) | 投影装置の焦点合せ装置 | |
| JPS6242422A (ja) | 投影光学装置 | |
| JP2840303B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH07122571B2 (ja) | 折曲げ加工機用ワーク傾斜角度測定装置 | |
| JPH1020425A (ja) | X線撮影装置 | |
| JP2643270B2 (ja) | 間隔測定装置 |