JPH0210146B2

JPH0210146B2 -

Info

Publication number: JPH0210146B2
Application number: JP63285562A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Fujino; Tadashi Nishimura
Original assignee: Takeda Chemical Industries Ltd
Current assignee: Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1988-11-10
Filing date: 1988-11-10
Publication date: 1990-03-06
Also published as: JPH01151550A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、ペプチド製造に有用なアルギニン誘
導体またはその塩に関する。グアニジノ基

【式】を含有する原料化合物（例えばアルギニンなど）を用いてペプチ
ドを製造するためには、グアニジノ基を保護して
おく必要がある。グアニジノ基の保護は、従来、
ニトロ基またはトシル基を導入することにより行
なわれてきた。これらの従来法においては、保護基を脱離する
際の収率が低く、また、トシル基を脱離させるに
は、液体アンモニア―金属ナトリウムあるいは無
水弗化水素などを用い強い条件で行なわなければ
ならないのでペプチドの他の部分が分離し副生物
が生じ、目的とするペプチドの収率の低下をきた
す等の欠点があつた。本発明者らは、これら欠点を解消する方法とし
て先にグアニジノ基の保護基として、メタンスル
フオン酸で容易に除去できるｐ―メトキベンゼン
スルフオニル，メジチレンスルフオニル基等を利
用する方法（特開昭51―100030）を紹介し、実用
に供した。その後も、本発明者らはグアニジノ基
の保護について研究をつづけたところ、グアニジ
ノ基の保護基として、４―メトキシ―２，３，６
―トリメチルベンゼンスルフオニル基が、さらに
緩和な酸処理によつて、該保護基を脱離できるこ
とを見い出し、ペプチド製造に有用な本発明のア
ルギニン誘導体を完成した。すなわち本発明は、一般式（）（式中、ＲはＨまたはα―アミノ基の保護基を表
わす）で示されるアルギニン誘導体およびその塩
である。本発明において、アルギニンのグアニジノ基に
４―メトキシ―２，３，６―トリメチルベンゼン
スルフオニル基を導入するに際しては、アルギニ
ンはそのα―アミノ基を保護して反応に供せられ
る。このα―アミノ基の保護は、従来から公知の
保護基、例えば一般式（）におけるＲで示され
る保護基としてカルボベンゾキシ基、ｐ―ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基、ｐ―メトキシベン
ジルオキシカルボニル基、ｔ―ブトキシカルボニ
ル基、ｔ―アミロキシカルボニル基、９―フルオ
レニルメトキシカルボニル基、イソニコチニルオ
キシカルボニル基、Ｏ―ニトロフエニルスルフエ
ニル基、２―（ｐ―ビフエニル）―イソピロピル
オキシカルボニル基を常法により導入したものが
あげられ、特にアルギニンをカルボベンゾキシ
基、ｔ―ブトキシカルボニル基で保護したものが
有利に用いられる。次に、α―アミノ基が保護されたアルギニンの
グアニジノ基に４―メトキシ―２，３，６―トリ
メチルベンゼンスルフオニル基を反応させる。こ
の反応はアルギニンに４―メトキシ―２，３，６
―トリメチルベンゼンスルフオン酸基をアルギニ
ン１当量に対し約１〜５当量、さらに好ましくは
約１〜２当量になるように反応させるのがよい。
４―メトキシ―２，３，６―トリメチルベンゼン
スルフオン酸基は、通常そのハロゲニド形で反応
に供せられる。ハロゲニドとしては、クロリド，
フルオリド，ブロミド，ヨージドのいずれも使用
できる。４―メトキシ―２，３，６―トリメチル
ベンゼンスルフオニルクロリドは、２，３，５―
トリメチルアニソールに、クロルスルフオン酸を
反応させることにより異性体を、生成することな
く、結晶として得ることができる。４―メチル―
２，３，６―トリメチルベンゼンスルフオニル基
の導入は、塩基の存在下に行うのが好ましい。塩基としては、たとえば水酸化ナトリウム，水
酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられ、
アルギニン１当量に対し約１〜10当量、さらに好
ましくは約１〜５当量用いられれる。該反応は、
通常適当な溶媒たとえば、水，アセトン，ジオキ
サン，ジメチルホルムアミド，テトラヒドロフラ
ン，あるいはそれらの混合溶媒中などで行うのが
よい。該反応は、−10℃乃至25℃、好ましくは−
５℃乃至10℃で行なわれる。このようにして得られる４―メトキシ―２，
３，６―トリメチルベンゼンスルフオニル基でグ
アニジノ基を保護されたアルギニンは、遊離のま
まあるいは常法に従つてシクロヘキシルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、ナトリウムなどの塩と
してペプチド縮合に供せられる。このようにして得られる一般式（）の化合物
は常套手段によりペプチド縮合反応に供し得る。
この常套手段としては、例えばM.Bodansky及び
M.A.Ondetti著，ペプチド・シンセシス
（Peptide Synthesis），Inter science，New
York，1966年；F.M.Finn及びK.Hofmann著
ザ・プロテインズ（The Proteins），第２巻，H.
Nenrath，R.L.Hill編集，Academic Press Inc.
New York，1976年；泉屋信夫他著“ペプチド
合成”丸善(株)1975年などに記載された方法、たと
えばアジド法，クロライド法，酸無水物法，混酸
無水物法，DCC法，活性エステル法，ウツドワ
ード試薬Ｋを用いる方法，カルボジイミダゾール
法，酸化還元法，DCC／HONB法などが挙げら
れる。次に、ペプチド縮合後、本発明の保護基を酸に
よつて脱離させる。この脱離方法としては、無水
弗化水素法、メタンスルフオン酸法、トリフルオ
ロメタンスルフオン酸法等の公知の酸処理方法が
適用できる。さらに、本発明方法の場合には、新
しい酸処理方法としてトリフルオロ酢酸が有利に
使用でき、特にチオアニソールまたはアニソール
の存在下でトリフルオロ酢酸を用いると脱離反応
が非常に有利に進行する。上記のトリフルオロ酢酸およびチオアニソー
ル，アニソールは溶媒をかね保護基を脱離しうる
に十分な量を用いればよい。たとえば、保護され
たグアニジノ基を有する化合物１当量に対し１〜
10⁵当量、さらに好ましくは１〜10³当量用いら
れ、脱離反応は、酢酸，クロロホルム，メチレン
クロリドなどの溶媒中で行つてもよく、また温度
は−10℃乃至300℃程度、さらに好ましくは10℃
乃至100℃程度で行なわれる。一般式（）のアルギニン誘導体は、アルギニ
ンを有するいかなるペプチドの製造にも適用でき
る。具体的な例としては、Des―Gly¹⁰［Ｄ―
Leu⁶］―LH―RH―ethylamide（特公昭53―
14072参照），Des―Gly¹⁰―LH―RH―
ethylamide（特公昭53―24423参照），Tuftsin
［Nature，228，672（1970）参照］，Substance
Ｐ，Kyotorphinなどの生理活性ペプチドを有利
に製造できる。その他のペプチドとして、MSH，
ACTH，Gluagon Secretin Bradykinin，
Dynorphin，α―Neoendorphinおよびそれらの
活性断片なども有利に製造できる。４―メトキシ―２，３，６―トリメチルベンゼ
ンスルフオニル基は、従来行なわれていた酸処理
によるグアニジノ保護基の脱離方法はもちろんの
こと、さらに緩和な条件下でも容易に脱離され
る。例えば、トリフルオロ酢酸のような緩和な酸
処理は、従来知られたグアニジノ保護基の脱離に
は適用することができないが、４―メトキシ―
２，３，６―トリメチルベンゼンスルフオニル基
で保護した場合はよく脱離が進行し充分に適用で
きる。ところで、従来の方法により、ｐ―メトキ
シベンゼンスルフオニル基、メジチレンスルフオ
ニル基でグアニジノ基を保護しペプチド縮合後、
メタンスルフオン酸を用いて保護基を脱離する場
合、そのペプチド中に、アスパラギンやアスパラ
ギン酸残基を含有する場合には、サクシンイミド
型の副反応が生ずることがあり、またセリンやス
レオニン残基が存在するとＮ→Ｏアシル転位が起
る。本発明方法の場合、これらのアミノ酸残基を
含むペプチドであつてもトリフルオロ酢酸のよう
な緩和な酸を用いることにより上記のような副反
応が起こることなく脱離することができる。次に、本発明を実施例、試験例および参考例を
挙げてさらに説明する。なお、本明細書において
は４―メトキシ―２，３，６―トリメチルベンゼ
ンスルフオニル基をMtrと略記することがあり、
またアミノ酸、ペプチド、保護基、活性基等に関
し、IUPAC―IUB commission on Biological
Nomenclatureに基づく略号あるいは当該分野に
おける慣用略号で表示する場合がある。それらを
例示する。 pGIu：ピログルタミン酸；His：ヒスチジン；
Trp：トリプトフアン；Ser：セリン；Tyr：チ
ロシン；Leu：ロイシン；Gly：グリシン；
Arg：アルギニン；Pro：プロリン；Lys：リジ
ン；Gl_N：グルタミン；Phe：フエニルアラニ
ン；Met：メチオニン；Thr：スレオニン（以上
特に表示のない場合はアミノ酸はＬ体をさすもの
とし、Ｄ体はその旨明記する。但しGlyを除
く）；Ｚ：カルボベンゾキシ；Boc：ｔ―ブトキ
シカルボニル；Et：エチル；HONBおよび
ONB：Ｎ―ハイドロキシ―５―ノルボルネン―
２，３―ジカルボキシイミドおよびそのエステ
ル；HOBt：Ｎ―ハイドロキシベンツトリアゾー
ル；DCC：Ｎ，N′ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド；H₂／Pd：接触還元；TFA：トリフルオロ
酢酸；CHA：シクロヘキシルアミン；OTCP：
２，４，５―トリクロロフエニルエステル；
OSu：Ｎ―ハイドロキシスクシンイミドエステ
ル。実施例１ (1) ２，３，６―トリメチルアニソールの合成２，３，５―トリメチルフエノール10ｇ，沃
化メチル10.4mlをジメチルスルフオキシド
100mlにとかし、永冷し、これに、60％油性水
素化ナトリウム5.6ｇを加え、10時間かきまぜ
る。これに水を加えたのち、エーテルで抽出
し、エーテル層は水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。溶媒を留去すると、油状物を得
る。収量12.9ｇ（定量的）。 (2) ４―メトキシ―２，３，６―トリメチルベン
ゼンスルフオニルクロリドの合成２，３，５―トリメチルアニソール4.5ｇを、
塩化メチレン500mlにとかし、−5゜〜−10℃に冷却
したのち、クロルスルフオン酸6.0mlを含む塩化
メチレン溶液400mlを滴下する。その後、室温に
までもどし、５％炭酸水素ナトリウム水を含む氷
上にあける。塩化メチレン層は水洗したのち、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した
のち、ｎ―ヘキサンより結晶として、ろ取する。
収量5.0ｇ（67.0％）。融点 56―58℃ 元素分析 C₁₀H₁₃O₃SClとして計算値：Ｃ，48.29；Ｈ，5.27；Ｓ，12.89；
Cl，14.26 実験値：Ｃ，48.42；Ｈ，5.21；Ｓ，12.61；
Cl，14.25 (3) Ｚ―Arg（Mtr）OH・CHAの合成Ｚ―Arg OH2.83ｇを4N―酸化ナトリウム
水10ml，アセトン40mlの混合液にとかし、氷冷
する。これに４―メトキシ―２，３，６―トリ
メチルベンゼンスルフオニルクロリド4.0ｇを
含むアセトン溶液10mlを加え、３時間かきまぜ
る。クエン酸酸性として、アセトンを留去し、
酢酸エチルで抽出する。溶媒を留去すると、油
状物4.8ｇを得るので、これを少量の酢酸エチ
ルにとかしシクロヘキシルアミン1.04mlを加え
て結晶としてろ取し、MeOH―酢酸エチルよ
り再結晶する。収量4.10ｇ（72.1％）。融点 195―197℃ ［α］²³ _D＋6.5゜（Ｃ＝1.18，MeOH）元素分析 C₃₀H₄₅O₇N₅Sとして計算値：Ｃ，58.14；Ｈ，7.32：Ｎ，11.30；
Ｓ，5.17 実験値：Ｃ，58.08；Ｈ，7.34；Ｎ，11.58；
Ｓ，5.32 (4) Ｈ―Arg（Mtr）―OHの合成Ｚ―Arg（Mtr）―OH・CHA1.5ｇを酢酸エ
チル30mlにケンダクし、これに0.2N―
H₂SO₄15mlを加えてよく振りまぜ水洗する。
溶媒を留去したのち、残留物をメタノールにと
かしPd黒を触媒として接触還元を行なう。触
媒をろ去し、溶媒を留去し、残留物に水を加え
ると、結晶化するので、これをろ取する。収量
0.77ｇ（81％）。融点 100−103℃ ［α］²³ _D−4.8゜（Ｃ＝1.30，MeOH）元素分析 C₁₆H₂₆O₅N₄S・１／2H₂Oとして計算値：Ｃ，48.59；Ｈ，6.88；Ｎ，14.18；
Ｓ，8.11 実験値：Ｃ，48.78；Ｈ，7.16：Ｎ，13.88；
Ｓ，8.29 試験例Ｈ―Arg（Mtr）―OH約20mgをトリフルオロ酢
酸―チオアニソール（９：１）２mlにとかし、表
１に示すような各条件で放置したのち、その
100μlをとり、全体を10mlに秤量し、アミノ酸分
析を行ない、生成アルギニンの量を測定した。結果を表１に示した。

【表】この結果、Mtr基は、TFA―チオニソール系
では23℃で約１時間でも充分切断可能である。参考例１ (1) Boc―Tyr―Arg（Mtr）―OH Ｈ―Arg（Mtr）―OH0.80ｇをテトラヒドロ
フラン20mlにとかし、冷時、トリエチルアミン
0.34ml，Boc―Tyr―ONB（Boc―Tyr―
OH0.57ｇ，HONB0.40ｇ，DCC0.50ｇより調
製）を加えて室温で15時間かきまぜる。溶媒を
留去したのち、クエン酸で酸性として、酢酸エ
チルで抽出する。酢酸エチル層を水洗したのち
溶媒を留去し、クロロホルムにとかしてシリカ
ゲルカラム（４×６cm）に付す。５％
MeOH／CHCl₃で溶出し、目的物の画分を集
め、濃縮しエーテルより粉末としてろ取する。
収量0.67ｇ（51.5％）。融点 114−121℃ ［α］²³ _D＋1.2゜（Ｃ＝0.4，ジメチルホルムアミ
ド）元素分析 C₃₀H₄₃O₉N₅として計算値：Ｃ，55.45；Ｈ，6.67；Ｎ，10.78；
Ｓ，4.94 実験値：Ｃ，55.12；Ｈ，6.83；Ｎ，10.53；
Ｓ，4.54 (2) Ｈ―Tyr―Arg―OH（Kyotorphin）の合成 Boc―Tyr―Arg（Mtr）OH400mgをトリフル
オロ酢酸―チオアニソール（９：１）５mlにと
かし、室温で２時間放置する。トリフルオロ酢
酸を減圧で留去したのち、残留物にエーテルを
加えて、生ずる沈澱をろ取する。これを少量の
水にとかし、アンバーライトIRA―410（酢酸
型）のカラム（１×10cm）を通したのち凍結乾
燥する。これを少量の水にとかし、カルボキシ
メチルセルロースのカラム（2.2×８cm）に付
したのち、水（300ml）と0.1M酢酸アンモニウ
ム（300ml）の間で直線勾配をかけて溶出を行
なう。100〜150mlの画分を集めて、凍結乾燥を
行なう。収量175mg。［α］²¹ _D−17.4゜（Ｃ＝0.5，H₂O）アミノ酸分解（酸分解）：Arg1.00(1)；
Tyr0.94 (1) 平均回収率86.5％。参考例２ (1) Ｚ―Arg（Mtr）―Pro―Lys（Boc）―Pro―
OHの合成Ｈ―Pro―OMeにＺ―Lys（Boc）―ONBと
Ｚ―Pro―ONBを順次縮合することにより合
成した油状のＺ―Pro―Lys（Boc）―Pro―
OMe0.59ｇをメタノール30mlにとかし、パラ
ジウム黒を触媒として、接触還元を行なう。触
媒をろ別し、ろ液を濃縮したのち、残留物をジ
メチルホルムアミド10mlにとかし、これにＺ―
Arg（Mtr）OH・［Ｚ―Arg（Mtr）・OH・
CHA0.56ｇより調製］，HOBt0.15ｇ，
DOC0.23ｇを加え室温で15時間かきまぜる。生
じたDCUをろ去し、溶媒を留去したのち、残
留物を酢酸エチルにとかし、重曹水，0.2N塩
酸で洗浄する。乾燥後、溶媒を留去し、残留す
る油状物［Ｚ―Arg（Mtr）―Pro―Lys（Boc）
―Pro OMe］を10mlのメタノールに溶解する。
冷時２mlの1N―水酸酸化ナトリウム水を加え、
室温で２時間ケン化を行なう。1N―塩酸２ml
を冷時加えて中和し、メタノールを留去したの
ち、析出した油状物を酢酸エチルで抽出する。
溶媒を留去したのち、油油ベンジンを加えて粉
末としてろ取し、酢酸エチル―エーテルより再
沃澱する。取量610mg（66.1％），融点90−95
℃。［α］²³ _D−32.7゜（Ｃ＝0.6，ジメチルホルムア
ミド）元素分析 C₄₃H₇₀O₁₂N₈Sとして計算値：Ｃ，55.94；Ｈ，7.64；Ｎ，12.14；
Ｓ，3.47 実験値：Ｃ，55.62；Ｈ，7.56；Ｎ，11.98；
Ｓ，3.19 (2) Ｈ―Mrg―Pro―Lys―Pro―Gl_N―Gl_N―Phe
―Gly―Leu―Met―NH₂（Substance Ｐ）の
合成 Boc―Gl_N―Gl_N―Phe―Phe―Gly―Leu―
Met―NH₂0.49ｇをトリフルオロ酢酸（4.5ml）
―水（0.5ml）の混液にとかし、10℃で20分間
ふりまぜる。0.5mlの1N―塩酸を加えて留去
し、残留物にエーテルを加えて粉末としてろ取
し乾燥する。これをジメチルホルムアミド15ml
にとかし、冷時トリエチルアミン0.1mlを加え、
さらにＺ―Arg（Mtr）―Pro―Lys（BoC）―
Pro―OH0.45ｇ，HONB0.18ｇ，DCC0.20ｇを
加えそのまゝ24時間かきまぜる。生成した
DCUをろ去し、ろ液を濃縮する。残留物は水
を加え、生じた沈でんをろ取する。この100mg
をとり、トリフルオロ酢酸―チオアニソール
（９：１）１mlにとかし、50℃で１時間振りま
ぜたのちトリフルオロ酢酸を減圧で留去し、残
留物にエーテルを加えて、生ずる沈でんをろ取
し、乾燥する。これを少量の水にとかし、アン
バーライト―IRA―410（酢酸型）のカラム（１
×10cm）を通したのち凍結乾燥する。これをセ
フアデツクスＧ―25のカラム（2.5×120cm）に
付し、30％酢酸水で溶出する。主要溶出画分
（230〜260ml）を集めて、凍結乾燥する。収量
58mg。［α］²³ _D−78.8゜（Ｃ＝0.5，５％酢酸）アミノ酸分析（酸分解）：Lys1.00(1)；
Arg1.04(1)；Glu2.05(2)；Pro2.20(2)；Gly0.91
(1)；Met0.89(1)；Leu1.05(1)；Phe1.89(2)，平均
回収率82.3％。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式（式中、Ｒは水素またはα―アミノ基の保護基を
表わす）で示されるアルギニン誘導体およびその
塩。