JPS6137062B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） この発明はセラミツクス基板仕上装置に関する
ものである。

（従来の技術） エレクトロニツクスの急激な発展に伴い、アル
ミナを主体とする従来の弱電用セラミツクスの
他、各種のセラミツクスが電子産業用材料として
開発され、使用されている。（これらのセラミツ
クスはニユー・セラミツクスと呼び、食器、花
器、れん瓦等の旧来の製品のオールド・セラミツ
クスと区別しているが、この発明においては以後
単にセラミツクスと略称する） これらのセラミツクスは最終工程である熱処理
工程において焼成されるのが通例であつた。

（発明が解決しようとする問題点） ところが基板用セラミツクス（以下セラミツク
ス基板と云う）の場合は、上記焼成時、炉中にお
いて生じる不純物の付着、焼付き、焼成用助材の
付着を生じ、或は又前記熱処理工程において素材
の変形等を生じるので、上述の素材表面に付着し
た各種不要物の除去、或は反りの除去等は加工工
程中の問題点であつたし、又この素材表面の各種
不要物の除去は湿式ブラスト加工で行い、反りの
除去は研削加工で行う等加工場所が異つており、
特に研削加工は手動加工式でもあり、全体的に非
能率であつた。

この発明は、研削加工は簡潔な装置で均一な研
削を自動的、能率的に行い、又上記被ブラスト加
工材であるセラミツクス基板の供給、研削加工、
湿式ブラスト加工とを自動的、連続的に行い、全
体的に加工能率を向上できたセラミツクス基板仕
上装置を提供するのをその目的とする。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段） このセラミツクス基板仕上装置に関する第１番
目の発明は機柱１に、昇降と水平回動とができる
ように設けた腕体４の根本部４′にモーター１０
により回転される調車１１を設け、別に設けた水
平回転研削盤上を、上記の水平回動の途次通過
できる、該腕体の自由端４″には、前記調車１１
により回転される調車部１２を同心的且つ一体的
に有する回転円盤１３を水平に回転自在に設け、
該回転円盤１３には、下端に、セラミツクス基板
Ｄの吸着部Ａを水平に有する軸１４を偏心位置に
おいて回転自在に設け、該軸の両側面の相対抗す
る位置に互に平行する面１５，１５を設け、該面
に係合するＵ字状部１６を一端に有する棒杆の他
端を前記腕体４の根本部４′近くの下面に枢支し
たものであり、第２番目の発明は上記第１番目の
発明を、更に該機柱１を中心としてセラミツクス
基板供給用割出盤Ｉ、前記水平回転研削盤、湿
式ブラスト加工装置′の被ブラスト加工材移送
コンベアー装置を配設し、該吸着部Ａは前記割
出盤Ｉ、水平回転研削盤、被ブラスト加工材移
送コンベアー装置上に順次回動でき、前記３箇
所（Ｉ，，）において昇降できるようにした
ものである。

（実施例） 図示の一実施例に基づき、第１番目の発明に係
るセラミツクス基板仕上装置の構成を詳細に説明
すると、第１図に示すように、機柱１の途中にフ
ランジ２を設け、該機柱１に、根本部４′に前記
フランジ２に嵌合でき、上下に移動できるシリン
ダー部３を有する腕体４を嵌合し、シリンダー部
３内の段部５と該フランジ２との間にコイルスプ
リング６を張設し、該シリンダー部３の下端のシ
リンダーヘツド７と該フランジ２との間の空間８
に、該機柱１の、該シリンダー部３の外部より一
旦機柱１の内部を通り、前記空間８内に開口した
空気通路９を設け、空気通路９より圧搾空気を注
入することにより前記腕体４を機柱１に対し降下
させ、該空気通路９より前記空間８内の空気を抜
くことにより、該腕体４を機柱１に対し上昇させ
るようになつており、又、腕体４は該機柱１に対
し、水平に回動できるようになつており、更に又
該腕体４の根本部４′にモーター１０により変速
装置（図示省略）を介して回転されるようにした
調車１１を設け、該腕体４の自由端４″には、前
記調車４′により無端ベルト１１′を介して回転さ
れる調車部１２を同心的且つ一体的に有する回転
円盤１３を水平に回転自在に設け、該回転円盤１
３には、下端にセラミツクス基板Ｄの吸着部Ａを
水平に有する軸１４を偏心位置において回転自在
に設け、該軸の両側面の相対抗する位置に互に平
行する面１５，１５を設け、該面１５，１５に係
合するＵ字状部１６を一端に有する棒杆１７の他
端を前記腕体の裏面の根本部４′近くの下面にピ
ン１７′で枢支し、前記腕体４の自由端が水平回
動して行く軌跡上で前記吸着部Ａの下方に水平回
転研削盤を設けたものである。

なお、上記吸着部Ａは、第４図に示すように、
軸１４は中空にし、該軸１４の下端に、セラミツ
クス基板Ｄ（複数のセラミツクス基板を盤に取付
けたものもある）の形状に応じた、例えばセラミ
ツクス基板Ｄが長方形ならば長方形の水平盤１８
を設け、下面に空洞１９を設け、該水平盤１８の
下面の周囲には吸着用褥片２０を設け、該空洞１
９は軸１４の中空を通し、パイプ２１を介して真
空ポンプ（図示省略）に連通させ、該空洞を真空
にしたり、切換により大気圧にしたりしてセラミ
ツクス基板Ｄを吸着したり放出したりできるよう
にしたものである。なお、第１図中１′は基台、
３′はストツパー、１３′は回転円盤１３の軸承用
メタル、第４図中１４′は軸１４の軸承用メタル
を夫々示す。

次に、第５図に示す一実施例に基づき第２番目
の発明に係るセラミツクス基板仕上装置の構成を
詳細に説明すると、第１図乃至第４図に示した第
１番目の発明、にかゝるセラミツクス基板仕上装
置の一実施例の機柱１を中心としてセラミツクス
基板供給用割出盤Ｉ、前記水平回転研削盤、湿
式ブラスト加工装置′の被ブラスト加工材料移
送コンベアー装置を配設し、該吸着部Ａは前記
割出盤、水平回転研削盤、被ブラスト加工材
移送コンベアー装置上に順次自動的に回動で
き、前記３箇所（Ｉ，，）において自動的に
昇降できるようにしたものである。

（作用） 第１番目の発明の実施例は叙上のような構成を
有するから、今、吸着部ＡにセラミツクスＤを吸
着させて置いて腕体４を、機柱１を中心として第
１図及び第２図に示すように、水平回転研削盤
上に回動して来て停止し、機柱１のフランジ２の
下方の空間８に空気通路９より圧搾空気を送る
と、コイルスプリング６の弾力に抗してシリンダ
ー部３は降下し、腕体４の自由端４″の吸着部Ａ
も降下し、セラミツクスＤを水平回転研削盤上
に当接し、その接し方はコイルスプリング６の作
用で弾発的な圧接となる。

この時、既にモーター１０を始動して置くと、
調車１１、無端ベルト１１′により調車部１２は
回転し、軸１４は扁心半径ｒをもつて水平回転研
削盤上を回転する。

然し、軸１４はその両側面の互に平行する面１
５，１５を棒杆１７の自由端のＵ字状部１６に嵌
合させて、而も回転円盤１３中にて、第４図に示
すように、自由に回転できるように軸承させてあ
るので、水平回転研削盤上を偏心半径で公転す
ることなく、第３図に示すように、ピン１７を中
心として±θだけ多少傾斜するが、軸１４自身、
回転円盤１３中で自転する結果、大体平行移動す
ることとなる。従つて公転のみの場合はセラミツ
クスに一定の研削跡がつくが、この実施例の場合
は種々方向より研削されセラミツクスの表面は均
一に研削される。

又二番目の発明の実施例は叙上のような構成を
有するから、間歇的回転をする割出し盤Ｉ上の１
箇所ａにおいてセラミツクスＤを次々に供給して
いると、セラミツクスＤは第１図に示す腕体４の
吸着部Ａが該割出盤Ｉの１箇所ｂ上に回動して来
て降下し、セラミツクスＤを吸着部Ａに吸着し
て、次いで上昇して、次に水平回転研削盤で停
止し、降下して来てセラミツクスＤを水平回転研
削盤に弾発的に圧接し、研削加工をして反りを
修正し、再び上昇して湿式ブラスト加工装置′
の被ブラスト加工材移送コンベアー装置上に回
動して行き、停止し更に降下してセラミツクスＤ
を被ブラスト加工材移送コンベアー装置上に置
く。そこで該移送コンベアーにより湿式ブラス
ト加工装置′中に送られ、焼成時セラミツクス
基板に付着した不要物を除去される。

なお、前記割出盤Ｉの間歇的回転、腕体４の該
割出盤Ｉ上への降下、吸着部のセラミツクスの吸
引、腕体４の上昇、回動、水平回転研削盤の上
方での停止、降下、モーター１０の回転（吸着部
Ａの回転）、モーターの停止、腕体４の上昇、被
ブラスト加工材移送コンベアー上への回動と停
止、続く吸着部Ａの前記移送コンベアー徐上へ
の降下と吸着部Ａのセラミツクス板Ｄの吸引解
除、再び上昇して割出盤Ｉへの回帰は総てシーケ
ンス的に行われるが、その構成は現在のエレクト
ロニクスの技術水準では、当該部門技術者の必要
に応じ、容易に設計できるところであるので詳細
な説明は省略する。

〔発明の効果〕

この発明は叙上のような構成、作用を有するか
ら、間歇的に回転するセラミツクス基板供給用割
出盤Ｉ上にセラミツクス基板Ｄ（複数個が一定の
盤に配例されているものでもよい）を順次供給す
れば、セラミツクス基板Ｄを水平回転する研削盤
に運び、セラミツクス基板焼成時生じた反りを
修正し、次に湿式ブラスト加工装置の加工材移送
コンベアー装置上に運び、セラミツクス基板Ｄ
の湿式ブラスト加工をし、焼成炉中において付着
した不要物の除去を総て自動的、且つ能率的に行
うことができ、又セラミツクス基板Ｄは水平回転
する研削盤によつて一定の研削跡をつけることな
く、簡単な機構により均一な研削を行わせること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１番目の発明に係るセラミツクス基
板仕上装置の一実施例の一部切欠正面図、第２図
は腕体の一部の上面を除去した平面図、第３図は
吸着部の運動説明用平面図、第４図は軸１４の軸
承状態と吸着部とを示す拡大縦断正面図、第５図
は第２番目の発明の一実施例の平面図を夫々示
し、１は機柱、４は腕体、４′は腕体の根本部、
４″は腕体の自由端、１１は調車、１２は調車
部、１３は回転円盤、１４は軸、１５は平行する
面、１６はＵ字状部、１７は棒杆、Ｉはセラミツ
クス基板供給用割出盤、は水平回転研削盤、
は被ブラスト加工材移送コンベアー装置、′は
湿式ブラスト加工装置、Ａは吸着部、Ｄはセラミ
ツクス基板を夫々示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 機柱１に、昇降と水平回動とができるように
   設けた腕体４の根本部４′にモーター１０により
   回転される調車１１を設け、別に設けた水平回転
   研削盤上を、上記の水平回動の途次通過でき
   る、該腕体の自由端４″には、前記調車１１によ
   り回転される調車部１２を同心的且つ一体的に有
   する回転円盤１３を水平に回転自在に設け、該回
   転円盤１３には、下端にセラミツクス基板Ｄの吸
   着部Ａを水平に有する軸１４を偏心位置において
   回転自在に設け、該軸の両側面の相対抗する位置
   に互に平行する面１５，１５を設け、該面に係合
   するＵ字状部１６を一端に有する棒杆１７の他端
   を前記腕体４の根本部４′近くの下面に枢支しし
   たことを特徴とするセラミツクス基板仕上装置。 ２ 機柱１に、昇降と水平回動とができるように
   設けた腕体４の根本部４′にモーター１０により
   回転される調車１１を設け、別に設けた水平回転
   研削盤上を、上記の水平回動の途次通過でき
   る、該腕体の自由端４″には、前記調車１１によ
   り回転される調車部１２を同心的且つ一体的に有
   する回転円盤１３を水平に回転自在に設け、該回
   転円盤１３には、下端にセラミツクス基板Ｄの吸
   着部Ａを水平に有する軸１４を偏心位置において
   回転自在に設け、該軸の両側面の相対抗する位置
   に互に平行する面１５，１５を設け、該面に係合
   するＵ字状部１６を一端に有する棒杆１７の他端
   を前記腕体４の根本部４′近くの下面に枢支し、
   該機柱１を中心としてセラミツクス基板供給用割
   出盤、前記水平回転研削盤、湿式ブラスト加
   工装置′の被プラスト加工材移送コンベアー装
   置を配設し、該吸着部Ａは前記割出盤、水平
   回転研削盤、被ブラスト加工材移送コンベアー
   装置上に順次回動でき前記３箇所（Ｉ，，
   ）において昇降できるようにしたことを特徴と
   するセラミツクス基板仕上装置。