JPS6133852A

JPS6133852A - セラミツクス基板仕上装置

Info

Publication number: JPS6133852A
Application number: JP15561884A
Authority: JP
Inventors: Akira Suzuki; 章鈴木
Original assignee: Fuji Seiki Machine Works Ltd
Current assignee: Fuji Seiki Machine Works Ltd
Priority date: 1984-07-27
Filing date: 1984-07-27
Publication date: 1986-02-17
Also published as: JPS6137062B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の目的〕（産業上の利用分野）この発明はセラミックス基オル仕上装置に関するもので
ある。

（従来の技術）エレンｉ・ロニックスの急激な発展に伴い、アルミナを
主体とする従来の弱電用セラミックスの他、各種のセラ
ミックスが′咀子産粟用材浩と１〜で開発され、使用き
れている。（これらのセラミックスはニュー・セラミッ
クスと呼び、食器、花巻、力、ん瓦等の１日米の製品の
オールド・セラミックスと区別しているが、この発明に
おいては以後単にセラミックスと略称する）これらのセ
ラミックスは最終工程である熱処理工程において焼成き
れるのが通例であった。

（発明が解決］７ようとする問題点）ところが基板用セラミックス（ｊａ斗セラミックス基イ
νと云う）の場合は、上記焼成時、炉中において生じる
不純物の付着、焼付き、焼成用助材の付着を生じ、或は
又前記熱処理工程において索胴の変形等を生じるので、
上述の素材表面に何泊［７だ各種不要物の除去、或は反
りの除去等は加工下稈中の問題点であっだ１７、又この
素拐表面の各種不要物の除去は湿式ブラスト加工で行い
、反りの除去は研削加工で行う等力「工場所が異ってお
り、特に研削７１１１王は手動加工式でもあり、全体的
に非能率であった。

この発明は、研削力０丁は簡潔な装置で均一な研削を自
動的、能率的に行い、父上韻桧ブラスト加工材であるセ
ラミックス基板の供給、研削カロエ、湿式ブラスト加工
とを自動的、連続的に行い、全体的にカロエ能率を向」
二できたセラミックス基オシ仕上装置を提供するのをそ
の目的とする０〔発明の構成〕（問題点を触法するだめの手段）このセラミックス基板仕上装置に関する第１番目の発明
は接柱／に、昇降と水平回動とができるように設けた腕
体グの根本部り′にモーター１０により回転され２る調
車１１を設げ、別に設けた水平回転研削盤１１上を、上
記の水平回動の途次通過できる、該腕体の自由端４″に
は、前記調車１１によりｉｐ１転される調車部／２を同
心的且つ一体的に有する回転円盤１３を水平に回転自在
に設け、該回転円盤１３には、下端に、セラミックス基
４７７　Ｄの吸着部Ａを水平に有する軸／りを偏心位負
において回転自在に設け、該軸の内仰ｊ面の相対抗する
位置に互に平材する面１３゜／Ｓを静け、接面に係会す
るＵ字状部１６を一端に有する棒杆の他端を前記腕体り
の根本部グ′近くの丁ｍ１に枢支し７だものであり、第
２番目の発明は上記第１番１」の発明を、更に該機柱／
を中上・と１．てセラミックス基板供給用割出盤１１前
記水平回転研削酪１１、湿式ブラスト加工装置−′の被
ブラスト加工制移送コンベアー装置謝を配設［２、該吸
着部Ａは前記割出盤１１水十回転研削盤Ｊ１被ブラスト
加工材移送コンベアー装置鮨上に順次回動でき、前記３
箇所ｍｌ、ｌ。

・Ｉ）において昇降できるように（７たものである。

（実施例）図示の一実施例に基づき、第１番目の発明に係るセラミ
ックス基板仕上装置の構成を詳細に説明すると、第１図
に示すように、接柱／の途中にフラ、ンジノを設け、該
接柱／に、根本部グ′に前記フランジ２に嵌合でき、上
下に移動できるシリンダ一部３を有する腕体りを嵌合し
、シリンダ一部３内の段部Ｓと該フランジ２との間にコ
イルスプリング乙を張設シ２、該シリンダ一部３の下端
の７リンダ一ヘツド部７と該フランジ２との間の空間と
に、該機柱／の、該シリンダ一部３の外部より−Ｈ接柱
／の内部を通り、前記空間と内に開口した空気通路りを
設け、該空気通路りより１搾空気を注入することにより
前記腕体グを接柱／に対し降下させ、核空気通路りより
前記空間と内の空気を抜くことにより、該腕体グを接柱
／に対［７上昇させるように々つており、又腕体グは該
接柱／に対シ２、水平に回略）を介して回転埒れるよう
に１７た調車１１を設け、該腕体りの自由端グには、前
記調車グ′により無端ベルｌ−／　／’を介１−２て回
転σれる調車部１２を同心約１つ一体的に有する回転円
盤１３を水平に回転自在に設け、該回転円盤１３には、
下端にセラミックス基板りの吸着部Ａを水平に有する軸
１４を偏心位負において回転自在に設け、該軸の両１μ
ｍ１面の相対抗する位置に万に平行する而１３．１３を
設け、載面〆５，１５に係合するＵ字状部１６を一端に
有する棒杆１７の他端を８ｊＪ記腕体の裏面の根本部り
′近くの下面にビン１７′で枢支ｌ〜、前記腕体グの自
由端が水平回動１．で付く軌跡上で前記吸涜部への下方
に水平回転イｖｆ削盤■を設けたものである。

なお、上記吸着部Ａは、第り図に示すように、軸１４は
中空に１２、該Ｎｌ　１４の下端に、セラミックス基＆
　Ｄ　（初数のセラミックス基オシを盤に＊けけだもの
もある）の形状に応じた、例えばセラミックス基＆Ｄが
長方形ならば長方形の水平盤／どを設け、下面に空洞／
りを設け、該水平盤／、！！’の下面の周囲には吸着用
褥片ノ０を設げ、該空洞／９は軸／りの中空を通し７、
パイプ２／を介［７て真空ポンプ（図示省略）に連〕出
させ、該空洞を真空にしたり、切換により大気圧にした
り［７てセラミックス基板りを吸着したり放出し７だり
できるようにＵ７たものである。々お、第１図中／′は
基台、３′はストッパー、７３′は回転円盤１３の軸承
用メタル、第グ図中／り′は軸／りの軸承用メタルを夫
々示す。

次に、第３図に示を一実施例に基づき第２番（」の発明
に係るセラミックス基板仕上装置の構成を詳細に胱明す
ると、第１図乃至第７図に示し７た第１番目の発明にか
＼るセラミックス基板仕上装置の一実施例の接柱／を中
心としてセラミックス基板供給用割出盤１１前記水平回
転研削盤１１、湿式ブラスト加工装置眉′の被ブラスト
加工材移送コンベアー装置ＩＩを配設Ｕ７、該吸着部Ａ
は前記割出盤１１水平回転研削盤Ｂ１被ブラストカロエ
拐移送コンベアー装省胸上に１１次自動的に回動でき、
前Ｉヒ３箇所（１、ＩＩ　、　ｌ　）において自動的に
昇降できるようにしだものである０（作　用）第１番−の発明の実施例は斜上のよう々構成を有するか
ら、今、：吸着部ＡにセラミックスＤを吸着させて置い
て腕体りを、接柱／を中心とＬ７て第１図及び第２図に
示すように、水平回転研削盤ｎ上に回動し７て来て停止
Ｌ、＆柱／のフランジノの下刃の空間とに空気通路７よ
り圧搾空気を送ると、コイルスプリング乙の弾力に抗し
７てンリンタ一部３は降１”　１．、　、腕体グの自由
端グ“の吸着部Ａも計重１７、セラミックスＤを水平回
転研削盤１１」二に尚接１２、ぞの接［７カはコイルス
プリング乙の作用で弾発的な圧接となる。

この時、既にモーター１０を始動して置くと、調車１１
、無端ベルト１１′により調車部／、２は回転（７、軸
／りは線心半径ｒをもって水平回転研削盤１１上を１四
転する。

然し、軸１４はその両側面の互に平行する面１５、１５
を棒杆１７の自由端のＵ字状部／Ｚに嵌合き伊て、而・
も回転円盤１３中にて、第７図に示すように、自由に回
転できるように軸承させであるので、水平回転研削盤υ
上を偏心半径で公転することなく、第３図に示すように
、ピン／′７を中心として十〇だけ多少傾斜するが、軸
／に自身、回転円盤１３中で自転する結果、大体平行移
動することと々る。従って公転のみの場合はセラミック
スに一定の研削跡かつくが、この実施例の場合は種々力
面より研削されセラミックスの表面は均一に研削される
。

又二番目の発明の実施例は叙上の上うな構成を有するか
ら、間歇的回転をする割出し盤Ｉ上の／箇Ｆ！ＪＴａに
おいてセラミックスＤを次々に供給していると、セラミ
ックスＤは第１図に示す腕体グの吸着部Ａが該割出盤Ｉ
の／箇所す上に回ｓ　して来て降下し、セラミックスＤ
を吸着部Ａに吸着シフ、次いで上昇して、次に水平回転
研削盤Ｂで停止Ｌ２、降下し７て来てセラミックスＤを
水平回転研削盤Ｂに弾発的に＋接（２、研削加工をして
反りを修正し、再び上列して湿式プラスト力［１丁装ｗ
層′の被ブラスト加工材移送コンベアー装胎用上に回動
１−７で行き、停止１７更に降下してセラミックスＤを
被ブラスト加工材移送コンベアー装俗”巳上に置く。そ
こで該移送コンベアー脂により湿氏ブラスト力ロＴ装置
１中に送られ、焼成時セラミックス基板に例着［７だ不
υ物を除去される。

なお、前記割出盤１の間歇的回転、腕体りの該割出盤Ｉ
上への降下、吸着＆（１のセラミックスの吸引、腕体グ
の上昇、回動、水平回転研削盤」の上方での停止、降下
、モーター１０の回転（吸着部Ａの回転）、モーターの
停止、腕体グの上列、被ブラスト加工Ｉ移送コンベアー
蜘上への回動と停止、続く吸着部Ａの前記移送コンベア
ー履」−への１坤下と吸着部へのセラミックス叛りの吸
引解除、再び上昇１．千割出盤Ｉへの回帰は総てンーケ
ンス的に行われるが、その構成は現在のエレクトロニク
スの技術水準では、当該部門技術者のＶ・要に応じ、容
易に設計できるところであるので詳細な説明は省略する
。

〔発明の効果〕

この発明は斜上のような構成、作用を有するから、間歇
的に回転するセラミックス基ゆ供給用割出盤ＪＪ：にセ
ラミックス基板Ｄ（蝮数個が一定の盤に配列されている
ものでもよい）を１１１次供給すれば、セラミックス基
板りを水平回転する研削盤Ｊに運び、セラミックス基板
焼成時生じた反りを修正し７、次に湿式ブラスト加工装
俗のカロエね移送コンベアー装ｓ′紐上に運び、セラミ
ックス基板りの湿式ブラスト加工を１２、焼成炉中にお
いて例智［７だ不敷物の除去を総て自動的、且つ能率的
に何うことかでき、又セラミックス基板りは水平回転す
る研削盤によって一定の研削跡をつげるとと々く、簡単
な機構に」：り均一な研削を行わせることができる。

【図面の簡単な説明】

Claims

【特許請求の範囲】

（１）機柱１に、昇降と水平回動とができるように設け
た腕体４の根本部４′にモーター１０により回転される
調車１１を設け、別に設けた水平回転研削盤II上を、上
記の水平回動の途次通過できる、該腕体の自由端４″に
は、前記調車１１により回転される調車部１２を同心的
且つ一体的に有する回転円盤１３を水平に回転自在に設
け、該回転円盤１３には、下端にセラミックス基板Ｄの
吸着部Ａを水平に有する軸１４を偏心位負において回軸
自在に設け、該軸の両側面の相対抗する位置に互に平行
する面１５、１５を設け、該面に係合するＵ字状部１６
を一端に有する棒杆１７の他端を前記腕体４の根本部４
′近くの下面に枢支ししたことを特徴とするセラミック
ス基板仕上装置。
（２）機柱１に、昇降と水平回動とができるように設け
た腕体４の根本部４′にモーター１０により回転される
調車１１を設け、別に設けた水平回転研削盤II上を、上
記の水平回動の途次通過できる、該腕体の自由端４″に
は、前記調車１１により回転される調車部１２を同心的
且つ一体的に有する回転円盤１３を水平に回転自在に設
け、該回転円盤１３には、下端にセラミックス基板Ｄの
吸着部Ａを水平に有する軸１４を偏心位置において回転
自在に設け、該軸の両側面の相対抗する位置に互に平行
する面１５、１５を設け、該面に係合するＵ字状部１６
を一端に有する棒杆１７の他端を前記腕体４の根本部４
′近くの下面に枢支し、該機柱１を中心としてセラミッ
クス基板供給用割出盤 I 、前記水平回転研削盤II、湿
式ブラスト加工装置III′の被ブラスト加工材移送コン
ベアー装置IIIを配設し、該吸着部Ａは前記割出盤 I 、
水平回転研削盤II、被ブラスト加工材移送コンベアー装
置III上に順次回動でき前記３箇所（ I 、II、III）に
おいて昇降できるようにしたことを特徴とするセラミッ
クス基板仕上装置。