JPS6134439B2 - - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアミノ酸またはペプチドのω位のアミ
ノ基の新規かつ有用な保護基に関する。
ノ基の新規かつ有用な保護基に関する。
ペプチドの製造に当つて、ペプチドの構成アミ
ノ酸残基に、たとえばリジン、オルニチン、α・
γ−ジアミノブチリツクアシド、α・β−ジアミ
ノプロピオン酸等のω−アミノ基を有するアミノ
酸が含まれている場合には、側鎖ω−アミノ基は
製造途中適当な保護基によつて保護し、副反応を
防がなければならない。しかも途中の工程で一般
に行われるα−アミノ基の除去に際して、安定な
保護基であり、かつ、最終工程に於いて、完全に
脱離させることが出来るものが理想的である。し
かるに現在一般に利用されているω−アミノ基の
保護法は上記の条件を完全に満足するものとはい
い難く、多くの欠点を持つている。これは一般に
保護をウレタン型化合物に求めているために脱離
の撰択性に不満足なところがあるために起因する
欠点であると本発明者は考えている。たとえば固
相合成では一般にα−アミノ基をt−ブトキシカ
ルボニルで保護し、ω−アミノ基はカルボベンゾ
キシで保護する方法が採用されているが、α位の
t−ブトキシカルボニルの切断反応時にω位のカ
ルボベンゾキシも多少切断され、これが枝分れペ
プチド等の副生物の原因となり、この集積によつ
て多くの不純物を与えるとされている。これを改
良すべく2−クロロ−ベンジルオキシカルボニル
やジイソプロピルメチロキシカルボニルが開発さ
れているが、これらは完全な除去に問題があり、
さらに弗化水素を用いる除去に際して、長時間処
理や比較的高温を必要とし、従つてペプチド自体
に好ましくない影響を与える。この理由は全て、
ウレタン型保護基であるため撰択性に乏しいもの
と考えられ、この点に注目して、本発明者らはス
ルホニルアミン型の保護基を種々検討して、本発
明を完成したものである。
ノ酸残基に、たとえばリジン、オルニチン、α・
γ−ジアミノブチリツクアシド、α・β−ジアミ
ノプロピオン酸等のω−アミノ基を有するアミノ
酸が含まれている場合には、側鎖ω−アミノ基は
製造途中適当な保護基によつて保護し、副反応を
防がなければならない。しかも途中の工程で一般
に行われるα−アミノ基の除去に際して、安定な
保護基であり、かつ、最終工程に於いて、完全に
脱離させることが出来るものが理想的である。し
かるに現在一般に利用されているω−アミノ基の
保護法は上記の条件を完全に満足するものとはい
い難く、多くの欠点を持つている。これは一般に
保護をウレタン型化合物に求めているために脱離
の撰択性に不満足なところがあるために起因する
欠点であると本発明者は考えている。たとえば固
相合成では一般にα−アミノ基をt−ブトキシカ
ルボニルで保護し、ω−アミノ基はカルボベンゾ
キシで保護する方法が採用されているが、α位の
t−ブトキシカルボニルの切断反応時にω位のカ
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プチド等の副生物の原因となり、この集積によつ
て多くの不純物を与えるとされている。これを改
良すべく2−クロロ−ベンジルオキシカルボニル
やジイソプロピルメチロキシカルボニルが開発さ
れているが、これらは完全な除去に問題があり、
さらに弗化水素を用いる除去に際して、長時間処
理や比較的高温を必要とし、従つてペプチド自体
に好ましくない影響を与える。この理由は全て、
ウレタン型保護基であるため撰択性に乏しいもの
と考えられ、この点に注目して、本発明者らはス
ルホニルアミン型の保護基を種々検討して、本発
明を完成したものである。
ω−アミノ基を有する炭素数が6までの直鎖状
アミノ酸を含有するペプチドの製造にあたり、該
ω−アミノ基含有原料化合物のω−アミノ基をp
−メチルベンジルスルホニルで保護して、ペプチ
ド縮合した後保護基を弗化水素で脱離せしめるこ
とを特徴とするペプチドの製造法。
アミノ酸を含有するペプチドの製造にあたり、該
ω−アミノ基含有原料化合物のω−アミノ基をp
−メチルベンジルスルホニルで保護して、ペプチ
ド縮合した後保護基を弗化水素で脱離せしめるこ
とを特徴とするペプチドの製造法。
本発明に係わるω−アミノ基を有するアミノ酸
として、前記したものが例示され、最も普通のも
のはリジンであり、これを含むペプチドは天然の
生理活性ペプチド中に数多く存在する。たとえば
MSE(メラノホーレ ステイミユレイテイング
ホルモン)、ACTH リジン−バソプレシン、
ニウロテンシン、シイラム・サイミツク・フアク
ター、エンドルフイン類、サブスタンスP、サイ
モシンα、グルカゴン、モチリン等、殆んどすべ
ての生理活性ペプチドにはリジン残基が存在す
る。
として、前記したものが例示され、最も普通のも
のはリジンであり、これを含むペプチドは天然の
生理活性ペプチド中に数多く存在する。たとえば
MSE(メラノホーレ ステイミユレイテイング
ホルモン)、ACTH リジン−バソプレシン、
ニウロテンシン、シイラム・サイミツク・フアク
ター、エンドルフイン類、サブスタンスP、サイ
モシンα、グルカゴン、モチリン等、殆んどすべ
ての生理活性ペプチドにはリジン残基が存在す
る。
本発明のp−メチルベンジルスルホニルで保護
されうるアミノ酸は、少くともω位にアミノ基を
有するアミノ酸であり、とりわけα−位にもアミ
ノ基を有するα・ω−ジアミノ酸に有利に適用で
きる。アミノ酸について光学活性体がありうる場
合は、L体、D体、ラセミ体のいずれであつても
よい。たとえば炭素数が6までの直鎖状α・ω−
ジアミノ酸に本発明の保護基を有利に適用しうる
場合が多い。
されうるアミノ酸は、少くともω位にアミノ基を
有するアミノ酸であり、とりわけα−位にもアミ
ノ基を有するα・ω−ジアミノ酸に有利に適用で
きる。アミノ酸について光学活性体がありうる場
合は、L体、D体、ラセミ体のいずれであつても
よい。たとえば炭素数が6までの直鎖状α・ω−
ジアミノ酸に本発明の保護基を有利に適用しうる
場合が多い。
本発明のp−メチルベンジルスルホニルで保護
されたω−アミノ基を有するアミノ酸のカルボキ
シル基は遊離の形でも、あるいは公知の手段で適
宜活性化あるいは保護されていてもよい。そして
α−位にもアミノ基を有する場合、このα−アミ
ノ基は遊離のまゝでもあるいは公知の保護基で適
宜保護されていてもよい。
されたω−アミノ基を有するアミノ酸のカルボキ
シル基は遊離の形でも、あるいは公知の手段で適
宜活性化あるいは保護されていてもよい。そして
α−位にもアミノ基を有する場合、このα−アミ
ノ基は遊離のまゝでもあるいは公知の保護基で適
宜保護されていてもよい。
本発明のp−メチルベンジルスルホニルで保護
されたω−アミノ基を有するアミノ酸は、ω−ア
ミノ基を保護する常套手段で製造できる。たとえ
ば、p−メチルベンジルスルホニルハライド、好
ましくはクロライドとω−アミノ基を有するアミ
ノ酸と反応させることにより製造できる。この反
応は、たとえば約−10−+50℃の範囲の適宜の湿
度で、溶媒(例、水、含水テトラヒドロフラン、
含水ジオキサン、含水ジメチルホルムアミド)を
使用して実施してもよい。
されたω−アミノ基を有するアミノ酸は、ω−ア
ミノ基を保護する常套手段で製造できる。たとえ
ば、p−メチルベンジルスルホニルハライド、好
ましくはクロライドとω−アミノ基を有するアミ
ノ酸と反応させることにより製造できる。この反
応は、たとえば約−10−+50℃の範囲の適宜の湿
度で、溶媒(例、水、含水テトラヒドロフラン、
含水ジオキサン、含水ジメチルホルムアミド)を
使用して実施してもよい。
α・ω−ジアミノ酸の場合、その金属塩、好ま
しくは銅塩とp−メチルベンジルスルホニルハラ
イドを反応させると、ω−アミノ基が上記保護基
で保護されたα・ω−ジアミノ酸の金属塩を製造
でき、これを常套手段(例、硫化水素または樹脂
処理)で金属を除去して遊離のα−アミノ基およ
びカルボキシル基を有するω−保護アミノ酸を製
造でき、所望によりその遊離のα−アミノ基を公
知の保護基(例、t−ブトキシカルボニル、カル
ボベンゾキシなど)で常套手段で保護することも
でき、またその遊離のカルボキシル基を公知の保
護基(例、金属塩、低級アルキルエステル)で保
護したり、あるいは公知の手段で活性化(例、酸
無水物、アジド、活性エステル)させることもで
きる。
しくは銅塩とp−メチルベンジルスルホニルハラ
イドを反応させると、ω−アミノ基が上記保護基
で保護されたα・ω−ジアミノ酸の金属塩を製造
でき、これを常套手段(例、硫化水素または樹脂
処理)で金属を除去して遊離のα−アミノ基およ
びカルボキシル基を有するω−保護アミノ酸を製
造でき、所望によりその遊離のα−アミノ基を公
知の保護基(例、t−ブトキシカルボニル、カル
ボベンゾキシなど)で常套手段で保護することも
でき、またその遊離のカルボキシル基を公知の保
護基(例、金属塩、低級アルキルエステル)で保
護したり、あるいは公知の手段で活性化(例、酸
無水物、アジド、活性エステル)させることもで
きる。
上記の本発明のp−メチルベンジルスルホニル
で保護されたω−アミノ基を有するアミノ酸は、
該アミノ酸残基を有するペプチドを常套手段で製
造する方法にきわめて有利に使用しうる。本発明
の保護基は、たとえば弗化水素で約−20℃、1時
間処理することにより容易に除去できる。
で保護されたω−アミノ基を有するアミノ酸は、
該アミノ酸残基を有するペプチドを常套手段で製
造する方法にきわめて有利に使用しうる。本発明
の保護基は、たとえば弗化水素で約−20℃、1時
間処理することにより容易に除去できる。
本発明のp−メチルベンジルスルホニルで保護
したω−アミノ基を有するアミノ酸および該保護
されたアミノ酸残基を有するペプチドは、たとえ
ば次の如き有用な特性を有するので、それらを適
宜利用してペプチド合成の常套手段でペプチドを
有利に製造できる。
したω−アミノ基を有するアミノ酸および該保護
されたアミノ酸残基を有するペプチドは、たとえ
ば次の如き有用な特性を有するので、それらを適
宜利用してペプチド合成の常套手段でペプチドを
有利に製造できる。
(1) 簡便な処理(弗化水素処理)で、短時間でほ
とんど定量的に保護基(p−メチルベンジルス
ルホニル)を除去することができる。
とんど定量的に保護基(p−メチルベンジルス
ルホニル)を除去することができる。
(2) 保護基は特異的選択性を有し、ペプチド合成
の途中の工程で繁用される種々の条件、たとえ
ばα−アミノ基の保護基のt−ブトキシカルボ
ニルを除去するために繁用される条件(例、ト
リフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸−ジクロル
メタンまたは2NHCl−ジオキサンなど)、カル
ボベンゾキシやベンジルエステルを除去する接
触還元に対し分解されずきわめて安定である。
の途中の工程で繁用される種々の条件、たとえ
ばα−アミノ基の保護基のt−ブトキシカルボ
ニルを除去するために繁用される条件(例、ト
リフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸−ジクロル
メタンまたは2NHCl−ジオキサンなど)、カル
ボベンゾキシやベンジルエステルを除去する接
触還元に対し分解されずきわめて安定である。
(3) 固相法は勿論のこと液相法にも同様に有利に
使用しうる。
使用しうる。
(4) ペプチドを高純度、好収率で製造できる。
なお、上記アミノ基、カルボキシル基の保護、
活性化する公知手段、ペプチド合成の常套手段に
ついては、たとえば、J.P.Greenstein and M.
Wintitz、“Chemistry of the Amino Acids”、
Volume2、(1961)、John Wiley & Sons、
Inc.New York、U.S.A.、またはSchro¨der and
Lubke、“The Peptides”、Vol.1(1966)、
Academic Press、New York、U.S.A.に記載さ
れている。
活性化する公知手段、ペプチド合成の常套手段に
ついては、たとえば、J.P.Greenstein and M.
Wintitz、“Chemistry of the Amino Acids”、
Volume2、(1961)、John Wiley & Sons、
Inc.New York、U.S.A.、またはSchro¨der and
Lubke、“The Peptides”、Vol.1(1966)、
Academic Press、New York、U.S.A.に記載さ
れている。
本明細書において、アミノ酸、ペプチド、保護
基、活性基等に関し、IUPAC−IUB
Commission on Biological Nomenclatureに基づ
く略号あるいは当該分野における慣用略号で表示
する場合がある。それらを例示する。
基、活性基等に関し、IUPAC−IUB
Commission on Biological Nomenclatureに基づ
く略号あるいは当該分野における慣用略号で表示
する場合がある。それらを例示する。
BOC:t−ブトキシカルボニル
Z:カルボベンゾキシ
2−Cl−Z:2−クロロ−ベンジルオキシカル
ボニル Xys:p−メチルベンジルスルホニル(p−キシ
リル−α−スルホニル) HONb:N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−
2・3−ジカルボキシイミド OSu:N−ヒドロキシスクシンイミドエステル ONP:パラニトロフエニルエステル OBzl:ベンジルエステル Bzl:ベンジルエーテル OBut:t−ブチルエステル MBS:p−メトキシベンゼンスルホニル DCC:ジシクロヘキシルカルボジイミド Lys:リジン Gly:グリシン Glu:グルタミン酸 Leu:ロイシン Tyr:チロシン Asn:アスパラギン Pro:プロリン Arg:アルギニン Ile:イソロイシン Ala:アラニン Ser:セリン PGlu:ピログルタミン酸 実施例において、アミノ酸に関し、光学異性体
がありうる場合、特に明記しないかぎりL体を示
すものとする。
ボニル Xys:p−メチルベンジルスルホニル(p−キシ
リル−α−スルホニル) HONb:N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−
2・3−ジカルボキシイミド OSu:N−ヒドロキシスクシンイミドエステル ONP:パラニトロフエニルエステル OBzl:ベンジルエステル Bzl:ベンジルエーテル OBut:t−ブチルエステル MBS:p−メトキシベンゼンスルホニル DCC:ジシクロヘキシルカルボジイミド Lys:リジン Gly:グリシン Glu:グルタミン酸 Leu:ロイシン Tyr:チロシン Asn:アスパラギン Pro:プロリン Arg:アルギニン Ile:イソロイシン Ala:アラニン Ser:セリン PGlu:ピログルタミン酸 実施例において、アミノ酸に関し、光学異性体
がありうる場合、特に明記しないかぎりL体を示
すものとする。
実施例 1
p−メチルベンジルスルホニルクロリドの合成
亜硫酸ナトリウム(67g、0.53モル)を10%水
酸化ナトリウム水溶液(250ml)に溶かし、ここ
にp−メチルベンジルクロリド(75g、0.53モ
ル)を加え、撹拌しつつ4時間加熱還流させる。
反応液を水で2倍に薄め、熱時、自然ろ過し、母
液を冷却する。析出したp−メチルベンジルスル
ホン酸ナトリウム塩の結晶をろ取する。収量51g
(46%)。
酸化ナトリウム水溶液(250ml)に溶かし、ここ
にp−メチルベンジルクロリド(75g、0.53モ
ル)を加え、撹拌しつつ4時間加熱還流させる。
反応液を水で2倍に薄め、熱時、自然ろ過し、母
液を冷却する。析出したp−メチルベンジルスル
ホン酸ナトリウム塩の結晶をろ取する。収量51g
(46%)。
充分乾燥したp−メチルベンジルスルホン酸ナ
トリウム塩(30g、0.145モル)をジメチルホル
ムアミド(90ml)中に分散させ、−10℃に冷却
し、撹拌しつつ、ここに塩化チオニル(19.2ml、
0.29モル)を滴下する。室温で3時間撹拌を続け
た後、反応液を氷水(500g)に注ぎ、これをエ
ーテルで抽出する(150ml、3回)。エーテル層を
集め、冷水で2度洗つた後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。エーテルを留去して得られる結晶状残渣
に石油エーテルを加え、冷却した後、結晶をろ取
する。
トリウム塩(30g、0.145モル)をジメチルホル
ムアミド(90ml)中に分散させ、−10℃に冷却
し、撹拌しつつ、ここに塩化チオニル(19.2ml、
0.29モル)を滴下する。室温で3時間撹拌を続け
た後、反応液を氷水(500g)に注ぎ、これをエ
ーテルで抽出する(150ml、3回)。エーテル層を
集め、冷水で2度洗つた後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。エーテルを留去して得られる結晶状残渣
に石油エーテルを加え、冷却した後、結晶をろ取
する。
収量23.5g(78%)、融点80−81℃
実施例 2
H−Lys(Xys)−OHの合成
リジン銅塩(65ミリモル)を2規定水酸化ナト
リウム水溶液(54ml)に溶かし、ジオキサン(15
ml)を加えた後、0℃で激しく撹拌しつつ、p−
メチルベンジルスルホニルクロリド(14.7g、72
ミリモル)を含んだジオキサン溶液(40ml)を滴
下する。滴下後、0℃で1時間、室温で4時間撹
拌を続ける。析出した沈殿をろ取し、水及びアル
コールで洗つた後乾燥する。これを1規定塩酸中
で分散させ、硫化水素ガスを約30分間吹き込んだ
後、温水(1)を加えて析出している目的物を
溶かした後、硫化銅をろ去する。母液に濃アンモ
ニア水を加えてPH7とし、冷却後、結晶をろ取す
る。これを熱水から再結晶する。
リウム水溶液(54ml)に溶かし、ジオキサン(15
ml)を加えた後、0℃で激しく撹拌しつつ、p−
メチルベンジルスルホニルクロリド(14.7g、72
ミリモル)を含んだジオキサン溶液(40ml)を滴
下する。滴下後、0℃で1時間、室温で4時間撹
拌を続ける。析出した沈殿をろ取し、水及びアル
コールで洗つた後乾燥する。これを1規定塩酸中
で分散させ、硫化水素ガスを約30分間吹き込んだ
後、温水(1)を加えて析出している目的物を
溶かした後、硫化銅をろ去する。母液に濃アンモ
ニア水を加えてPH7とし、冷却後、結晶をろ取す
る。これを熱水から再結晶する。
収量8.2g(40.7%)、融点261℃(分解)
Rf1(n−ブタノール:酢酸エチル:酢酸:水=
1:1:1:1)=0.73、〔α〕20 D+15.5゜(C
0.5、酢酸) 元素分析 C14H22O4N2Sとして 計算値 C 53.48;H 7.05;N 8.91; S 10.20 分析値 C 53.36;H 7.35;N 8.86; S 10.00 実施例 3 Boc−Lys(Xys)−OHの合成 H−Lys(Xys)−OH(6.3g、20ミリモル)、
トリエチルアミン(4.2ml)及び、2−t−ブト
キシカルボニル−4・6−ジメチル−2−メルカ
プトピリミジン(6.2g、26ミリモル)を水−ジ
オキサン(25ml−25ml)の混合溶媒中、激しく撹
拌しつつ、室温で48時間反応させる。水(50ml)
を加えた後、これをエーテルで抽出する(50ml、
2回)。水層を冷却し、3規定塩酸を加えてPH2
とし、酢酸エチル(100ml)で抽出、次いで酢酸
エチル層を1規定塩酸(50ml、3回)及び水で洗
い、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去し、残渣を石油エーテルで結晶化させ、冷却後
これをろ取する。
1:1:1:1)=0.73、〔α〕20 D+15.5゜(C
0.5、酢酸) 元素分析 C14H22O4N2Sとして 計算値 C 53.48;H 7.05;N 8.91; S 10.20 分析値 C 53.36;H 7.35;N 8.86; S 10.00 実施例 3 Boc−Lys(Xys)−OHの合成 H−Lys(Xys)−OH(6.3g、20ミリモル)、
トリエチルアミン(4.2ml)及び、2−t−ブト
キシカルボニル−4・6−ジメチル−2−メルカ
プトピリミジン(6.2g、26ミリモル)を水−ジ
オキサン(25ml−25ml)の混合溶媒中、激しく撹
拌しつつ、室温で48時間反応させる。水(50ml)
を加えた後、これをエーテルで抽出する(50ml、
2回)。水層を冷却し、3規定塩酸を加えてPH2
とし、酢酸エチル(100ml)で抽出、次いで酢酸
エチル層を1規定塩酸(50ml、3回)及び水で洗
い、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去し、残渣を石油エーテルで結晶化させ、冷却後
これをろ取する。
収量7.6g(91.7%)、融点94−95℃
Rf2(クロロホルム:メタノール:酢酸=9:
1:0.5)=0.58。〔α〕20 D−1.5゜(C 0.5、メ
タ
ノール) 元素分析 C19H30O6N2Sとして 計算値 C 55.05;H 7.30;N 6.76 分析値 C 55.27;H 7.09;N 6.72 実施例 4 アミノ基の保護基としての、Xys基、2−クロ
ル−ベンジルオキシカルボニル基及び、Z基の
トリフルオル酢酸に対する安定性の比較 Boc−Lys(Xys)−OH(41.4mg、0.1ミリモ
ル)、Boc−Lys(2−Ll−Z)−OH・t−ブチル
アミン塩(48.8mg、0.1ミリモル)及び、Boc−
Lys(Z)−OH・ジシクロヘキシルアミン塩
(56.1mg、0.1ミリモル)を、それぞれアニソール
(0.03ml)を含んだトリフルオル酢酸(0.5ml)に
溶かし、24時間室温に放置する。トリフルオル酢
酸を留去し、残渣に冷水を加えて20mlとする。こ
の溶液の一定量を取り、アミノ酸分析器にて溶液
中のリジンの含量を定量し、リジンの生成率(各
ε−アミノ保護基の切断率)を計算する。
1:0.5)=0.58。〔α〕20 D−1.5゜(C 0.5、メ
タ
ノール) 元素分析 C19H30O6N2Sとして 計算値 C 55.05;H 7.30;N 6.76 分析値 C 55.27;H 7.09;N 6.72 実施例 4 アミノ基の保護基としての、Xys基、2−クロ
ル−ベンジルオキシカルボニル基及び、Z基の
トリフルオル酢酸に対する安定性の比較 Boc−Lys(Xys)−OH(41.4mg、0.1ミリモ
ル)、Boc−Lys(2−Ll−Z)−OH・t−ブチル
アミン塩(48.8mg、0.1ミリモル)及び、Boc−
Lys(Z)−OH・ジシクロヘキシルアミン塩
(56.1mg、0.1ミリモル)を、それぞれアニソール
(0.03ml)を含んだトリフルオル酢酸(0.5ml)に
溶かし、24時間室温に放置する。トリフルオル酢
酸を留去し、残渣に冷水を加えて20mlとする。こ
の溶液の一定量を取り、アミノ酸分析器にて溶液
中のリジンの含量を定量し、リジンの生成率(各
ε−アミノ保護基の切断率)を計算する。
Xys基: 0.0%
2−Cl−Z基: 4.8%
Z基: 70.6%
実施例 5
アミノ基の保護基としての、Xys基、ベンジル
スルホニル基及び、2−クロル−ベンジルオキ
シカルボニル基のフツ化水素による切断率の比
較 Boc−Lys(Xys)−OH(124.4mg、0.3ミリモ
ル)、N〓−ベンジルスルホニルリジン(90mg、
0.3ミリモル)及びBoc−Lys−(2−Cl−Z)−
OH・t−ブチルアミン塩(146.4mg、0.3ミリモ
ル)をそれぞれ、アニソール(0.1ml)存在下、
フツ化水素(2ml)cm2−20℃、1時間処理する。
フツ化水素を留去した後、残渣をそれぞれ水(50
ml)に溶す。この一定量を取り、アミノ酸分析器
にて溶液中のリジンを定量し、リジンの生成率を
計算する。
スルホニル基及び、2−クロル−ベンジルオキ
シカルボニル基のフツ化水素による切断率の比
較 Boc−Lys(Xys)−OH(124.4mg、0.3ミリモ
ル)、N〓−ベンジルスルホニルリジン(90mg、
0.3ミリモル)及びBoc−Lys−(2−Cl−Z)−
OH・t−ブチルアミン塩(146.4mg、0.3ミリモ
ル)をそれぞれ、アニソール(0.1ml)存在下、
フツ化水素(2ml)cm2−20℃、1時間処理する。
フツ化水素を留去した後、残渣をそれぞれ水(50
ml)に溶す。この一定量を取り、アミノ酸分析器
にて溶液中のリジンを定量し、リジンの生成率を
計算する。
Xys基: 97.3%
ベンジルスルホニル基: 64.4%
2−Cl−Z基: 86.3%
実施例 6
H−Gly−Lys−Gly−OHの合成
(a) Boc−Lys(Xys)−GlyOBzlの調製
Boc−Lys(Xys)−OH(829mg、2ミリモ
ル)、H−Gly−OBzl・TosOH(742mg、2.2ミ
リモル)及びHONb(396mg、2.2ミリモル)を
アセトニトリル(30ml)に溶かし、0℃に冷却
する。トリエチルアミン(0.31ml)とジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(454mg、2.2ミリモ
ル)を加えた後、0℃で3時間、室温で15時間
撹拌を続ける。ジシクロヘキシルウレアをろ去
した後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(50
ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリウム
水溶液、1規定塩酸、及び水で洗い、硫酸ナト
リウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加えて結晶化させ、冷却後ろ取する。
ル)、H−Gly−OBzl・TosOH(742mg、2.2ミ
リモル)及びHONb(396mg、2.2ミリモル)を
アセトニトリル(30ml)に溶かし、0℃に冷却
する。トリエチルアミン(0.31ml)とジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(454mg、2.2ミリモ
ル)を加えた後、0℃で3時間、室温で15時間
撹拌を続ける。ジシクロヘキシルウレアをろ去
した後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(50
ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリウム
水溶液、1規定塩酸、及び水で洗い、硫酸ナト
リウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加えて結晶化させ、冷却後ろ取する。
収量1.10g(97.9%)、融点87−89℃、〔α〕20 D−
9.4゜(C 0.5、メタノール) Rf2=0.59 元素分析 C28H39O7N3Sとして 計算値 C 59.87;H 7.00;N 7.48 分析値 C 59.99;H 6.70;N 7.55 (b) Boc−Gly−Lys(Xys)−Gly−OBzlの調製 Boc−Lys(Xys)−Gly−OBzl(562mg、1.0
ミリモル)をトリフルオル酢酸(2ml)に溶か
し、室温で20分反応させた後、トリフルオル酢
酸を留去する。残渣にエーテル(20ml)を加え
て粉末とし、これをろ取、乾燥する。このトリ
フルオル酢酸塩とZ−Gly−ONb(370mg、1.0
ミリモル)をジメチルホルムアミド(10ml)に
溶かし、トリエチルアミン(0.14ml)を加え、
以後室温で1時間撹拌する。溶媒を留去し、残
渣を酢酸エチル(20ml)に溶し、この溶液を5
%炭酸水素ナトリウム水溶液、1規定塩酸及び
水で洗つた後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶
媒を留去し、残渣にエーテルを加えて結晶化さ
せ、さらにここに石油エーテルを加え、冷却後
に結晶をろ取する。
9.4゜(C 0.5、メタノール) Rf2=0.59 元素分析 C28H39O7N3Sとして 計算値 C 59.87;H 7.00;N 7.48 分析値 C 59.99;H 6.70;N 7.55 (b) Boc−Gly−Lys(Xys)−Gly−OBzlの調製 Boc−Lys(Xys)−Gly−OBzl(562mg、1.0
ミリモル)をトリフルオル酢酸(2ml)に溶か
し、室温で20分反応させた後、トリフルオル酢
酸を留去する。残渣にエーテル(20ml)を加え
て粉末とし、これをろ取、乾燥する。このトリ
フルオル酢酸塩とZ−Gly−ONb(370mg、1.0
ミリモル)をジメチルホルムアミド(10ml)に
溶かし、トリエチルアミン(0.14ml)を加え、
以後室温で1時間撹拌する。溶媒を留去し、残
渣を酢酸エチル(20ml)に溶し、この溶液を5
%炭酸水素ナトリウム水溶液、1規定塩酸及び
水で洗つた後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶
媒を留去し、残渣にエーテルを加えて結晶化さ
せ、さらにここに石油エーテルを加え、冷却後
に結晶をろ取する。
収量561mg(86%)、融点70−71℃
〔α〕20 D+1.34゜(C 0.5、メタノール)
Rf2=0.48
元素分析 C33H40O8N4Sとして
計算値 C 60.71;H 6.18;N 8.58;
S 6.91
分析値 C 60.71;H 6.27;N 8.57;
S 4.89
(c) H−Gly−Lys−Gly−OHの合成
Z−Gly−Lys(Xys)−Gly−OBzl(195mg、
0.3ミリモル)をアニソール(0.3ml)存在下、
フツ化水素(3ml)で、−20℃、1時間処理す
る。フツ化水素を留去した後、残渣を水(20
ml)に溶かし、これをエーテルで抽出する。水
層をアンバーライトIR−45(酢酸型、2×5
cm)のカラムに通し、次いでカラムを水(30
ml)で洗う。通過液と洗液を合わせ、ここに1
規定塩酸(0.6ml)を加えた後、凍結乾燥す
る。羽毛状白色粉末を得る。
0.3ミリモル)をアニソール(0.3ml)存在下、
フツ化水素(3ml)で、−20℃、1時間処理す
る。フツ化水素を留去した後、残渣を水(20
ml)に溶かし、これをエーテルで抽出する。水
層をアンバーライトIR−45(酢酸型、2×5
cm)のカラムに通し、次いでカラムを水(30
ml)で洗う。通過液と洗液を合わせ、ここに1
規定塩酸(0.6ml)を加えた後、凍結乾燥す
る。羽毛状白色粉末を得る。
収量91mg(90.4%)、〔α〕20 D−22.7゜(C
0.5、1規定塩酸)、Rf1=0.13 元素分析 C10H20O4N4・2HCl・1/2H2Oとして 計算値 C 35.09;H 6.77;N 16.37 分析値 C 35.41;H 6.70;N 16.16 実施例 7 H−Gly−Lys(Xys)−Gly−OHの合成 Z−Gly−Lys(Xys)−Gly−OBzl(130mg、
0.2ミリモル)を、エタノール−水(15ml−15
ml)の混合溶媒中、パラジウム黒を触媒として、
室温で3時間、接触還元する。触媒をろ去した
後、溶媒を留去して得られる結晶残渣を水−エタ
ノールから再結晶する。
0.5、1規定塩酸)、Rf1=0.13 元素分析 C10H20O4N4・2HCl・1/2H2Oとして 計算値 C 35.09;H 6.77;N 16.37 分析値 C 35.41;H 6.70;N 16.16 実施例 7 H−Gly−Lys(Xys)−Gly−OHの合成 Z−Gly−Lys(Xys)−Gly−OBzl(130mg、
0.2ミリモル)を、エタノール−水(15ml−15
ml)の混合溶媒中、パラジウム黒を触媒として、
室温で3時間、接触還元する。触媒をろ去した
後、溶媒を留去して得られる結晶残渣を水−エタ
ノールから再結晶する。
収量75mg(87%)、融点214℃(分解)〔α〕20 D−
14.5゜(C 0.5、酢酸)、Rf=0.61 元素分析 C18H26O6N4S・1/2H2Oとして 計算値 C 49.41;H 6.68;N 12.80; S 7.33 分析値 C 49.78;H 6.81;H 12.86; S 6.77 実施例 8 PGlu−Leu−Tyr−Glu−Asn−Lys−Pro−
Arg−Arg−Pro−Tyr−Ile−Leu−OH(ニユ
ーロテンシン)の合成 (a) Z−Asn−Lys(Xys)−Pro−OBzlの調製 Boc−Lys(Xys)−OH(4.14g、10ミリモ
ル)、H−Pro−OBzl・HCl(2.65g、11ミリモ
ル)、及びHONb(1.99g、11ミリモル)をア
セトニトリル(30ml)に溶かし、0℃に冷却す
る。ここにトリエチルアミン(1.54ml)と、ジ
シクロヘキシルカルボジイミド(2.27g、11ミ
リモル)を加え、0℃で4時間、室温で15時間
撹拌する。ジシクロヘキシルウレアをろ去した
後、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル(100
ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリウム
水溶液、1規定塩酸及び水にて洗浄した後、硫
酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを留去し
て、シロツプ状のBoc−Lys(Xys)−Pro−
OBzlを得る。(5.9g、98%、Rf1=0.82)。
14.5゜(C 0.5、酢酸)、Rf=0.61 元素分析 C18H26O6N4S・1/2H2Oとして 計算値 C 49.41;H 6.68;N 12.80; S 7.33 分析値 C 49.78;H 6.81;H 12.86; S 6.77 実施例 8 PGlu−Leu−Tyr−Glu−Asn−Lys−Pro−
Arg−Arg−Pro−Tyr−Ile−Leu−OH(ニユ
ーロテンシン)の合成 (a) Z−Asn−Lys(Xys)−Pro−OBzlの調製 Boc−Lys(Xys)−OH(4.14g、10ミリモ
ル)、H−Pro−OBzl・HCl(2.65g、11ミリモ
ル)、及びHONb(1.99g、11ミリモル)をア
セトニトリル(30ml)に溶かし、0℃に冷却す
る。ここにトリエチルアミン(1.54ml)と、ジ
シクロヘキシルカルボジイミド(2.27g、11ミ
リモル)を加え、0℃で4時間、室温で15時間
撹拌する。ジシクロヘキシルウレアをろ去した
後、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル(100
ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリウム
水溶液、1規定塩酸及び水にて洗浄した後、硫
酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを留去し
て、シロツプ状のBoc−Lys(Xys)−Pro−
OBzlを得る。(5.9g、98%、Rf1=0.82)。
これをトリフルオル酢酸(30ml)に溶かし、
室温に30分放置する。6.5規定塩酸−ジオキサ
ン(2ml)を加えた後、トリフルオル酢酸を留
去する。油状残渣にエーテル(50ml)と石油エ
ーテル(50ml)を加えてよくかきまぜて上澄み
を捨てる。この操作を3度行ない残渣を水酸化
ナトリウム存在下に乾燥する。このトリフルオ
ル酢酸塩とZ−Asn−OH(2.61g、10ミリモ
ル)、及びHONb(2.07g、11.5ミリモル)をジ
メチルホルムアミド(30ml)に溶かし、0℃に
冷却した後、トリエチルアミン(1.4ml)及び
ジシクロヘキシルカルボジイミド(2.38g、
11.5ミリモル)を加え、0℃で3時間、室温で
15時間撹拌する。沈殿をろ去し、溶媒を留去す
る。残渣を3%メタノール−クロロホルムを展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(6×15cm)で精製する。流出液の500ml
から640mlまでを集め、溶媒を留去し、残渣に
石油エーテルを加えて粉末とし、これを取す
る。
室温に30分放置する。6.5規定塩酸−ジオキサ
ン(2ml)を加えた後、トリフルオル酢酸を留
去する。油状残渣にエーテル(50ml)と石油エ
ーテル(50ml)を加えてよくかきまぜて上澄み
を捨てる。この操作を3度行ない残渣を水酸化
ナトリウム存在下に乾燥する。このトリフルオ
ル酢酸塩とZ−Asn−OH(2.61g、10ミリモ
ル)、及びHONb(2.07g、11.5ミリモル)をジ
メチルホルムアミド(30ml)に溶かし、0℃に
冷却した後、トリエチルアミン(1.4ml)及び
ジシクロヘキシルカルボジイミド(2.38g、
11.5ミリモル)を加え、0℃で3時間、室温で
15時間撹拌する。沈殿をろ去し、溶媒を留去す
る。残渣を3%メタノール−クロロホルムを展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(6×15cm)で精製する。流出液の500ml
から640mlまでを集め、溶媒を留去し、残渣に
石油エーテルを加えて粉末とし、これを取す
る。
収量2.7g(36%)、融点75−78℃
〔α〕20 D−33.4゜(C 0.5、ジメチルホルムアミ
ド)。Rf1=0.58 元素分析 C38H47O9N5Sとして 計算値 C 60.86;H 6.32;N 9.34; S 6.28 分析値 C 60.71;H 6.24;N 9.14; S 4.17 (b) H−Asn−Lys(Xys)−Pro−OHの調製 Z−Asn−Lys(Xys)−Pro−OBzl(2.25
g、3ミリモル)をエタノール−水(70ml−40
ml)の混合溶媒に溶かし、パラジウム黒を触媒
として、室温で4時間、接触還元を行なう。触
媒をろ去して溶媒を留去する。残渣にアセトニ
トリル(50ml)を加えて粉末とし、これをろ取
する。
ド)。Rf1=0.58 元素分析 C38H47O9N5Sとして 計算値 C 60.86;H 6.32;N 9.34; S 6.28 分析値 C 60.71;H 6.24;N 9.14; S 4.17 (b) H−Asn−Lys(Xys)−Pro−OHの調製 Z−Asn−Lys(Xys)−Pro−OBzl(2.25
g、3ミリモル)をエタノール−水(70ml−40
ml)の混合溶媒に溶かし、パラジウム黒を触媒
として、室温で4時間、接触還元を行なう。触
媒をろ去して溶媒を留去する。残渣にアセトニ
トリル(50ml)を加えて粉末とし、これをろ取
する。
収量1.39g(89%)、融点108℃(分解)、〔α〕
20 D−38.7゜(C 0.5、酢酸) Rf1=0.63 元素分析 C23H35O7N5Sとして 計算値 C 52.55;H 6.71;N 13.33; S 6.10 分析値 C 52.65;H 6.88;N 12.75; S 5.92 (c) Boc−Glu(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro
−OHの調製 Boc−Glu(OBzl)−OH(1.01g、3ミリモ
ル)とHONb(537mg、3ミリモル)をアセト
ニトリル(20ml)に溶かし、0℃に冷却し、こ
こにジシクロヘキシルカルボジイミド(618
mg、3ミリモル)を加え、0℃で3時間、室温
で5時間撹拌する。析出したジシクロヘキシル
ウレアを去した後、溶媒を留去してBoc−
Glu−ONbを得る。(以下、Noc−アミノ酸の
HONb活性エステルは同様の操作で調製す
る。) H−Asn−Lys(Xys)−Pro−OH(1.39g、
2.67ミリモル)をジメチルホルムアミド(40
ml)に溶かし、ここにトリエチルアミン(0.38
ml)及び、上記Boc−Glu(OBzl)−ONbを加
え、室温で20時間撹拌する。溶媒を留去し、残
渣を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(80ml)に
溶かし、酢酸エチルで抽出する(40ml、2
回)。水層を冷却して、3規定酢酸でPH2と
し、これを酢酸エチル−n−ブタノール(100
ml−20ml)の混合溶媒で抽出する。有機層を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を約
15mlにまで濃縮する。ここにエーテル(60ml)
を加えて冷却後、生じた沈殿をろ取する。
20 D−38.7゜(C 0.5、酢酸) Rf1=0.63 元素分析 C23H35O7N5Sとして 計算値 C 52.55;H 6.71;N 13.33; S 6.10 分析値 C 52.65;H 6.88;N 12.75; S 5.92 (c) Boc−Glu(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro
−OHの調製 Boc−Glu(OBzl)−OH(1.01g、3ミリモ
ル)とHONb(537mg、3ミリモル)をアセト
ニトリル(20ml)に溶かし、0℃に冷却し、こ
こにジシクロヘキシルカルボジイミド(618
mg、3ミリモル)を加え、0℃で3時間、室温
で5時間撹拌する。析出したジシクロヘキシル
ウレアを去した後、溶媒を留去してBoc−
Glu−ONbを得る。(以下、Noc−アミノ酸の
HONb活性エステルは同様の操作で調製す
る。) H−Asn−Lys(Xys)−Pro−OH(1.39g、
2.67ミリモル)をジメチルホルムアミド(40
ml)に溶かし、ここにトリエチルアミン(0.38
ml)及び、上記Boc−Glu(OBzl)−ONbを加
え、室温で20時間撹拌する。溶媒を留去し、残
渣を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(80ml)に
溶かし、酢酸エチルで抽出する(40ml、2
回)。水層を冷却して、3規定酢酸でPH2と
し、これを酢酸エチル−n−ブタノール(100
ml−20ml)の混合溶媒で抽出する。有機層を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を約
15mlにまで濃縮する。ここにエーテル(60ml)
を加えて冷却後、生じた沈殿をろ取する。
収量1.55g(69%)、融点124℃(分解)、〔α〕
20 D−23.9゜(C 0.5、ジメチルホルムアミ
ド)、Rf3(酢酸エチル:ピリジン:酢酸:水=
60:20:6:11)=0.60 元素分析 C40H56O12N6Sとして 計算値 C 56.85;H 6.68;N 9.96; S 3.80 分析値 C 56.70;H 6.78;N 9.84; S 3.69 (d) Boc−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Glu(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro
−OH(1.01g、1.2ミリモル)をトリフルオル
酢酸(10ml)に溶かし、室温に30分放置する。
トリフルオル酢酸を留去した後、残渣にエーテ
ル(30ml)を加え、沈殿をろ取し、乾燥する。
これをジメチルホルムアミド(20ml)に溶か
し、ここにトリエチルアミン(0.34ml)及び、
Boc−Tyr−OSu(570mg、1.5ミリモル)を加
え室温で48時間撹拌を続ける。反応液に2%ク
エン酸水溶液(100ml)を加え、沈殿物をn−
ブタノール(100ml)で抽出する。n−ブタノ
ール層を充分水洗した後、これを約10mlにまで
濃縮し、ここにエーテル(50ml)を加えて冷却
し、沈殿を取する。
20 D−23.9゜(C 0.5、ジメチルホルムアミ
ド)、Rf3(酢酸エチル:ピリジン:酢酸:水=
60:20:6:11)=0.60 元素分析 C40H56O12N6Sとして 計算値 C 56.85;H 6.68;N 9.96; S 3.80 分析値 C 56.70;H 6.78;N 9.84; S 3.69 (d) Boc−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Glu(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro
−OH(1.01g、1.2ミリモル)をトリフルオル
酢酸(10ml)に溶かし、室温に30分放置する。
トリフルオル酢酸を留去した後、残渣にエーテ
ル(30ml)を加え、沈殿をろ取し、乾燥する。
これをジメチルホルムアミド(20ml)に溶か
し、ここにトリエチルアミン(0.34ml)及び、
Boc−Tyr−OSu(570mg、1.5ミリモル)を加
え室温で48時間撹拌を続ける。反応液に2%ク
エン酸水溶液(100ml)を加え、沈殿物をn−
ブタノール(100ml)で抽出する。n−ブタノ
ール層を充分水洗した後、これを約10mlにまで
濃縮し、ここにエーテル(50ml)を加えて冷却
し、沈殿を取する。
収量1.13g(93.4%)、融点119−120℃、〔α〕20 D
−22.9゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf3=0.46 元素分析 C49H65O14N7Sとして 計算値 C 58.37;H 6.50;N 9.73; S 3.18 分析値 C 58.29;H 7.14;N 9.61; S 3.16 (e) Boc−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OH(860mg、0.85ミリモル)を
トリフルオル酢酸(5ml)に溶かし、室温に30
分放置した後、トリフルオル酢酸を留去する。
エーテル(30ml)を加えて沈殿をろ取し、乾燥
する。これをジメチルホルムアミド(20ml)に
溶かし、トリエチルアミン(0.24ml)と、Boc
−Leu−ONb(Boc−Leu−OH、HONb、及び
DCC各々1.02ミリモルから調製した。)を加
え、室温で20時間撹拌する。反応液に2%クエ
ン酸水溶液(100ml)を加え、生じた沈殿を
取し、充分水洗する。これをアセトニトリル−
エーテルから再沈殿する。
−22.9゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf3=0.46 元素分析 C49H65O14N7Sとして 計算値 C 58.37;H 6.50;N 9.73; S 3.18 分析値 C 58.29;H 7.14;N 9.61; S 3.16 (e) Boc−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OH(860mg、0.85ミリモル)を
トリフルオル酢酸(5ml)に溶かし、室温に30
分放置した後、トリフルオル酢酸を留去する。
エーテル(30ml)を加えて沈殿をろ取し、乾燥
する。これをジメチルホルムアミド(20ml)に
溶かし、トリエチルアミン(0.24ml)と、Boc
−Leu−ONb(Boc−Leu−OH、HONb、及び
DCC各々1.02ミリモルから調製した。)を加
え、室温で20時間撹拌する。反応液に2%クエ
ン酸水溶液(100ml)を加え、生じた沈殿を
取し、充分水洗する。これをアセトニトリル−
エーテルから再沈殿する。
収量824mg(88.2%)、融点158−160℃、〔α〕20 D
−21.4゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf3=0.48 元素分析 C55H76O15N8Sとして 計算値 C 58.91;H 6.83;N 9.99; S 2.86 分析値 C 58.77;H 7.10;N 9.99; S 2.71 (f) Z−pGlu−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−
Lys(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Leu−Tyr−Glu(CBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OH(6.17mg、0.55ミリモル)を
トリフルオル酢酸(5ml)に溶かし、室温に30
分放置した後、トリフルオル酢酸を留去する。
ここにエーテル(30ml)を加えて生じた沈殿を
ろ取する。これをジメチルホルムアミド(10
ml)に溶かし、ここにトリエチルアミン(0.16
ml)とZ−pGlu−ONb(281mg、0.66ミリモ
ル)を加えて室温で48時間撹拌する。反応液に
2%クエン酸水溶液(100ml)を加え、生じた
沈殿をろ取し、充分水洗する。この粗製物を熱
アセトニトリル(30ml)で洗う。
−21.4゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf3=0.48 元素分析 C55H76O15N8Sとして 計算値 C 58.91;H 6.83;N 9.99; S 2.86 分析値 C 58.77;H 7.10;N 9.99; S 2.71 (f) Z−pGlu−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Asn−
Lys(Xys)−Pro−OHの調製 Boc−Leu−Tyr−Glu(CBzl)−Asn−Lys
(Xys)−Pro−OH(6.17mg、0.55ミリモル)を
トリフルオル酢酸(5ml)に溶かし、室温に30
分放置した後、トリフルオル酢酸を留去する。
ここにエーテル(30ml)を加えて生じた沈殿を
ろ取する。これをジメチルホルムアミド(10
ml)に溶かし、ここにトリエチルアミン(0.16
ml)とZ−pGlu−ONb(281mg、0.66ミリモ
ル)を加えて室温で48時間撹拌する。反応液に
2%クエン酸水溶液(100ml)を加え、生じた
沈殿をろ取し、充分水洗する。この粗製物を熱
アセトニトリル(30ml)で洗う。
収量595mg(85.4%)、融点209−211℃、〔α〕20 D
−31.2゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf2=0.43 元素分析 C63H79O17N9Sとして 計算値 C 59.75;H 6.29;N 9.95; S 2.53 分析値 C 59.48;H 6.50;N 9.73; S 2.18 (g) Z−Arg(MBS)−Pro−OButの調製 Z−Arg(MBS)−OH(7.79g、15ミリモ
ル)とH−Pro−OBut(3.57g、15ミリモル)
をアセトニトリル(100ml)に溶かし、0℃に
冷却する。ここにDOC(3.71g、18ミリモ
ル)を加えて、0℃で5時間、室温で15時間撹
拌する。ジシクロヘキシルウレアをろ去し、ア
セトニトリルを留去する。残渣を酢酸エチル
(150ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、1規定塩酸、及び水で抽出した
後、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを
留去し、残渣にエーテルを加え、擦つて結晶さ
れる。これを酢酸エチル−エーテルから再結晶
する。
−31.2゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf2=0.43 元素分析 C63H79O17N9Sとして 計算値 C 59.75;H 6.29;N 9.95; S 2.53 分析値 C 59.48;H 6.50;N 9.73; S 2.18 (g) Z−Arg(MBS)−Pro−OButの調製 Z−Arg(MBS)−OH(7.79g、15ミリモ
ル)とH−Pro−OBut(3.57g、15ミリモル)
をアセトニトリル(100ml)に溶かし、0℃に
冷却する。ここにDOC(3.71g、18ミリモ
ル)を加えて、0℃で5時間、室温で15時間撹
拌する。ジシクロヘキシルウレアをろ去し、ア
セトニトリルを留去する。残渣を酢酸エチル
(150ml)に溶かし、これを5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、1規定塩酸、及び水で抽出した
後、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを
留去し、残渣にエーテルを加え、擦つて結晶さ
れる。これを酢酸エチル−エーテルから再結晶
する。
収量6.62g(70%)、融点107−108℃、〔α〕20 D
−27.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.69 元素分析 C30H40O8N5Sとして 計算値 C 57.03;H 6.54;N 11.09; S 5.08 分析値 C 57.01;H 6.45;N 11.13; S 5.09 (h) Z−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OBut
の調製 Z−Arg(MBS)−Pro−OBut(5.05g、8
ミリモル)をメタノール(100ml)に溶かし、
ここにパラジウム黒触媒を加え、水素ガスを16
時間通じて接触還元を行なう。触媒を去した
後メタノールを留去する。残渣及びZ−Arg
(MBS)−OH(4.15g、8ミリモル)をジメチ
ルホルムアミド(50ml)に溶かし、0℃に冷却
する。ここにDCC(1.98g、9.6ミリモル)を
加え、0℃で5時間、室温で12時間撹拌を続け
る。析出した沈殿を去し、母液に水(300
ml)を加え、析出した油状物を酢酸エチル−n
−ブタノール(200ml−50ml)の混合触媒で抽
出する。有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶
液、1規定塩酸、及び水で洗浄した後、硫酸ナ
トリウムで乾燥する。溶媒を約30mlにまで濃縮
し、ここにエーテル(100ml)を加え、析出し
た沈殿を冷却後にろ取する。
−27.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.69 元素分析 C30H40O8N5Sとして 計算値 C 57.03;H 6.54;N 11.09; S 5.08 分析値 C 57.01;H 6.45;N 11.13; S 5.09 (h) Z−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OBut
の調製 Z−Arg(MBS)−Pro−OBut(5.05g、8
ミリモル)をメタノール(100ml)に溶かし、
ここにパラジウム黒触媒を加え、水素ガスを16
時間通じて接触還元を行なう。触媒を去した
後メタノールを留去する。残渣及びZ−Arg
(MBS)−OH(4.15g、8ミリモル)をジメチ
ルホルムアミド(50ml)に溶かし、0℃に冷却
する。ここにDCC(1.98g、9.6ミリモル)を
加え、0℃で5時間、室温で12時間撹拌を続け
る。析出した沈殿を去し、母液に水(300
ml)を加え、析出した油状物を酢酸エチル−n
−ブタノール(200ml−50ml)の混合触媒で抽
出する。有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶
液、1規定塩酸、及び水で洗浄した後、硫酸ナ
トリウムで乾燥する。溶媒を約30mlにまで濃縮
し、ここにエーテル(100ml)を加え、析出し
た沈殿を冷却後にろ取する。
収量5.30g(69.2%)、融点119℃(分解)。
〔α〕20 D−17.7゜(C 0.5、ジメチルホルムアミ
ド)。Rf2=0.34 元素分析 C43H59O12N9S2・H2Oとして 計算値 C 52.90;H 6.30;N 12.92; S 6.57 分析値 C 53.21;H 6.37;N 12.92; S 6.29 (i) Z−Ile−Leu−OButの調製 Z−Ile−ONb(6.41g、15ミリモル)とH
−Leu−OBut(2.81g、15ミリモル)をアセト
ニトリル(30ml)に溶かし、室温に24時間放置
する。アセトニトリルを留去し、残渣を酢酸エ
チル(100ml)に溶かし、この溶液を5%炭酸
水素ナトリウム水溶液、1規定塩酸、及び水で
洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を留去した後、残渣を少量の石油エーテルから
結晶化させ、冷却後これを取する。
〔α〕20 D−17.7゜(C 0.5、ジメチルホルムアミ
ド)。Rf2=0.34 元素分析 C43H59O12N9S2・H2Oとして 計算値 C 52.90;H 6.30;N 12.92; S 6.57 分析値 C 53.21;H 6.37;N 12.92; S 6.29 (i) Z−Ile−Leu−OButの調製 Z−Ile−ONb(6.41g、15ミリモル)とH
−Leu−OBut(2.81g、15ミリモル)をアセト
ニトリル(30ml)に溶かし、室温に24時間放置
する。アセトニトリルを留去し、残渣を酢酸エ
チル(100ml)に溶かし、この溶液を5%炭酸
水素ナトリウム水溶液、1規定塩酸、及び水で
洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を留去した後、残渣を少量の石油エーテルから
結晶化させ、冷却後これを取する。
収量5.90g(90.4%)、融点83−85℃、〔α〕20 D−
18.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf2=0.80 元素分析値 C24H38O5N2として 計算値 C 66.34;H 8.81;N 6.45 分析値 C 66.52;H 8.97;N 6.44 (j) Z−Tyr−Ile−Leu−OButの調製 Z−Ile−Leu−OBut(3.05g、7ミリモル)
をメタノール(100ml)に溶かし、パラジウム
黒を加えた後、水素ガスを3時間通じて接触還
元を行なう。触媒をろ去した後溶媒を留去す
る。この残渣と、Z−Hyr−ONb(3.81g、8
ミリモル)をアセトニトリル(80ml)に溶か
し、室温に24時間放置する。溶媒を留去した
後、残渣を酢酸エチル(100ml)に溶かし、こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液、1規
定塩酸、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥す
る。酢酸エチルを留去して得られる結晶残渣
を、酢酸エチル−石油ベンジンから再結晶す
る。
18.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)、
Rf2=0.80 元素分析値 C24H38O5N2として 計算値 C 66.34;H 8.81;N 6.45 分析値 C 66.52;H 8.97;N 6.44 (j) Z−Tyr−Ile−Leu−OButの調製 Z−Ile−Leu−OBut(3.05g、7ミリモル)
をメタノール(100ml)に溶かし、パラジウム
黒を加えた後、水素ガスを3時間通じて接触還
元を行なう。触媒をろ去した後溶媒を留去す
る。この残渣と、Z−Hyr−ONb(3.81g、8
ミリモル)をアセトニトリル(80ml)に溶か
し、室温に24時間放置する。溶媒を留去した
後、残渣を酢酸エチル(100ml)に溶かし、こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液、1規
定塩酸、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥す
る。酢酸エチルを留去して得られる結晶残渣
を、酢酸エチル−石油ベンジンから再結晶す
る。
収量3.10g(74.2%)。融点142−144℃。〔α〕20 D
−22.2゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.64。
−22.2゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.64。
元素分析 C33H47O7N3として
計算値 C 66.31;H 7.93;N 7.03
分析値 C 66.12;H 7.93;N 7.05
(k) Z−Arg(MBS)−Ars(MBS)−Pro−Tyr
−Ile−Leu−OButの調製 Z−Tyr−Ile−Leu−OBut(2.09g、3.5ミ
リモル)をエタノール(50ml)に溶かし、パラ
ジウム黒を触媒として、4時間接触還元を行な
う。触媒をろ去した後、溶媒を留去して、H−
Tyr−Ile−Leu−OButを得る。
−Ile−Leu−OButの調製 Z−Tyr−Ile−Leu−OBut(2.09g、3.5ミ
リモル)をエタノール(50ml)に溶かし、パラ
ジウム黒を触媒として、4時間接触還元を行な
う。触媒をろ去した後、溶媒を留去して、H−
Tyr−Ile−Leu−OButを得る。
Z−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OBut
(3.35g、3.5g、3.5ミリモル)をトリフルオル
酢酸(20ml)に溶かし0℃で1.5時間放置す
る。トリフルオル酢酸を留去した後、残渣に冷
水(50ml)を加え、生じた油状物をクロロホル
ム−n−ブタノール(120ml−30ml)の混合溶
媒で抽出する。有機層を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去する。残渣にエー
テル(50ml)を加え、生じた粉末を取してZ
−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OHを得る
(3.15g、100%)。
(3.35g、3.5g、3.5ミリモル)をトリフルオル
酢酸(20ml)に溶かし0℃で1.5時間放置す
る。トリフルオル酢酸を留去した後、残渣に冷
水(50ml)を加え、生じた油状物をクロロホル
ム−n−ブタノール(120ml−30ml)の混合溶
媒で抽出する。有機層を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去する。残渣にエー
テル(50ml)を加え、生じた粉末を取してZ
−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OHを得る
(3.15g、100%)。
Z−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro−OH、
H−Tyr−Ile−Leu−OH及び、HONb(822
mg、4.55ミリモル)をジメチルホルムアミド
(50ml)に溶かし0℃に冷却した後、DOC
(940mg、4.55ミリモル)を加える。0℃で5時
間、室温で15時間撹拌を続けた後、ジシクロヘ
キシルウレアを去し、溶媒を留去する。残渣
を酢酸エチル−n−ブタノール(120ml−30
ml)の混合溶媒に溶かし、これを5%炭酸水素
ナトリウム水溶液、1規定塩酸及び、水で洗浄
した後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を約
10mlにまで濃縮し、ここにエーテル(100ml)
を加え、生じた沈殿を冷却後ろ取する。これを
クロロホルム−酢酸エチルから再沈殿する。
H−Tyr−Ile−Leu−OH及び、HONb(822
mg、4.55ミリモル)をジメチルホルムアミド
(50ml)に溶かし0℃に冷却した後、DOC
(940mg、4.55ミリモル)を加える。0℃で5時
間、室温で15時間撹拌を続けた後、ジシクロヘ
キシルウレアを去し、溶媒を留去する。残渣
を酢酸エチル−n−ブタノール(120ml−30
ml)の混合溶媒に溶かし、これを5%炭酸水素
ナトリウム水溶液、1規定塩酸及び、水で洗浄
した後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を約
10mlにまで濃縮し、ここにエーテル(100ml)
を加え、生じた沈殿を冷却後ろ取する。これを
クロロホルム−酢酸エチルから再沈殿する。
収量3.5g(74.5%)。融点138−141℃。〔α〕20 D
−24.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.29。
−24.5゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf2=0.29。
元素分析 C64H90O16N12S2・H2Oとして
計算値 C 56.28;H 6.79;N 12.31;
S 4.70
分析値 C 56.08;H 6.62;N 12.08;
S 4.52
(l) pGlu−Leu−Tyr−Glu−Asn−Lys−Pro−
Arg−Arg−Pro−Tyr−Ile−Leu−OH(ニユ
ーロテンシン)の合成 Z−Arg(MBS)−Arg(ABS)−Pro−Tyr
−Ile−Leu OBut(472mg、0.35ミリモル)をエ
タノール−ジメチルホルムアミド(20ml−10
ml)の混合溶媒に溶かし、パラジウム黒の存在
下、室温で7時間、水素ガスを通じ、接触還元
を行なう。触媒をろ去した後、溶媒を留去す
る。この残渣とZ−pGlu−Leu−Tyr−Glu
(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro−OH(443
mg、0.35ミリモル)及び、HONb(123mg、0.7
ミリモル)をジメチルホルムアミド(10ml)に
溶かし、0℃に冷却する。ここにDCC(144
mg、0.7ミリモル)を加え、以後0℃で5時
間、室温で24時間撹拌を続ける。析出したジシ
クロヘキシルウレアを去し、母液に酢酸エチ
ル(50ml)を加え、生じた沈殿をろ取する。こ
の粉末を熱アセトニトリル(30ml)で洗い、Z
−pGlu−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Agn−Lys
(Xys)−Pro−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro
−Tyr−Ile−Leu−OButを得る。
Arg−Arg−Pro−Tyr−Ile−Leu−OH(ニユ
ーロテンシン)の合成 Z−Arg(MBS)−Arg(ABS)−Pro−Tyr
−Ile−Leu OBut(472mg、0.35ミリモル)をエ
タノール−ジメチルホルムアミド(20ml−10
ml)の混合溶媒に溶かし、パラジウム黒の存在
下、室温で7時間、水素ガスを通じ、接触還元
を行なう。触媒をろ去した後、溶媒を留去す
る。この残渣とZ−pGlu−Leu−Tyr−Glu
(OBzl)−Asn−Lys(Xys)−Pro−OH(443
mg、0.35ミリモル)及び、HONb(123mg、0.7
ミリモル)をジメチルホルムアミド(10ml)に
溶かし、0℃に冷却する。ここにDCC(144
mg、0.7ミリモル)を加え、以後0℃で5時
間、室温で24時間撹拌を続ける。析出したジシ
クロヘキシルウレアを去し、母液に酢酸エチ
ル(50ml)を加え、生じた沈殿をろ取する。こ
の粉末を熱アセトニトリル(30ml)で洗い、Z
−pGlu−Leu−Tyr−Glu(OBzl)−Agn−Lys
(Xys)−Pro−Arg(MBS)−Arg(MBS)−Pro
−Tyr−Ile−Leu−OButを得る。
収量677mg(78.5%)。融点189−190℃。〔α〕20 D
−32.6゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf3=0.74、Rf1=0.87。
−32.6゜(C 0.5、ジメチルホルムアミド)。
Rf3=0.74、Rf1=0.87。
元素分析 C119H161O30N21U3として
計算値 C 58.05;H 6.59;N 11.95;
S 3.91
分析値 C 57.72;H 6.66;N 11.67;
S 3.66
この保護されたトリデカペプチド(482mg、
0.196ミリモル)を粉砕し、アニソール(0.25
ml)存在下、フツ化水素(7ml)で−20℃1時
間処理する。フツ化水素を留去した後、残渣を
5%酢酸水溶液(20ml)に溶かし、これをエー
テルで洗浄する(20ml、2回)。水層をアンバ
ーライトIR−410(酢酸型、2×7cm)のイオ
ン交換樹脂カラムに通し、洗液も合わせて(合
計約80ml)凍結乾燥する。得られた粉末を、少
量のn−ブタノール:酢酸:水=4:1:5の
上層溶液に溶かし、同じ混合溶媒の下層部分で
平衡させたセフアデツクスG−25のカラム
(2.5×120cm)の上端に流し込む。以後同混合
溶媒の上層溶液で展開する。流速は40ml/時間
とし、8mlずつ流出液を分取する。流出液の
320mlから400mlまでの部分を集め、溶媒を留去
した後、残渣を水(100ml)に溶かして凍結乾
燥すると純粋な目的物が羽毛状粉末として得ら
れる。
0.196ミリモル)を粉砕し、アニソール(0.25
ml)存在下、フツ化水素(7ml)で−20℃1時
間処理する。フツ化水素を留去した後、残渣を
5%酢酸水溶液(20ml)に溶かし、これをエー
テルで洗浄する(20ml、2回)。水層をアンバ
ーライトIR−410(酢酸型、2×7cm)のイオ
ン交換樹脂カラムに通し、洗液も合わせて(合
計約80ml)凍結乾燥する。得られた粉末を、少
量のn−ブタノール:酢酸:水=4:1:5の
上層溶液に溶かし、同じ混合溶媒の下層部分で
平衡させたセフアデツクスG−25のカラム
(2.5×120cm)の上端に流し込む。以後同混合
溶媒の上層溶液で展開する。流速は40ml/時間
とし、8mlずつ流出液を分取する。流出液の
320mlから400mlまでの部分を集め、溶媒を留去
した後、残渣を水(100ml)に溶かして凍結乾
燥すると純粋な目的物が羽毛状粉末として得ら
れる。
収量215mg(56%)。〔α〕19 D−100.6゜(C
0.5、1%酢酸水溶液)。Rf4(n−ブタノー
ル:ピリジン:酢酸:水=15:10:3:12)=
0.50。Rf1=0.61。
0.5、1%酢酸水溶液)。Rf4(n−ブタノー
ル:ピリジン:酢酸:水=15:10:3:12)=
0.50。Rf1=0.61。
元素分析 C78H121O20N21・3CH3COOH・5
H2Oとして
計算値 C 51.93;H 7.42;N 15.14
分析値 C 52.05;H 7.42;N 15.31
アミノ酸分析 Lys 1.00;アンモニア 0.93;
Arg 2.13;Asp 1.10;Glu 1.93;Pro
2.24;Ile 0.94;Leu 1.87;Tyr 1.90 実施例 9 Serum thymic factor(P・Glu−Ala−Lys−
Ser−Gln−Gly−Gly−Ser−Asn−OH)の製
造 BOC−Asn−樹脂3gを自動ペプチド合成機
(島津製作所、APS−800)の反応器に入れ、ジシ
クロメタンで12時間膨潤せしめ、次に示すサイク
ルで各アミノ酸を導入した。
Arg 2.13;Asp 1.10;Glu 1.93;Pro
2.24;Ile 0.94;Leu 1.87;Tyr 1.90 実施例 9 Serum thymic factor(P・Glu−Ala−Lys−
Ser−Gln−Gly−Gly−Ser−Asn−OH)の製
造 BOC−Asn−樹脂3gを自動ペプチド合成機
(島津製作所、APS−800)の反応器に入れ、ジシ
クロメタンで12時間膨潤せしめ、次に示すサイク
ルで各アミノ酸を導入した。
ジクロルメタン(3分間×3回)→50%トリフ
ルオロ酢酸/ジクロルメタン(10分間および30分
間)→ジクロルメタン(3分間×3回)→エタノ
ール(3分間×3回)→クロロホルム(5分間×
3回)→10%トリエチルアミン/クロロホルム
(10分間)→クロロホルム(3分間×3回)→ジ
クロルメタン(3分間×2回)→BOC−アミノ
酸−無水物(常法でBOC−アミノ酸とDOCより
合成、直ちに使用)(30分および60分)→アセチ
ル化(ジクロルメタン、トリエチルアミンおよび
無水酢酸使用)(10分×2回)→ジクロルメタン
(3分×3回)〔但し、BOC−GlnはBOC−Gln−
ONPで導入し、またpGlu−OHはDMF中で直接
DCCで縮合反応を行つた〕 最後に樹脂をメタノール、氷酢酸、ジメチルホ
ルムアミドで洗つて、エーテルで洗い乾燥する。
収量3.94g この樹脂3gとアニソール3mlを入れたテフロ
ン樹脂のシリンダーに弗化水素30mlを導入し、0
℃で1時間かきまぜる。直ちに弗化水素を減圧で
留去し、残留物を水100mlで2回抽出する。抽出
液をエーテル50mlで3回洗い、これをアンバーラ
イト(Amberlite)IRA−410(酢酸型)のカラム
(φ1.5cm×30cm)に通過させる。通過液を凍結乾
燥すると白色粉末190mgを得る。これを0.1規定酢
酸水にとかし、セフアデツクス(Sephadex)LH
−20のカラム(φ2×150cm)でゲルろ過し、さ
らにセフアデツクスG−26のカラム(φ2×160
cm)でゲルろ過すると目的のノナペプチド110mg
を得る。
ルオロ酢酸/ジクロルメタン(10分間および30分
間)→ジクロルメタン(3分間×3回)→エタノ
ール(3分間×3回)→クロロホルム(5分間×
3回)→10%トリエチルアミン/クロロホルム
(10分間)→クロロホルム(3分間×3回)→ジ
クロルメタン(3分間×2回)→BOC−アミノ
酸−無水物(常法でBOC−アミノ酸とDOCより
合成、直ちに使用)(30分および60分)→アセチ
ル化(ジクロルメタン、トリエチルアミンおよび
無水酢酸使用)(10分×2回)→ジクロルメタン
(3分×3回)〔但し、BOC−GlnはBOC−Gln−
ONPで導入し、またpGlu−OHはDMF中で直接
DCCで縮合反応を行つた〕 最後に樹脂をメタノール、氷酢酸、ジメチルホ
ルムアミドで洗つて、エーテルで洗い乾燥する。
収量3.94g この樹脂3gとアニソール3mlを入れたテフロ
ン樹脂のシリンダーに弗化水素30mlを導入し、0
℃で1時間かきまぜる。直ちに弗化水素を減圧で
留去し、残留物を水100mlで2回抽出する。抽出
液をエーテル50mlで3回洗い、これをアンバーラ
イト(Amberlite)IRA−410(酢酸型)のカラム
(φ1.5cm×30cm)に通過させる。通過液を凍結乾
燥すると白色粉末190mgを得る。これを0.1規定酢
酸水にとかし、セフアデツクス(Sephadex)LH
−20のカラム(φ2×150cm)でゲルろ過し、さ
らにセフアデツクスG−26のカラム(φ2×160
cm)でゲルろ過すると目的のノナペプチド110mg
を得る。
アミノ酸分析(5.7規定・塩酸加水分解):Lys
1.05、Asp 0.56、Glu 2.08;Ser 1.87、Gly
1.92、Ala 1.00(回収率86%) 実施例 10 N〓−p−メチルベンジルスルホニル−DL−
α・β−ジアミノプロピオン酸の合成 DL−α・β−ジアミノプロピオン酸・塩酸塩
(140mg)を1規定水酸化ナトリウム水溶液(3
ml)に溶かし、塩基性炭酸銅(180mg)を加え
る。室温で2時間撹拌したのち、不溶物を去す
る。液にジオキサン(5ml)を加え、氷冷す
る。激しく撹拌しつつ p−メチルベンジルスル
ホニルクロリド(408mg)をジオキサン(3ml)
に溶かした溶液を少しづつ加える。途中1規定水
酸化ナトリウム水溶液を追加し、PH10以上の液性
を保つ。加え終つた後、室温でさらに3時間撹拌
を続ける。ジオキサンを留去し、残留水溶液に濃
硫酸を加えてPH2としたのち、硫化水素ガスを吹
き込む。析出した硫化ナトリウムを去し、液
をアンバーライトIR−120(H+型)のイオン交換
樹脂のカラム(1×5cm)に流す。カラムを水
(20ml)で洗つた後、1規定ピリジン水溶液(20
ml)を流し目的物を溶出する。ピリジン水溶液を
約5mlにまで濃縮し、析出した結晶を取する。
これを熱水から再結晶する。収量37mg(13.6
%)、融点235℃(分解)、Rf1=0.62 元素分析 C11H16O4N2Sとして 計算値 :C、48.51:H、5.92: N、10.29:S、11.78 分析値 :C、48.11:H、5.80: N、10.14:S、11.65 実施例 11 (1) PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly樹脂の製造 BOC−Gly−樹脂6.0gを自動ペプチド合成機
(島津製作所、APS−800)の反応器に入れ、ジク
ロルメタンで12時間膨潤せしめ、実施例9に示し
たサイクルで各アミノ酸を導入する。GlnとPGlu
についても、実施例9と同様に行う。最後に樹脂
をメタノール、氷酢酸、ジメチルホルムアミドで
洗つて、エーテルで洗い乾燥する。収量7.0g (2) PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
GLy−Gly−NHNH2の製造 PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly−樹脂3.6gをジメチルホルムアミド
18mlに懸濁し、抱水ヒドラジン2mlを加え、室
温で48時間ゆるやかにかきまぜる。樹脂をろ去
してろ液を減圧留去し、残留物にエーテルを加
え粉末としてろ取する。収量476mg これを酢酸エチル:ピリジン:酢酸:水
30:10:1:5の溶媒で充填したシリカゲルカ
ラム(2.7×3cm)の上端に流しこみ、以後同
じ溶媒で溶出して70〜80mlの分画を集める。溶
媒を留去して残留物にエーテルを加えて粉末と
しろ取する。収量168mg、融点196−199℃、Rf3
=0.16、Rf1=0.51 5、7規定塩酸加水分解物のアミノ酸分析値
Lys 0.96、Ser 0.92、Glu 2.02、Gly 1.94、
Ala 1.0、平均回収率 76.6% (3) シアラム サイミツク フアクター(Serum
thymic factor)(PGlu−Ala−Lys−Ser−Gln
−Gly−Gly−Ser−Asn−OH)の製造 PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly−NHNH2140mgをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶解し、−70℃に冷却して、6、5、
1規定 塩酸−ジオキサン0.05mlとイソアミナ
イトリル0.02mlを加え、−30℃で35分かきま
ぜ、再び−70℃に冷却して、トリエチルアミン
0.05mlを加える。さらにZ−Ser−Asn−
OBut123mgを還元して得たHCl−H−Ser−Asn
−OButをジメチルホルムアミド2mlに溶かし
て加え、次にトリエチルアミン0.05mlを加え−
15℃〜5℃で30時間かきまぜる。不溶物をろ去
し、ろ液を減圧留去して残留物にエーテルを加
え粉末としてろ取する。この粉末とアニソール
を入れたテフロン樹脂のシリンダーに弗化水素
5mlを導入し、0℃で1時間かきまぜる。直ち
に弗化水素を減圧で留去し、残留物を水10mlで
2回抽出する。抽出液をエーテル3mlで3回洗
い、これをアンバーライト(Amberlite)IRA
−410(酢酸型)のカラム(1.5×10cm)に通
し、通過液を凍結乾燥して白色粉末170mgを得
る。これをセフアデツクス(Sepha−dex)LX
−20のカラム(2.2×119cm)でゲルろ過し、
176〜188mlの流出液を集めて凍結乾燥し、目的
のノナペプチド23mgを得る。〔α〕27 D−65.6゜
(C 0.5、水)、Rf4(セルロース)=0.19、PH
6.5、600V電気泳動値 0.17×Arg(Argの泳動
5.4cm)5.7規定 塩酸加水分解物のアミノ酸分
析値 Lys 1.10、Asp 1.03、Ser 1.86、Glu
2.05、Gly 2.0、Ala 1.0、平均回収率 71.3%
1.05、Asp 0.56、Glu 2.08;Ser 1.87、Gly
1.92、Ala 1.00(回収率86%) 実施例 10 N〓−p−メチルベンジルスルホニル−DL−
α・β−ジアミノプロピオン酸の合成 DL−α・β−ジアミノプロピオン酸・塩酸塩
(140mg)を1規定水酸化ナトリウム水溶液(3
ml)に溶かし、塩基性炭酸銅(180mg)を加え
る。室温で2時間撹拌したのち、不溶物を去す
る。液にジオキサン(5ml)を加え、氷冷す
る。激しく撹拌しつつ p−メチルベンジルスル
ホニルクロリド(408mg)をジオキサン(3ml)
に溶かした溶液を少しづつ加える。途中1規定水
酸化ナトリウム水溶液を追加し、PH10以上の液性
を保つ。加え終つた後、室温でさらに3時間撹拌
を続ける。ジオキサンを留去し、残留水溶液に濃
硫酸を加えてPH2としたのち、硫化水素ガスを吹
き込む。析出した硫化ナトリウムを去し、液
をアンバーライトIR−120(H+型)のイオン交換
樹脂のカラム(1×5cm)に流す。カラムを水
(20ml)で洗つた後、1規定ピリジン水溶液(20
ml)を流し目的物を溶出する。ピリジン水溶液を
約5mlにまで濃縮し、析出した結晶を取する。
これを熱水から再結晶する。収量37mg(13.6
%)、融点235℃(分解)、Rf1=0.62 元素分析 C11H16O4N2Sとして 計算値 :C、48.51:H、5.92: N、10.29:S、11.78 分析値 :C、48.11:H、5.80: N、10.14:S、11.65 実施例 11 (1) PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly樹脂の製造 BOC−Gly−樹脂6.0gを自動ペプチド合成機
(島津製作所、APS−800)の反応器に入れ、ジク
ロルメタンで12時間膨潤せしめ、実施例9に示し
たサイクルで各アミノ酸を導入する。GlnとPGlu
についても、実施例9と同様に行う。最後に樹脂
をメタノール、氷酢酸、ジメチルホルムアミドで
洗つて、エーテルで洗い乾燥する。収量7.0g (2) PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
GLy−Gly−NHNH2の製造 PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly−樹脂3.6gをジメチルホルムアミド
18mlに懸濁し、抱水ヒドラジン2mlを加え、室
温で48時間ゆるやかにかきまぜる。樹脂をろ去
してろ液を減圧留去し、残留物にエーテルを加
え粉末としてろ取する。収量476mg これを酢酸エチル:ピリジン:酢酸:水
30:10:1:5の溶媒で充填したシリカゲルカ
ラム(2.7×3cm)の上端に流しこみ、以後同
じ溶媒で溶出して70〜80mlの分画を集める。溶
媒を留去して残留物にエーテルを加えて粉末と
しろ取する。収量168mg、融点196−199℃、Rf3
=0.16、Rf1=0.51 5、7規定塩酸加水分解物のアミノ酸分析値
Lys 0.96、Ser 0.92、Glu 2.02、Gly 1.94、
Ala 1.0、平均回収率 76.6% (3) シアラム サイミツク フアクター(Serum
thymic factor)(PGlu−Ala−Lys−Ser−Gln
−Gly−Gly−Ser−Asn−OH)の製造 PGlu−Ala−Lys(Xys)−Ser(Bzl)−Gln−
Gly−Gly−NHNH2140mgをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶解し、−70℃に冷却して、6、5、
1規定 塩酸−ジオキサン0.05mlとイソアミナ
イトリル0.02mlを加え、−30℃で35分かきま
ぜ、再び−70℃に冷却して、トリエチルアミン
0.05mlを加える。さらにZ−Ser−Asn−
OBut123mgを還元して得たHCl−H−Ser−Asn
−OButをジメチルホルムアミド2mlに溶かし
て加え、次にトリエチルアミン0.05mlを加え−
15℃〜5℃で30時間かきまぜる。不溶物をろ去
し、ろ液を減圧留去して残留物にエーテルを加
え粉末としてろ取する。この粉末とアニソール
を入れたテフロン樹脂のシリンダーに弗化水素
5mlを導入し、0℃で1時間かきまぜる。直ち
に弗化水素を減圧で留去し、残留物を水10mlで
2回抽出する。抽出液をエーテル3mlで3回洗
い、これをアンバーライト(Amberlite)IRA
−410(酢酸型)のカラム(1.5×10cm)に通
し、通過液を凍結乾燥して白色粉末170mgを得
る。これをセフアデツクス(Sepha−dex)LX
−20のカラム(2.2×119cm)でゲルろ過し、
176〜188mlの流出液を集めて凍結乾燥し、目的
のノナペプチド23mgを得る。〔α〕27 D−65.6゜
(C 0.5、水)、Rf4(セルロース)=0.19、PH
6.5、600V電気泳動値 0.17×Arg(Argの泳動
5.4cm)5.7規定 塩酸加水分解物のアミノ酸分
析値 Lys 1.10、Asp 1.03、Ser 1.86、Glu
2.05、Gly 2.0、Ala 1.0、平均回収率 71.3%
Claims (1)
- 1 ω−アミノ基を有する炭素数が6までの直鎖
状アミノ酸を含有するペプチドの製造にあたり、
該ω−アミノ基含有原料化合物のω−アミノ基を
p−メチルベンジルスルホニルで保護して、ペプ
チド縮合した後保護基を弗化水素で脱離せしめる
ことを特徴とするペプチドの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4703077A JPS53132539A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Protected amino acid or peptide having said protected amino acid residue |
| US05/897,640 US4159979A (en) | 1977-04-22 | 1978-04-18 | Protected amino acids or peptides |
| DE19782817208 DE2817208A1 (de) | 1977-04-22 | 1978-04-20 | Geschuetzte aminosaeuren oder peptide |
| FR7811765A FR2387943A1 (fr) | 1977-04-22 | 1978-04-20 | Nouveaux groupes protecteurs pour proteger les groupes o-amino des acides amines et des peptides et acides amines et peptides ainsi proteges |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4703077A JPS53132539A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Protected amino acid or peptide having said protected amino acid residue |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53132539A JPS53132539A (en) | 1978-11-18 |
| JPS6134439B2 true JPS6134439B2 (ja) | 1986-08-07 |
Family
ID=12763774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4703077A Granted JPS53132539A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Protected amino acid or peptide having said protected amino acid residue |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS53132539A (ja) |
| DE (1) | DE2817208A1 (ja) |
| FR (1) | FR2387943A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
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| SE9401079L (sv) * | 1994-03-30 | 1995-10-01 | Anders Unden | Nya derivat av asparaginsyra och glutaminsyra som är skyddade på sidokedjans karboxylsyragrupp form av estrar som försvårar aspartimidbildning vid fastfassyntes av peptider |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1977
- 1977-04-22 JP JP4703077A patent/JPS53132539A/ja active Granted
-
1978
- 1978-04-18 US US05/897,640 patent/US4159979A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-04-20 DE DE19782817208 patent/DE2817208A1/de not_active Withdrawn
- 1978-04-20 FR FR7811765A patent/FR2387943A1/fr not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4159979A (en) | 1979-07-03 |
| DE2817208A1 (de) | 1978-11-02 |
| FR2387943A1 (fr) | 1978-11-17 |
| JPS53132539A (en) | 1978-11-18 |
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