JPS6132661B2 - - Google Patents

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JPS6132661B2
JPS6132661B2 JP56108067A JP10806781A JPS6132661B2 JP S6132661 B2 JPS6132661 B2 JP S6132661B2 JP 56108067 A JP56108067 A JP 56108067A JP 10806781 A JP10806781 A JP 10806781A JP S6132661 B2 JPS6132661 B2 JP S6132661B2
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JP
Japan
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halftone
photopolymerizable layer
image
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Application number
JP56108067A
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English (en)
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JPS5762048A (en
Inventor
Danieru Buratsuto Maachin
Baanaado Kooen Aburahamu
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS5762048A publication Critical patent/JPS5762048A/ja
Publication of JPS6132661B2 publication Critical patent/JPS6132661B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00Screening processes; Screens therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明はコピー調製およびその関連目的に対
して有用な新規な網点蝕刻可能な画像含有マスク
の製造に使用することのできる新規な光重合性エ
レメントに関する。このマスクは別の光感受性エ
レメントを活性線照射で画像的に露光する際に使
用される。 光反応機構的技術においては活性線照射に対し
て不透明の画像を含有するマスクがある種の印刷
用プレートの製造に使用されており、凸版あるい
は平版のいずれであるにせよ製造方法はほとんど
同じである。金属(または場合により、プラスチ
ツク)プレートは光感受性レジスト形成性物質で
被覆され、マスクを通して活性線に露光される。
露光後、前記プレートは未露光物質を除去する溶
媒で処理されレジスト画像が残る。このレジスト
画像は金属プレートのレジスト被覆部分を前記プ
レートの蝕刻に使用される酸(凸版方法の場合)
あるいは平版法の場合に使用される各種の親水性
被覆から保護するものである。 この目的に対してはマスク中の画像は可能な最
高のコントラストを有し、例えば画像部分におけ
る完全に不透明な黒色部分と未露光部分における
完全な透明部分(かぶり不含)を示さなければな
らない。前記のようなマスク用としては「リン」
フイルム(あるいは「リス」を含む各種の商品名
がある)として公知のフイルムが使用される。こ
のようなフイルムは通常高濃度および高コントラ
ストの極めてシヤープな画像を生成するハロゲン
化銀乳剤であり、グラフイツク技術において線お
よびスクリーン画像形成において使用され、さら
に数種の写真植字系において使用される。リスフ
イルムの示性曲線は急角度に上昇する直線部分お
よび非常に短い立上り部分を有する。 リソフイルムがハーフトーン(中間調)スクリ
ーンを通して露光されそして現像されると、網点
からなる画像が含まれる。これらの網点は前記ハ
ーフトーンスクリーンの透明部分の下のフイルム
部分に相当し、露光現像された物質からなつてい
る。ハロゲン化銀リソフイルムにおいては、前記
の網点は「網点蝕刻」によつてその大きさが減少
されることができる。網点蝕刻はハーフトーン網
点を小さくするか、あるいはハーフトーン網点を
蝕刻して画像のトーン値を変えるものである。ハ
ロゲン化銀フイルムにおいてはフイルムを銀用
「溶媒」で処理することによつて化学的になされ
る。この方法はトーン値または色強度が印刷用プ
レート上においてよりもむしろ写真段階中に変え
られなければならない場合の平版印刷において用
いられる。その重要性は原色版修正作業において
さらに具体化される。 原色版作業が平版印刷業者の日常業務の一部で
ある場合には、原色を原画中に明確に再生するた
めにはある種の量の修正がしばしば必要である。
代表的な方法では3枚または4枚の色分解陰画の
セツト(組)を調製することが必要であり、これ
らの陰画からハーフトーン陽画のセツトが調製さ
れる。以上の操作はいずれもカラーカメラマンに
よつて行なわれ、その後の段階で前記ハーフトー
ン陽画は網点蝕刻技術者に渡されて修正が行なわ
れる。 網点蝕刻技術者はハーフトーン陽画網点を化学
的に処理して選択された部分の網点サイズを小さ
くする。ある点においては、網点蝕刻技術者は自
分が行なつた作業が複製において必要な色修正を
生成するであろうということを確認させられる。
次に彼はプレートを製造するために前記の修正さ
れた陽画を別の技術者に渡し、前記陽画から密着
用ハーフトーン陰画が調製される。この工程はし
ばしば密着焼付け技術者によつて行なわれる。場
合により、深い蝕刻プレートが要求されるなら
ば、密着焼付け技術者は最初に密着ハーフトーン
陰画を調製し、次にこの陰画から密着ハーフトー
ン陽画を調製するであろう。この一見二重のよう
にみえる作業を行なう理由はプレート調製露光に
対して充分な光学濃度の網点を有する画像を得る
ためである。このタイプの網点は「硬調」網点と
して知られている。網点蝕刻作業はハロゲン化銀
網点の光学濃度を低下させる故硬調網点を得るた
めの追加的工程が必要である。 硬調網点を生成し、ハロゲン化銀フイルムの損
失および赤色光取扱い要件を包含しない、リソフ
イルムとして使用するのに適当な改良されたマス
クが要求されている。しかしながら、そのような
マスクのいずれかもトーン修正を許容する網点蝕
刻可能特性を有することが必要である。 光重合性エレメントの網点蝕刻は新規な技術で
あると信じられる。材料および機構上の差異の故
に、リソフイルムとして使用するのに特に好適な
網点蝕刻可能な光重合性エレメントの生成は試み
ることさえされていなかつた。 本発明によれば、改良された光重合性エレメン
トが提供され、このエレメントはエレメントの最
外層であるかあるいは剥離可能なカバーシートに
隣接するかまたは前記光重合性層に対する溶媒に
少なくとも一部可溶性であるかまたは透過性のオ
ーバーコート層に隣接する光重合性層を有する支
持体からなり、前記光重合性層が少なくとも3.0
の活性線範囲の光学濃度を有し該層の厚さは
0.0006インチ(0.015mm)をこえないことを特徴
とするものである。 前記の光重合性層は通常前記エレメントを酸奏
抑制ならびに物理的損傷に対して保護するために
活性線照射に対して透明なカバーシートまたはオ
ーバーコート層を有する。従つて本発明によつて
提供される光重合性エレメントは次の順序の(1)支
持体、(2)0.0006インチ(0.015mm)をこえない厚
さおよび活性線範囲において少なくとも3.0の光
学濃度を有する光重合性層および(3)好ましくは活
性線照射に対して透明の剥離可能なカバーシート
またはオーバーコート層からなる。ここで「オー
バーコート層」とは、前記光重合性層に対する溶
媒に対して少なくとも一部可溶性であるかまたは
透過性の、光重合性層上の乾燥状態の被覆を意味
する。 この発明の光重合性エレメントは写真用マスク
の製造に際して高価なハロゲン化銀材料の代りに
使用されることができる。前述のように、本発明
によれば平版印刷用途に適する示性曲線を有し、
画像濃度の有意の損失を生ずることなく網点蝕刻
によつてトーン修正可能な画像を生成する光重合
性エレメントが提供されることが見出された。こ
の発明のエレメントはさらに明色光処置に対する
迅速な作業可能性、適性ならびに使用者の取扱い
が非常に簡略化された、ハロゲン化銀リソフイル
ムの画像よりもよりシヤープで画像サイズを小さ
くすることがより容易なハーフトーン網点画像の
生成を特徴とする。この発明によつて達成された
当該技術分野における以上の改良色およびその他
の改良点はさらに以下に記載される。 添付の第1図は本発明の露光および現像された
エレメントの略断面図(寸法によらない)であ
り、その露出部分の端縁は現像によつてアンダー
カツトされて支持体上に残存している。 第2図は露光された不透明光重合体からなるハ
ーフトーン網点のパターンを示す露光および現像
されたエレメントの縦断面図である。第2A図は
60%網点をあらわし、その角は互いに交わつて穴
部分を規制している。第2B図は10%網点をあら
わす。 第3図はアンダーカツトされた端縁が除去され
ている露光部分を有する、露光および現像された
本発明のエレメントの略横断面図である。 第4図は露光された光重合前画像の網点の縮小
されたサイズを示す、アンダーカツトされた端縁
が除かれた第3図の露光および現像エレメントの
縦断面図である。 この発明は光重合性材料の露光部分(特に網
点)を蝕刻する方法ならびにこの方法に使用可能
な光重合性エレメントは厚さが0.0006インチ
(0.015mm)以下で極めて薄く、活性線範囲内(す
なわち活性線全体にわたつて)の層の光学濃度が
少なくとも3.0であるような充分な活性線照射吸
収性物質を含有する光重合性層を使用して得られ
ることを見出したことに基づく。例えば、350〜
400nmの範囲の活性線照射に対する画像的露光
により、それを通してエレメントが露光されるス
テンシルの透明部分またはプロセス透明体に相当
する硬化部分が光重合性層中に生成する。露光後
のエレメントの現像は未露光部分をその未露光部
分に対する溶媒でベースに至るまで洗去すること
によつて行なわれるのが好ましい。現像過程中継
続する前記溶媒の作用により露光硬化された部分
がアンダーカツトされる(すなわち前記露光硬化
部分の端縁の下の部分が除かれる)が、その理由
は前記層の光学濃度が高いために層の厚さを通じ
て重合度または硬化度に勾配が生じ、前記層の表
面において重合度または硬化度が最も高くなるか
らである。残留画像部分は重合度または硬化度の
より低い一層軟質の下層部分上の硬化された上皮
からなる。本発明のエレメントのシート状支持体
は現像マスクの露光部分を支持し、前述の剥離可
能なカバーシートまたはオーバーコート層と共に
露光の際の酸素抑制に対する保護を提供する。 光重合性物質は未露光部分において溶媒によつ
て洗去されアンダーカツトが容易であるから前記
層に特に適する。この発明の好適なエレメントは
透明支持体、透明カバーシートまたはオーバーコ
ート層および前記支持体とカバーシートまたはオ
ーバーコートとの間の、厚さが0.0006インチ
(0.015mm)をこえない単一の光重合性層からな
り、この層は以下の成分を含有する。 a 10〜30重量%の、遊離基開始された、連鎖生
長付加重合によつて高重合体生成可能なエチレ
ン性不飽和化合物、 b 10〜60重量%の有機重合体状結合剤、 c 0.1〜20重量%の、活性線照射によつて活性
化され得る遊離基生成付加重合開始剤系、およ
び d 少なくとも50〜400nmのスペクトル範囲に
わたつて光重合性層に少なくとも3.0の光学濃
度を与えるような濃度で存在する活性線照射吸
収性物質。 特に好適なエレメントは光重合性層において少
なくとも4.0の光学濃度を有し、厚さが0.0004イ
ンチ(0.010mm)をこえないエレメントである。 この発明の特に好適なエレメントにおいては、
前記の重合体状結合剤としては未露光の光重合性
成分が主として水溶液例えば希アルカリ性水溶液
に可溶性であるが活性線照射に露光されると前記
溶液に比較的難溶性になるようなものが選択され
る。前記の基準を満たす重合体の代表的なものは
カルボキシル化された重合体例えば遊離カルボン
酸基を含有するビニル付加重合体である。しかし
ながら、従来既知の光重合性組成物により開示さ
れているように、水性現像が要求されなければ広
い範囲の結合剤が使用され得る。 本発明のエレメントはリソマスクとして、また
「フオト」マスクとしても使用されることができ
る。密着感度平版製版に適するマスクは上記のエ
レメントから例えば、該エレメントをそのカバー
シートまたはオーバーコート層を通してハーフト
ーンスクリーンで画像的に露光し、次いで前記カ
バーシートを剥離するかあるいは前記オーバーコ
ート層が部分的または完全に溶解させ、未露光部
分を洗去することによつて現像して適当な網点蝕
刻可能なマスクを支持体フイルム上に生成させる
ことによつて容易に得られる。上記の応用におい
て、画像が紫外線スペクトルおよび可視スペクト
ル範囲の両者において不透明となるように染料ま
たは顔料例えばコロイド状カーボンを光重合性層
に添加し得る。 また、フオトレジスト等の露光に使用するのに
適する「フオトマスク」がわずかに異なつた方法
により製造され得る。この場合には、例えば、カ
バーシートを除去するかあるいはオーバーコート
層を完全にまたは部分的に除去した後、一時的支
持体上の光重合性層を寸法が安定した剛性支持体
例えば光学ガラス上に積層することができる。次
いで、積層および露光後、前記の一時的支持体を
除き、光重合性層の溶媒現像を行なうことにより
前記の剛性支持体上にフオトマスクが生成する。
この応用において、前記光重合性層は少なくとも
350〜400nmの範囲にわたつて吸収特性を有する
染料または顔料を含有していてもよい。このよう
に、フオトマスクは可視スペクトル範囲の主要部
において実質上透明であるが、活性線範囲(すな
わち、光重合開始に使用されるスペクトル範囲)
において実質上不透明であり得る。 この発明のエレメントは現像方法に応じて前述
の各種の方法で使用され得る。現像は穴がベース
に至るまで形成された時点でしかもアンダーカツ
トが実質的に始まる前に中止することができる。
こうして現像されたエレメントは例えば蝕刻が望
まれない回路線画像用フオトマスクとして使用さ
れ得る。被覆の厚さが過度に大きい場合にはアン
ダーカツトにより画像の部分の制御されない損失
または過剰の損失が生ずる。リソマスクとしての
使用に際しては前記エレメントはハーフトーンス
クリーンで露光されそして現像される。画像中の
トーン値の修正が望まれる場合には現像をさらに
継続して画像中の網点をアンダーカツトして網点
を小さくする。現像がアンダーカツトを生ずる程
度まで行なわれる場合には、光重合性層はハイラ
イト部分の網点が蝕刻によつて完全には除かれな
いように非常に薄くなければならない。前記層が
過度に厚い場合には、可溶性未露光物質の高いカ
ラム上にある層の厚さの好ましくは1/3をこえな
い光硬化キヤツプからなる小網点は非常にもろく
破壊されやすい。 光重合性層はマスクとして有用な不透明画像を
非常に薄い層と共に形成するのに充分な光学濃度
を有していなければならない。網点蝕刻が行なわ
れるべきである場合には、重合度の勾配を生ずる
ために高い光学濃度がまた要求される。 光重合性組成物において、該組成物の少なくと
も1種の成分の分子量が活性線照射に露光するこ
とによつて増大され、露光部分の流動学的および
熱的性質に変化が生じ、溶媒中で露光部分を未露
光部分よりも比較的より難溶性ならしめ、これに
より溶媒現像可能な画像が生成する。この発明に
おいて使用される光重合性組成物は以下に詳述さ
れるように通常、光開始剤、エレメントを活性線
範囲において不透明化する活性線照射吸収剤、重
合可能な単量体および重合体状結合剤からなる。 (a) 光開始剤 光重合性組成物は活性線照射によつて活性化
され得る有機遊離基生成系を含有しており、こ
の系はエチレン性不飽和化合物の重合を開始し
その反応を以後終らせない。前記の遊離基生成
系は約300〜500nmの範囲内において少なくと
も約50のモル吸光係数を有する活性照射吸収帯
域を有する少なくとも1種の成分を有する。前
記「活性照射吸収帯域」とは重合を開始するの
に必要な遊離基生成に対して活性な照射帯域を
意味する。遊離基生成系は照射によつて活性化
される際に直接遊離基を供給する1種またはそ
れ以上の化合物からなることができる。さらに
また、前記の系はそのうちの1種の化合物が、
照射によつて活性化される増感剤によつて遊離
基を生成するように処理された後遊離基を生成
する複数の化合物からなることもできる。 本発明の実施に際して利用され得る光開始剤
としては次のものがあげられる。ベンゾフエノ
ン、ミヒラーケトン〔4・4′−ビス−(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン〕、4.4′−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフエノン、4−メトキシ
−4′−ジメチルアミノベンゾフエノン、2−エ
チルアントラキノン、フエナントラキノン、お
よびその他の芳香族ケトンのような芳香族ケト
ン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾイ
ンフエニルエーテルのようなベンゾインエーテ
ル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾインお
よびその他のベンゾイン類、ならびに2−(o
−クロロフエニル)−4・5−ジフエニルイミ
ダゾール二量体、2−(o−クロロフエニル)−
4・5−(m−メトキシフエニル)イミダゾー
ル二量体、2−(o−フルオロフエニル)−4・
5−ジフエニルイミダゾール二量体、2−(o
−メトキシフエニル)−4・5−ジフエニルイ
ミダゾール二量体、2−(p−メトキシフエニ
ル)−4・5−ジフエニルイミダゾール二量
体、2・4−ジ(p−メトキシフエニル)−5
−フエエルイミダゾール二量体、2−(2・4
−ジメトキシフエニル)−4・5−ジフエニル
イミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカ
プトフエニル)−4・5−ジフエニルイミダゾ
ール二量体および米国特許第3479185号、英国
特許第1047569号および米国特許第3784557号の
各明細書に記載の同様の二量体のような2・
4・5−トリアリールイミダゾール二量体。 特に有用な開始剤は前述の2・4・5−トリ
アリールイミダゾール二量体(ヘキサアリール
ビイミダゾールとしても知られている)であ
る。前記開始剤は2−メルカプトベンツオキサ
ゾール、ロイコ・クリスタル・バイオレツトま
たはトリス(4−ジエチルアミノ−2−メチル
フエニル)−メタンのような遊離基生成性電子
供与剤と共に使用される。ミヒラーケトンのよ
うな増感剤が添加され得る。ローズベンガルお
よびエオシンYのような各種のエネルギー伝達
染料もまた使用可能である。適当な開始剤のさ
らにその他の例は米国特許第2760863号明細書
に記載されている。別の有用な系においては米
国特許第3479185号明細書に記載のような増感
性化合物の使用あるいは不使用下に、トリアリ
ールイミダゾール二量体および遊離基生成性電
子供与剤が用いられる。その他の有用な開始剤
は米国特許第3427161号明細書に記載のよう混
合物である。 前記の遊離基生成系は重合開始に充分な濃度
で使用されるがその濃度は全組成物に基づいて
通常約0.1〜20重量%であり、好ましくは約2
〜12重量%である。 (b) 活性線照射吸収剤 前記の光開始剤系のほかに、大部分の光重合
性組成物に対して少なくとも350〜400nmの範
囲を包含する活性線照射の吸収に有効な化合物
が前記層中に比較的高い濃度で存在可能であ
り、極めて不透明なマスクを生成しそして画像
アンダーカツトに要する重合勾配を生ずる。こ
のような勾配は前記組成物中において少なくと
も350〜400nmのスペクトル範囲にわたつて前
記光重合性層中少なくとも3.0の光学濃度によ
つて生成される。活性線照射吸収性光開始剤
系、染料および顔料の混合物がしばしばその範
囲または少なくとも300〜500nmの範囲におい
て少なくとも3.0の光学濃度を与える可視およ
び活性線範囲において吸収を提供するために使
用される。 この発明に使用することのできる紫外線染
料、紫外線吸収剤およびその他の染料の例をあ
げれば次のとおりである。 2・2′−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベン
ゾフエノン 4−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシベンゾ
フエノン 2・4−ジヒドロキシベンゾフエノン ヒドロキシフエニルベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−5′−メトキシフエニ
ル)ベンゾトリアゾール レゾルシノール−モノベンゾエート 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフエノ
ン 2・2′−ジヒドロキシ−4・4′−ジメトキシ
−ベンゾフエノン 2・2′・4・4′−テトラヒドロキシベンゾフ
エノン 2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフエ
ノン−5−スルホン酸 (ならびに以上のナトリウム塩) エチル−2−シアノ−3・3−ジフエニルア
クリレート 2−エチルヘキシル−2−シアノ−3・3−
ジフエニルアクリレート ルクソール(登録商標名)オレンジGRL
カラーインデツクス#25(ソルベント・オレン
ジ) ルクソール(登録商標名)オレンジGS カ
ラーインデツクス#24(ソルベント・オレン
ジ) ルクソール(登録商標名)オレンジR カラ
ーインデツクス#20(ソルベント・オレンジ) プラスト(登録商標名)オレンジM カラー
インデツクス#21(ソルベント・オレンジ) プラス(登録商標名)オレンジMS カラー
インデツクス#22(ソルベント・オレンジ) グラソール(登録商標名)フアスト・オレン
ジ2RN カラーインデツクス#33(ソルベン
ト・オレンジ) オイル・オレンジ カラーインデツクス
#12055(ソルベント・イエロー#14) スーダン・オレンジRA カラーインデツク
ス#12055(ソルベント・イエロー#14) ルクソール・イエローG カラーインデツク
ス#45(ソルベント・イエロー) ルクソール・イエローT カラーインデツク
ス#47(ソルベント・イエロー) プラスト・イエローGR カラーインデツク
ス#39(ソルベント・イエロー) プラスト・イエローMGS カラーインデツ
クス#40(ソルベント・イエロー) オイル・イエロ3G カラーインデツクス
#29(ソルベント・イエロー) オイル・イエローN カラーインデツクス
#2(ソルベント・イエロー) スーダン・イエロー カラーインデツクス
#30(ソルベント・イエロー) ルクソール・フアスト・ブルーAR カラー
インデツクスNo.37(ソルベント・ブルー) ルクソール・フアスト・ブラツクL カラー
インデツクスNo.7(ソルベント・ブラツク) プリムローズ・イエロー カラーインデツク
ス#77603(ピグメント) クロム・イエロー・ライト カラーインデツ
クス#77603(ピグメント) クロム・イエロー・ミデイアム カラーイン
デツクス#77600(ピグメント) 分散二酸化マンガン トルイジン・イエローGW カラーインデツ
クス#71680(ピグメント) モリブデート・オレンジ カラーインデツク
ス#77605(ピグメント) ダラマー・イエロー カラーインデツクス
#11741(ピグメント) グリーン・ゴールド カラーインデツクス
#12775(ピグメント) グラフトール・イエロー カラーインデツク
スピグメント・イエロー#61 グラフトール・オレンジ カラーインデツク
スピグメント・オレンジ#13 コロイド状カーボンは特に好適な顔料であ
る。 薄層中350〜400nmの範囲にわたつて少なく
とも3.0の光学濃度を得るためにはしばしば高
いパーセンテージの染料および(または)顔料
が必要であり、通常光重合性層の15〜40重量%
である。本発明のエレメントが紫外線照射に対
する限られた数の露光のみのマスクとして使用
される場合には所要の光学濃度を与えるために
光開始剤を単独で高濃度にする(染料および/
または顔料0%)だけで充分であるが、多数の
露光に適当なマスクを提供するためには高濃度
の紫外線安定染料および(または)顔料が存在
するのが好ましい。 (c) 単量体 この発明は任意特定の重合可能な単量体の使
用に限定されるものではない。該単量体は単に
エチレン性不飽和単量体であつて付加重合し得
るものであればよい。多数の有用な単量体が利
用可能でありそれらは1個またはそれ以上の末
端エチレン性基を特徴とする。適当な単量体と
しては各種のビニルおよびピニリデン単量体、
例えば米国特許第2760863号および同第2791504
号明細書に記載のような、ビニルカルボキシレ
ート、α−アルキルアクリレート、α−置換ア
クリル酸およびそのエステル、ビニルエステ
ル、ビニル炭化水素、ポリメチレングリコール
およびエーテルアルコールのアクリル酸および
α−置換アクリル酸エステル、米国特許第
2927022号明細書載の各種の化合物、特に複数
個の付加重合可能な、特に末端結合として存在
する、エチレン性結合を有する化合物、そして
さらに特に少なくとも1個好ましくは大部分の
前記結合が炭素または窒素、酸素および硫黄の
ような異種原子に二重結合によつて結合する炭
素を包含する二重結合炭素と共役している化合
物、米国特許第3261686号明細書に記載の種類
のペンタエリトリツト化合物のエステル、なら
びに米国特許第3380831号明細書に記載の種類
の化合物例えばトリメチロールプロパン、エチ
レンオキシドならびにアクリル酸およびメタク
リル酸の反応生成物があげられる。 使用される1種またはそれ以上の単量体の濃
度は普通前記組成物の全固体分の約7.5〜35重
量%、好ましくは15〜25%である。 (d) 結合剤 使用結合剤は、好ましくは50℃において固体
の有機重合体状物質であり、該結合剤は前述の
重合可能な単量体および重合抑制系と相容性で
あることが必要である。結合剤が熱可塑性であ
ることは多くの場合望ましいが必要ではない。
結合剤は前記のごとく使用される重合可能な単
量体と同様の一般的タイプであつてもよくそし
て前記単量体中に可溶性でありかつ単量体によ
つて可塑化されてもよい。 熱可塑性および非熱可塑性の広い範囲の各種
適当な結合剤が米国特許第3060023号明細書に
記載されており、それらは例えばセルロースエ
ーテルまたはエステル、ポリアルキレンエーテ
ル、グリコールを二塩基性酸との縮合重合体、
ビニルエステルの重合体および共重合体、アク
リル酸およびエステル、ポリビニルアルコー
ル、セルロース、フエノール樹脂等である。多
数のビニリデン重合体を包含する別の結合剤が
米国特許第2760863号および同第791504号明細
書に記載されている。さらにその他の有用な結
合剤としては英国特許第826272号明細書記載の
N−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパ
ミド混合物、米国特許第2892716号明細書記載
のポリエステル、ポリアセタールまたは混合ポ
リエステルアセタール混合物、米国特許第
2902365号明細書記載の融解可能なポリビニル
アルコール誘導体、米国特許第2902365号明細
書記載の選択された有機一可溶性、塩基一可溶
性セルロース誘導体の融解可能なブレンド、米
国特許第2927022号明細書記載の選択された有
機可溶性、塩基可溶性セルロース誘導体の融解
可能なブレンド、米国特許第2902710号明細書
記載の線外ビニリデン基を有するポリビニルア
セタール、米国特許第2972540号明細書記載の
線外N−アクリリルオキシメチル基を含有する
線状ポリアミドおよび米国特許第3024180号明
細書記載の1・3−ブタジエンがあげられる。 前記結合剤または結合剤混合物は通常光重合
性層の10〜60重量%を占める。 得られる光重合性組成物は有機溶媒不含の純水
性アルカリ性溶媒中で現像可能である故、結合剤
として特に好適なものは酸性の重合体状有機化合
物である。有機溶媒はコストが高く、毒性および
(または)熱焼性に関して危険であり、石油化学
製品の不足から乏しくなりそして空気および水質
を汚染する故上記の条件は有利である。 水性アルカリ性媒質中において可溶性であり、
本発明の組成物中において有用な種類のフイルム
形成性結合剤は、1種またはそれ以上のアルキル
アクリレート30〜94モル%および1種またはそれ
以上のα・β−エチレン性不飽和カルボン酸から
製造され、さらに好適には2種のアルキルアクリ
レート61〜94モル%およびα・β−エチレン性不
飽和カルボン酸から製造される遊離カルボン酸基
を含有するビニル付加重合体である。前記重合体
状結合剤の製造用として適当なアルキルアクリレ
ートはメチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート等を包含する。適当な
α・β−エチレン性不飽和カルボン酸はアクリル
酸、メタクリル酸等を包含する。以上のタイプの
結合剤ならびにその製造に関してはドイツ特許出
願公開公報第2320849号に記載されている。 酸性結合剤の使用に基づく利点は、英国特許第
1361298号明細書に詳述されているような、(1)ス
チレン−タイプのビニル単量体と(2)不飽和カルボ
キシル基含有単量体との共重合体である予形成さ
れた相容性の巨大分子重合体状結合剤を選択する
ことによつて達成される。 その他の好適な光重合性組成物は予形成され
た、相容性の巨大分子重合体状結合剤混合物を使
用することによつて得られるが、該混合物の成分
は2種の選択されたクラスから取られる。ベルギ
ー特許第828237号明細書に記載された混合物の使
用は現像に際して有機溶媒の使用を不要とする。
これらは2種の結合剤の混合物である。第1のタ
イプは酢酸ビニルおよびクロトン酸の共重合体、
アクリル酸エチル、メタクリル酸メチルおよびア
クリル酸のターポリマーおよびセルロースアセテ
ートスクシネートから選択されるのが好適であ
る。第2のタイプはトルエンスルホンアミドホル
ムアルデヒド、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸との共重合体、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチルおよび水素マレエートのターポリマー、
塩化ビニル、酢酸ビニルおよびマレイン酸のター
ポリマー、スチレンおよび無水マレイン酸の共重
合体、ならびにメタクリル酸メチル、アクリル酸
エチルおよびメタクリル酸のターポリマーから選
択されるのが好ましい。 光重合性エレメントは光重合性組成物を溶媒か
ら支体持上に通常の被覆方法に従つて被覆するこ
とによつて製造され得る。適当な支持体材料はポ
リアミド例えばポリヘキサメチレンセバカミド、
ポリヘキサメチレンアジパミド、ポリオレフイン
例えばポリプロピレン、ポリエステル例えばポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタ
レート/イソフタレート、ビニル重合体例えばビ
ニルアセタール、塩化ビニリデン/塩化ビニル共
重合体、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、
およびセルロース物質例えばセルロースアセテー
ト、セルロースアセテート/ブチレート、セロフ
アンのような溶融重合体からフイルムとして成形
される高分子量重合体からなるフイルムを包含す
る。特に好適な支持体材料は米国特許第2627088
号および同第2779684号明細書に記載の種類の、
前者の米国特許明細書に記載された表面コーテイ
ングを含有するかあるいは含有しないポリエチレ
ンテレフタレートフイルムである。前記支持体は
可溶性であるかまたは可溶性でなくてもよく、本
発明の目的に対して支持体の一部と考えられる樹
脂状の「下引き」層または他の層を有していても
よい。しかしながら、光重合性層および任意の可
溶性下引き層または下層の全体の厚さは0.0006イ
ンチ(0.015mm)をこえてはならない。「可溶性」
とは光重合性層が現像され得る溶媒中の溶解性を
意味する。好適な可溶性第2次層は約0.0002イン
チ(0.005mm)をこえない厚さを有する。特定の
用途によつてベース支持体が透明であることを必
要とされない場合には光重合性組成物は紙、特に
防水性写真用紙、薄い金属シート、特にアルミニ
ウムおよび銅シート、厚紙等のような不透明支持
体上に被覆されても有用である。特定の目的に対
する最適被覆厚さは該被覆が適用される用途、使
用される特定の光感受性組成物、および前記被覆
中に存在し得るその他の化合物の性質のような因
子に基づくであろう。好適な乾燥被覆の厚さは約
0.0001〜0.0006インチ(0.0025〜0.015mm)であり
得る。 溶媒の蒸発後においても、前述の各種の成分か
ら調製された光重合性被覆の多くはいくぶん軟質
で、粘稠性または粘着性である。貯蔵および取扱
いを容易にし、露光中酸素阻害に対して保護する
ために剥離可能なカバーシートまたはオーバーコ
ート層が適用されるが、これは予め成形されたフ
イルムまたは追加的被覆のいずれかであり得る。
前記カバーシートは光重合性層全体から1回の操
作例えば剥離によつて完全に剥離され得る非光感
受性シートである。機械的操作によつて剥離され
得るカバーシートに対して有利かつ適当な材料は
ポリエチレンテレフタレートまたはポリプロピレ
ンフイルムの商業的に入手し得る数種のうちの任
意のものである。別法としては、重合体状材料例
えばポリビニルアルコール、ゼラチン等を溶液状
で前記光重合性層上に被覆して溶媒の除去後、そ
の組成に応じて光重合性層用の溶媒に少なくとも
一部可溶性であるかあるいは透過性である乾燥し
たオーバーコート層を残留させてもよい。数種の
オーバーコート層が米国特許第3458311号明細書
に記載されている。 本発明の態様の実施に際して、画像生成性光重
合性層を含有するエレメントはこの明細書に記載
の光重合性組成物を適当なフイルム支持体上に被
覆することによつて製造される。前記光重合性層
の乾燥後、その表面上に剥離可能なカバーシート
が積層されるかあるいはオーバーコート層が被覆
される。光重合性組成物は約0.0002インチ
(0.0051mm)(50mg/cm2)の乾燥被覆厚さを与える
ように被覆されるのが好ましい。適当な支持体フ
イルムは高分子量重合体例えばポリアミド、ポリ
オレフイン、ポリエステル、ビニル重合体および
セルロースエステルからなる広い範囲の各種フイ
ルムから選択され、そして0.00025インチ(0.006
mm)ないし0.008インチ(0.203mm)またはそれ以
上の厚さを有していてもよい。露光が支持体を通
して該支持体フイルムの除去前に行なわれる場合
には、前記支持体は入射活性線照射の実質的部分
を通さなければならないことは勿論である。支持
体フイルムが露光前に除かれる場合には前述のよ
うな限定は適用されない。リソマスクの場合にお
けるように、支持体を前記の層上に残留させる場
合には支持体は透明でなければならない。特に適
当なフイルムは約0.004インチ(0.102mm)の厚さ
を有する透明なポリエチレンテレフタレートフイ
ルムである。適当な剥離可能カバーシートは前述
の高分子量重合体フイルムと同一の群から選択さ
れそして同一の範囲の厚さであり得る。露光が前
記カバーシートまたは層を通して行なわれる場合
にはそれらは活性線照射に対して透明であること
が必要である。厚さ0.0005インチ(0.013mm)の
ポリエチレンテレフタレートカバーシートが特に
適当である。以上の支持体およびカバーフイルム
は光重合性層に対してすぐれた保護作用を与え
る。オーバーコート層もまた前文において言及さ
れている。前記支持体および(または)カバーフ
イルム上には前述の例えばハロゲン化銀乳剤層の
ような別の層を有していてもよい。 好適な光重合性層は0.0006インチ以下例えば
0.0004インチ(0.01mm)の厚さを有する。0.0002
インチ(0.0051mm)ないし0.0003インチ(0.0077
mm)の厚さが特に好ましい。照射吸収剤、光開始
剤および光重合性層中のすべてのその他の物質の
光吸収の結果である前記層の光学濃度は少なくと
も3.0、好ましくは少なくとも4.0である。活性線
範囲において3.0の光学濃度を有する層は99.9%
の入射活性線照射を吸収し、一方4.0の光学濃度
を有する層は99.99%を吸収する。 この発明を実施するに際しては光重合性エレメ
ントは前述のようにして製造される。前記エレメ
ントは次に活性線照射に対して好適には透明のカ
バーシートまたはオーバーコート層を通して露光
される。露光は紫外線照射に富む光源によりハー
フトーン画像透明体、例えばプロセス陰画または
陽画(画像含有透明体は実質的に不透明な部分と
実質的に透明な部分とからなり、前記不透明部分
は実質上同一の光学濃度を有する)を通して行な
われ得る。透明体はまた技術図面のような直線画
像を有していてもよい。画像または透明体はエレ
メントの表面と接触していても、あるいはしてい
なくてもよい。すなわち密着露光であつてもある
いは投影露光であつてもよい。透明なフイルム支
持体を通して露光を行なう場合に要する時間は露
光照射の強さおよび前記組成物の固有写真感度に
応じて数秒間ないし数分間の範囲であろう。露光
後、それを通してエレメントが露光されたカバー
シートまたはシート支持体が除かれ、露光された
硬化部分および未露光であるかあるいは露光不足
の未硬化部分を有する露光された前記の層が後者
をエレメントから除去することによつて現像され
る。未露光部分の除去はエレメントの露光された
側を現像溶液で処理することによつて行なわれ、
それによつて未露光部分が洗去される。別法とし
て、カバーシートの代りにオーバーコート層が存
在する場合には前記未露光の光重合性層に対する
現像液によりオーバーコート層が未露光部分の上
では完全に除去されそして露光部分上では少なく
とも部分的に除去されるであろう。 活性線照射によつて活性化され得る遊離基生成
開始剤は一般に紫外線範囲においてその最大感受
性を示す故に、射源は通常上記の照射の有効量を
供給すべきである。点照射源および広域照射源の
いずれも有効である。これらの照射源はカーボン
アーク、キセノンアーク、水銀蒸気アーク、紫外
線照射放射螢光体を有する螢光ランプ、アルゴン
グローランプ、電子フラツシユ装置および写真用
フラツドランプを包含する。これらのうちではタ
ングステン1000W石英沃化物ランプが特に適す
る。太陽灯水銀蒸気アークは通常光重合性層から
3.8〜61cmの距離で使用される。点照射源は一般
にエレメントから50〜125cmの距離で使用され
る。しかしながら、ある特定の場合にはスペクト
ルの可視範囲において感受性を示す光開始剤を用
いて可視光で露光するのが有利であり得る。その
ような場合には照射源は有効量の可視照射を供給
すべきである。前掲の照射源の多くのものは可視
光の所要量を供給する。 露光後、例えば、前記光重合性層の露光された
側上の未露光で未硬化そして可溶性の部分を適当
な溶媒で洗去することによつて前記エレメントは
現像される。これは撹拌浸漬条件下でスプレージ
エツトを衝突させるが、ブラシがけするかまたは
摩擦することによつて行なわれ、所望の着色され
た硬化不溶性画像が残る。結果として、さらに露
光される光感受性組成物の中間エレメント、「マ
スター」またはマスクとして使用されるのに充分
な不透明度を活性線範囲において有するレジスト
画像が得られる。前記レジスト画像は直接マスク
として使用するか、あるいは化学的アンダーカツ
トである「蝕刻」に付し、続いて画像部分の端縁
を除去してもよい。前記画像部分が網点である場
合には上述の方法は「網点蝕刻」と呼ばれる。 現像液の溶媒は、未露光部分が支持体から除去
されるのに充分な可溶性を示しかつ露光部分は比
較的難溶性であるような流体である。従つて、現
像液溶媒の選択は光重合性組成物に基づいて行な
われ、該組成物の被覆に用いられる溶媒を使用す
ることができる。弱酸性光重合性組成物は米国特
許第3475171号明細書記載の溶媒混合物で現像さ
れるのが都合がよい。より好適な水性現像可能な
組成物は一般に0.01〜10重量%の範囲の濃度の水
性塩基すなわち水溶性塩基の水溶液で現像され
る。 上記の現像に適する塩基としてはアルカリ金属
水酸化物例えばリチウム、ナトリウムおよびカリ
ウムの水酸化物、弱酸の塩基との反応により生成
するアルカリ金属塩例えばリチウム、ナトリウム
およびカリウムの炭酸塩および重炭酸塩、水酸化
アンモニウムおよび四置換水酸化アンモニウム例
えばテトラメチル−、テトラエチル−、トリメチ
ルベンジル−およびトリメチルフエニル−水酸化
アンモニウム、スルホニル水酸化物例えばトリメ
チル−、ジエチルメチル−およびジメチルベンジ
ル−スルホニウム水酸化物およびその塩基性可溶
性塩例えば炭酸塩、重炭酸塩および硫化物、アル
カリ金属燐酸塩およびピロ燐酸塩例えばナトリウ
ムおよびカリウムの三燐酸塩およびナトリウムお
よびカリウムのピロ燐酸塩、四置換(好ましくは
すべてアルキル置換された)ホスホニウム、アル
ソニウムおよびスチポニウム水酸化物例えばテト
ラメチルホスホニウム水酸化物が包含される。 同一の溶媒が網点蝕刻過程においても使用さ
れ、この際部分的に硬化された網点がアンダーカ
ツトされそして次に機械的摩耗によつてその大き
さが小さくされる。 この発明のエレメントはハロゲン化銀マスクに
対してコストを節減する別法を提供する。本発明
によれば対応するハロゲン化銀フイルムに対して
均等であるかまたはそれよりすぐれた性質を有す
る黒色の、機械処理可能な密着感度光重合体リン
フイルムが製造される。例えば、30秒密着タング
ステンランプ露光によりハロゲン化銀リソフイル
ムの場合と均等な画像複製が得られる。上記の露
光は線150本/インチ(線59.05本/cm)、2〜98
%網点グラデーシヨン範囲の複製に充分である。
地(バツクグラウンド)部分の透過濃度はハロゲ
ン化銀と匹敵し(ブルーフイルダーを使用して
0.05)、そして好適なエレメントに対してはすぐ
れた現像液寛容度、網点シヤープ化および網点蝕
刻が証明されている。このエレメントは厚さ
0.0005インチ(0.0125mm)のポリエチレンンテレ
フタレートカバーシート、厚さ0.00002インチ
(0.0005mm)の可溶性下引き層を含有する厚さ
0.004インチ(0.102mm)のポリエチレンテレフタ
レートフイルム基質上に被覆されたコロイド状カ
ーボンを含有し350〜400nm範囲において4.0の光
学濃度を有する厚さ0.0003インチ(0.0076mm)の
光重合性層からなる。その上、上記のエレメント
は浸漬現像区画および水噴霧洗浄部分からなる低
コストの自動作動機械で現像され得る。前記過程
の終末点においてフイルムを乾燥する。以上の全
過程の所要時間は1分以下である。さらに、前記
光重合体フイルムによる軟調網点複製はハロゲン
化銀の場合と均等であるかあるいはよりすぐれて
いる。 視覚的整合に特に有用な関連製品が製造され得
る。この製品は暗室を必要とせず、2〜98%網
点、150本線/インチ(59.05本/cm)スクリーン
の明瞭な複製が可能であり、網点蝕刻可能であつ
てすぐれた露光および現像寛容度を有する着色さ
れた、可視光線に対して透明でありかつ紫外線に
対して不透明の光重合性エレメントである。 この発明の前記光重合性エレメントはリソフイ
ルム中において完全に銀の代用として使用されて
重大なコストおよび取扱い上の利点を与える。そ
の上、前記エレメントは銀タイプのマスクを破壊
するスクラツチおよび摩擦傷に対する抵抗性が改
良されている。前記層に添加される染料および着
色料はさらにコピーを調製するのに必要なだけの
光学濃度が得られるように有利に調整することが
できる。技術者がコピー調製のために1種以上の
マスクを使用することを必要とする場合には前記
透明画像タイプを露光中に使用される完全光の下
で明瞭に見ることができ、整合が完全になる。重
要な商業上の利点はこの発明のエレメントおよび
方法を使用することによつてマスクの調製に際し
て光重合性エレメントの取扱いがより簡易化され
そして該エレメントは網点蝕刻可能であることで
ある。 蝕刻は露光部分の実質的アンダーカツトが起こ
るまで現像を継続し、次に露光部分の大きさをそ
の上部表面(すなわち活性線照射に対して露光さ
れた表面)の端縁からその一部を除いて小さくす
ることによつて実施され得る。 リソプレートの露光用マスクを製造するに際し
ては通常露光および現像されたマスクが製造さ
れ、次にトーン修正が必要が否かを決めるカラー
試験者によつて試験される。これは実際にリンプ
レート(「最終校正刷り(プレスプルーフ)」)を
調製するか、ハーフトーン網点を濃度計によつて
測定して原画のカラーを網点の大きさを左右する
カラーチツプと比較するか、(米国特許第3649268
号明細書に記載のような)特定のカラー試験フイ
ルムによるか、あるいはその他任意適当なカラー
試験法によつてなされ得る。トーン修正が望まし
いと決定された場合にはマスクはスプレーノズル
または網点蝕刻用の機械的作業を提供するその他
の手段を備えた現像液装置に戻されて網点蝕刻さ
れることができる。網点蝕刻の量は前記現像液装
置中の時間に比例するであろう。従つて網点蝕刻
によるトーン修正工程は極めて容易に調節される
ことができる。カラー試験に使用されたマスクを
現像液に戻すかわりに新しいマスクを調製して単
により長時間現像を行なつて適当なトーンバラン
スの網点蝕刻されたマスクを生成させることがで
きる。いずれかの別法に関して上記の工程は通常
前記試験に用いられるマスクと続いて網点蝕刻さ
れたマスクとの間には少なくとも5%の網点サイ
ズの減少がある。より普通には、10%またはそれ
以上の網点サイズの減少が前記の網点蝕刻法によ
つて達成される。後記の実施例に例示されるよう
に、本発明のエレメントにより75%またはそれ以
上の網点サイズの減少が達成され得る。 マスク上の画像の一部のみがトーン修正が必要
であると判定される場合にはその部分のみに現像
液を適用して湿潤パツドでこするかまたは噴霧す
ることによつて前記部分を選択的に網点蝕刻し得
る。 この発明のエレメントがハーフトーンスクリー
ンで露光そして現像される場合には該エレメント
上の画像は重合体状物質の標準的正方形のハーフ
トーン網点からなる。50%またはそれ以上のサイ
ズの正方形の網点が各角において接触してマスク
中に明瞭な「穴」を規制することが認められるで
あろう。従つて前記のように大きい網点の蝕刻は
穴の拡大として観察され得る。しかしながら、穴
の拡大は露光された重合体状網点のサイズの減少
によつて起こる。すべての場合に網点蝕刻はマス
ク上の不透明度のより低い重合体状露光部分を形
成し、そして不透明の重合体状露光部分間の空間
がより大なることに基づく画像全体の濃度の低下
を生ずる。添付の図面は大きいサイズの網点およ
び小さいサイズの網点に対する網点蝕刻の効果を
具体的に示す。第1図はアンダーカツトされては
いるが網点サイズを減少する物理的摩耗には付さ
れていない網点画像をあらわす。第2A図は網点
蝕刻前の60%網点を示し第2B図は網点蝕刻前の
10%網点を示す。第3図は網点蝕刻された網点画
像をあらわす。該網点の上部表面が切り取られて
網点サイズが減少している。第4A図は網点蝕刻
後の前記第2A図の網点画像を示し、該網点は物
理的摩耗により網点サイズが減少し網点間の穴が
拡大されている。第4B図は網点サイズの減少し
た網点蝕刻後の前記第2B図の網点を示す。 以上のごとく、この発明はそのエレメントを画
像的に露光する工程、光重合性層の未露光部分を
除去する工程および露光画像部分のサイズをその
部分の端縁を除去することによつて減少させる工
程からなる方法を提供する。後の2工程はスプレ
ー、ブラシまたはその他の前記網点表面上に機械
的作用を及ぼす装置を適当に備えた現像液装置に
より単一パスで連続的に実施され得る。別法とし
て、前記の工程を、現像液中に浸漬しそしてこす
るというような手作業により実施してもよい。方
法の第1工程すなわち特にハーフトーンスクリー
ンを通して行なわれる画像的露光によればこの発
明のエレメントから網点蝕刻可能なマスクが得ら
れる。このマスクはその画像含有表面上の機械的
作用(例えば摩擦、ブラシがけまたは噴霧)によ
つてサイズ減少可能な不透明の重合体状網点から
なるトーン修正可能な画像を含有する。機械的作
用によるサイズ減少の行なわれる前および後の前
記マスクはそれぞれ第1図および第3図に示され
ている。 以上述べたとおり、網点蝕刻の主要な有用性
は、この発明のマスクが複数のカラー分解マスク
の1種であり、露光部分(網点)のサイズ減少が
前記マスクにより(石版プレートまたは試験フイ
ルム上に生成された複合カラー画像が原画のカラ
ー画像と同一のトーンバランスを有する程度に実
施される石版プレートの製造ある。本発明のエレ
メントは上記の方法において作用可能であり、ハ
ロゲン化銀リソマスクの新規かつ改良された代用
物を提供する。 この発明のエレメントはさらにカラーコードを
付したフオトマスクとしても有用である。前記マ
スクはイエロー、マゼンタ、シアンプロセスカラ
ーならびに通常黒色をプリントする光感受性印刷
プレートを露光するのに使用可能であり原画の完
全なカラー再生を形成する。前記のマスク自体は
前述の色合いに着色され、従つて簡単かつ迅速な
プルーフ方法を提供する。 カラーコードフオトマスクは前述の光学濃度お
よび厚さ要件を満足する。すなわち活性線範囲に
わたつて少なくとも3.0の光学濃度を有しそして
0.015mmをこえない厚さを有する。高い光学濃度
は比較的高濃度の紫外線吸収剤を光重合性層に添
加することによつて達成される。各層はさらに可
視スペクトル範囲において後の段階で使用される
インク、一般にイエロー、マゼンタ、シアンおよ
び黒色に相当する透明染料または顔料で着色され
る。 使用に際して、プロセス透明体の完全なカラー
プリントを製造することを望む印刷技術者は本発
明のイエロー(黄色)フオトマスクを前記プロセ
ス透明体の黄色成分のハーフトーン画像に対して
露光し、マゼンタフオトマスクをマゼンタ成分
に、そしてシアンフオトマスクをシアン成分に、
そして一般に黒色フオトマスクを灰色ないし黒色
成分に対して露光する。露光および現像後、画像
含有マスクの1枚を別の1枚の上の重ねて整合し
て組み合わせて、例えば透過光線で見られる場合
に厚画(オリジナル)の完全なカラープルーフを
生成させる。カラー再生が満足すべきものである
場合には画像を含有する各フオトマスクは陽画と
して働く光感受性印刷プレートの露光に使用さ
れ、前記印刷プレートは前記フオトマスクの色に
相当する色のインクで処理されかつインク付けさ
れる場合に前記の色の印刷を生ずる。イエロー、
マゼンタ、シアンおよび黒色画像を有する各マス
クから露光され、それに応じてインク付けされた
プレートからの多色プリントによれば最初のプロ
セス透明体の忠実に複製された完全なカラープリ
ントが生成されるであろう。 その他の場合に、カラーコード画像を含有する
複数個のフオトマスクが検査用に組み合わされる
場合には完全なカラープルーフが、全体的にまた
はある特定の範囲において、例えば過度に黄色で
あるかあるいは過度に赤色である等が認められる
ことがある。この際、前記過剰カラーに相当する
画像含有フオトマスクは全体的あるいは部分的に
網点蝕刻によつて修正される。網点蝕刻を行なつ
た後、前記カラーコード画像含有フオトマスクを
再び組み合わせて再検査を行なう。場合によりさ
らに修正が必要であるが、該修正は前述の組み合
わされたカラーコードマスクが所望の完全なカラ
ー再生を与えるまで実施される。前記修正が満足
すべきものである場合には、各マスクは光感受性
印刷プレートの露光に使用される。 この発明のカラーコードフオトマスクが整合し
て組み合わされる場合には非常に有利なプルーフ
系が提供される。以上の方法は陽画作用性光感受
性印刷プレートのみに適用される。陰画作用性プ
レートの露光が行なわれる場合には前記以外の工
程が包含される。各カラーコードマスクを使用し
て密着平版陰画フイルムが製造されるが該フイル
ムは次に印刷プレートの露光の変調に使用され
る。 後記実施例は重合可能な単量体および重合体状
結合剤からなる光重合性組成物が光重合性層そし
て使用される態様を例示する。前記組成物は、お
そらく単量体が前記結合剤を通過して照射源に向
つて移動して層の厚さを通して高い重合勾配を生
じ、それによつて網点蝕刻可能性が増大されるこ
とにより、本発明において特に有用であることが
見出された。従つて、そのような組成物は特に好
適である。 次の実施例の現像された画像は画像部分におい
て高濃度を有するが非画像部分においてはわずか
の濃度を示すに過ぎないかあるいは濃度を有さな
い、非画像部分(地)において無濃度であること
は実質的な地(バツクグラウンド)の濃度を有す
るジアゾタイプのマスクに比して重要な利点を与
える。この利点は可溶性下引き層の使用によつて
促進される。現像後非画像部分中350〜400nmの
範囲内の照射に対して0.3をこえない光学濃度を
有しそして好ましくは光学濃度が実質上0(ゼ
ロ)でありうる本発明のエレメントが提供され得
る。分散された顔料例えばカーボンブラツクを照
射吸収剤として含有するエレメントは非常にすぐ
れた写真感度を有するエレメントを提供し得る故
に特に好適である。 この発明の実施に際しては、光重合性層の約1/
3以下を除いて表面を重合させるのに充分な露光
が好ましく、その場合露光時間は約3分をこえな
い。 この発明をさらに以下の実施例により例示する
が、例中部および%は別に記載のない限り重量に
基づく。 実施例 1 以下の成分の溶媒溶液から被覆組成物が調製さ
れた。
【表】 ジスルホ酸染料との混
合物)
充分に混合した後、こうして形成された光重合
性組成物の一部を、米国特許第2779684号明細書
例に記載のようにして製造され、一方の側のみ
に不溶性樹脂下引き層を含有する、厚さ0.007イ
ンチ(0.178mm)のポリエチンテレフタレートの
澄明なフイルム支持体の下引き層上に塗布した。
熱風乾燥後、乾燥した光重合性層は厚さ約0.0003
インチ(0.0076mm)であり、300〜500nmのスペ
クトル範囲において、キヤリー記録分光光度計で
測定された光学濃度は4であつた。得られた生成
物を厚さ0.0005インチ(0.0127mm)の澄明な、2
軸方向に配向され、熱固定されたポリエチレンテ
レフタレートフイルムの脱離可能なカバーシート
で積層して複合エレメントを生成させた。次に前
記エレメントは15秒間前記カバーシート側から紫
外線照射に富む螢光不可視光源により、印刷回路
に類似の不透明画像を担持する銀画像透明体を備
えた普通の登録商標名ヌアーク)真空フレーム中
で画像的に露光された。前記照射源は9個の密接
充填された24ワツトの高出力バルブ(ゼネラル・
エレクトリツク社製F24T12−BL−HO)を含有
しており、前記光重合性エレメントから3インチ
(7.62cm)の位置に設置された。露光後、前記カ
バーシートを剥離し、前記被覆の未露光未重合部
分を次の組成 炭酸ナトリウム1水和物 35 g ジエチレングリコールモノブチルエーテル
226.5g 蒸留水 3290 g を有する前記層の未露光物質に対する溶媒の主と
して水溶液を用いて洗去することによつて光重合
性層の現像を行なつた。上記の溶液によつて現像
を行ない、水ですすぎそして風乾を行なつた後に
得られるフイルムは可視光線に対して透明である
が300〜500nmのスペクトル範囲において4の光
学濃度を有するオレンジ色の重合体状紫外線吸収
性画像を含有していた。銀画像透明体原画の正確
なレプリカである上記の画像含有エレメントは米
国特許第3469982号明細書に記載の方法および材
料を使用する印刷回路製造用のターゲツト、ステ
ンシルまたはマスクとして有用であつた。 別の複合エレメントが上述のようにして30秒間
前記の密に充填された不可視光源に150本の線を
有するハーフトーンスクリーン硬質網点ターゲツ
トを通してカバーシートの側から露光することに
よつて製造された。前記カバーシートを除いた
後、前記エレメントを上記の現像液に73〜74〓
(23℃)において90秒間浸漬し、該エレメントを
水中に浸漬して現像を止め、次にエレメントを現
像液を含むパツドでこすつて網点蝕刻を行ないそ
して残留する未露光物質を除去することによつて
未露光部分を洗去した。地部分の透過濃度はハロ
ゲン化銀フイルムと匹敵し得る(ブルーフイルタ
ーの使用下0.05)。以上の方法により前記フイル
ム支持体上に前記ハーフトーンスクリーン値に相
当するサイズよりもサイズの減少した重合体状網
点からなる画像が形成された。別法としては、前
記エレメントを摩擦手段を備えた装置中で現像す
ることも可能であつた。 弱い現像液を使用することによつて現像液寛容
度すなわち現像時間が有意の影響なしに変化され
得る量が改良される。水中に浸漬すると現像液の
作用は直ちに中止されそして広い現像液寛容度の
要求は最小化される。水中に浸漬後、前記エレメ
ントは水で湿潤させたパツドで摩擦することによ
つて、溶解されてはいないが前記エレメント上に
遊離して残留する物質を除去することができる。 前記の方法で製造された別の複合エレメントは
次の方法によつて網点蝕刻された。使用された蝕
刻溶液は表面活性剤(オクチルフエノキシポリエ
トキシエタノール、登録商標名トライトンX−
100)および濃化剤(セルロースゴム)を添加し
た現像液と同様のものであつた。最初に試験試料
を蝕刻溶液に10秒間浸漬して取り出し、そして
(水平表面上に)時間を変えて放置し、その後水
中に浸漬しそして次に現像液を含むパツドで摩擦
した。総蝕刻時間対網点等価は次のとおりであ
る。 蝕刻時間−網点等価 浸漬+放置時間(秒) 網点等価 0 92 20 84 40 73 80 63 120 54 マイクロ濃度計による測定 測定はトーン範囲の2個所の蝕刻部分において
行なわれた。第1の部分は60%網点等価に減少さ
れた90%試験部分であつた。この部分は一定のパ
ターン内に分散した円形の澄明な穴を伴なうほと
んど実質的な地を特徴とする。蝕刻により円形を
とどめる一層大きい穴が生じた。他の一方の部分
は50%までの網点等価の低いトーン範囲を特徴と
し、網点の一定のパターンからなる。マイクロ濃
度計走査の結果は次のとおりである。
【表】 以上の結果はトーン値がトツプ濃度に重大な影
響を及ぼすことなく劇的に変えうることを示す。 150(59.05)本線ハーフトーン複製 5〜93%のトーン範囲における蝕刻前の現像試
験試料の網点等価は以下のとおりである。
【表】 露光寛容度 次のデータは前述のようにして製造および現像
された光重合体試験試料の露光寛容度とハロゲン
化銀密着リソマスクとを比較するものである。試
験ターゲツトを各種の露光時間で露光し、4個の
ターゲツト部分について網点等価を測定した。
【表】 上記両者の場合に最も臨界的な部分は10〜40秒
から12%の変化が認められる50%網点サイズ範囲
にあり(表中AおよびB)、光重合体マスクおよ
びハロゲン化銀マスクに対して均等な露光寛容度
が示される。従つて、ハロゲン化銀不含の本発明
のエレメントは密着リソマスク応用に関して従来
技術のハロゲン化銀マスクと均等な感度特性を有
することが証明される。 実施例 2 この例は本発明のエレメントのマスクとしての
各種の応用を示す。前記実施例1に記載の被覆組
成物と均等であるがただしさらにベーシツク・ブ
ルー7(C.I.42595)42.5gを含有する被覆組成
物を調製した。実施例1に詳記のエレメント製造
方法、露光装置および現像方法を使用し、露光中
写真ハロゲン化銀陰画試験画像をターゲツトとし
て使用した。厚さ0.0003インチ(0.0076mm)を有
しそして300〜500nm範囲において3.0以上の光学
濃度で吸収する得られる黒色重合体状陽画像が以
下の感光性物質の露光に際してマスクとして使用
された。 1 米国特許第3458311号明細書記載の光重合体
印刷プレートが上記のマスクを通して45秒間36
インチ(91.4cm)の距離においてカーボンアー
ク下に露光された。線およびハーフトーンパタ
ーンは前記米国特許明細書記載の現像液組成物
で現像され適当な印刷プレートが得られる。 2 米国特許第3649268号明細書記載の「粘着
性」光重合体系を製造し、樹脂下引きされたポ
リエチレンテレフタレート上に乾燥厚さ0.0004
インチ(0.01mm)で塗布し、その上に厚さ
0.0075インチ(0.019mm)のポリエチレンテレ
フタレートを積層して被覆した。露光はキセノ
ンアークを用いて15秒間18インチ(45.7cm)の
距離において行なわれた。前記ポリエチレンテ
レフタレートカバーシートを除去した後粘着性
部分に付着する乾燥した着色染料をふりかける
ことによつて慣用の方法で前記粘着性重合体の
硬化によつて形成された画像の現像を行なつ
た。上記の染料は米国特許第3307943号明細書
に記載されている。生成した着色画像を110℃
における積層によつてコーテツドペーパースト
ツクに転写した。こうして前記フオトマスクの
すぐれた陽画コピーが得られた。 3 適度に低感度のオルソ感受性ハロゲン化銀フ
イルムを光重合体マスクと共に10秒間ゼネラル
エレクトリツク社製100ワツト20ボルトの標準
白熱灯を用いて53インチ(135cm)の距離で
0.6NDフイルターおよびNo.47ラツテンフイル
ターを使用して露光した。画像をマルチプロセ
スタイプの現像液(メトール−ハイドロキノ
ン)中で現像し、続いて当業者に周知のごと
く、慣用の写真定着液中で定着を行ない、洗浄
しそして乾燥を行なつた。非常に高い解像力を
有する黒白画像が得られた。 実施例 3 次の成分を含有する実施例1と同様の黒色光重
合性層が調製された。 成分(実施例1参照) %(重量) 結合剤(c) 38.20 光開始剤(e) 5.92 光開始剤(f) 2.34 可塑剤(g) 1.30 単量体(h) 24.50 連鎖移動剤(i) 0.87 オレンジ染料(j) 13.10 ルクゾル・フアスト・ブラツクL(C.I.ソルベン
トブラツク17) 13.8 以上の成分を塩化メチレン/2−エトキシエタ
ノール(容量比7:3)中に溶解させて固体分含
量20%の感光液を調製した。この溶液を重合体状
フイルム支持体上95〜100mg/cm2の被覆重量で被覆
して、厚さ0.0004インチ(0.01mm)および光学濃
度3.0以上の乾燥された光重合性層を生成させ
た。 この例における厚さ0.004インチ(0.101mm)の
ポリエチレンテレフタレートフイルム支持体は米
国特許第3443950号明細書記載の可溶性基質の変
形である厚さ0.0002インチ(0.0051mm)の可溶性
基質を有していた。前記変形は本質的に約1.2:
8.01:1(前記米国特許基質:第1重量体:第2
重合体)の重量比の2種の酸性ターポリマーを前
記米国特許明細書記載の基質に添加することから
なり、前記第1重合体はアクリル酸エチル(56
%)、メタクリル酸メチル(37%)およびアクリ
ル酸(7%)から形成され、第2の重合体はメタ
クリル酸メチル66%、アクリル酸エチル29%およ
びメタクリル酸5%から形成されている。 実施例1の方法に従つて実施例1のカバーシー
トの積層によりエレメントの製造を完了した後、
該エレメントを硬質および軟質網点ターゲツトを
通して露光した。露光は30秒間2500ワツトのパル
ス化されたキセノンヌアーク(登録商品名)(モ
デルFT26M−2)照射源により43.2cmの距離で
行なわれた。次に、前記カバーシートを除去した
後、黒色画像を現像した。実施例1の現像液が80
〓(27℃)における30秒間の浸漬で充分作用する
ことが見出された。現像および洗浄ストツプ装置
を備えた自動処理機が用いられる。現像液部分に
浸漬後、フイルムを、現像マトリツクスを除去す
るだけでなく、残留現像液を希釈してその作用を
中止させる水スプレー中を通過させる。次いで前
記エレメントを乾燥させる。浸漬工程は30秒間を
要し、第2の段階はこれと同量の時間を要する。
良好な硬質および軟質網点複製が得られた。所望
に応じて、前記マスク画像の網点蝕刻が可能であ
つた。 実施例 4 次の成分を含有する有用かつ黒色の水性アルカ
リ性現像可能な光重合性組成物を調製した。 成 分 量(g) (a) 実施例1の溶媒(a) 720 (b) 実施例1の溶媒(b) 80 (c) アクリル酸エチル56%、メタクリル酸メチル
37%およびアクリル酸7%から形成されるタ
ーポリマー(分子量約260000、酸価76〜85)
15.2 (d) イソプロピルアルコールで部分的にエステル
化されたスチレンンおよび無水マレイン酸の
1:1共重合体分子量約1700、酸価270)
25.1 (e) 実施例1の光開始剤(e) 5.3 (f) 実施例1の光開始剤(f) 2.1 (g) 実施例1の連鎖移動剤(i) 0.8 (h) トリエチレングリコールジメタクリレート
12.0 (i) 実施例1の染料(j) 20.0 (j) 実施例2の青色染料(C.I.42595) 4.0 (k) 非イオン性フルオロカーボン表面活性剤FC
−430(Minn.Mining and Mfg.Corp.製)
(CH2Cl2中10%溶液) 0.3 上記の被覆溶液を所謂「ドクター」ナイフを使
用して塗布して実施例3に記載基質および下引き
層上に、300〜500nm範囲において3.0以上の光学
濃度を有する厚さ0.0003インチ(0.0076mm)の乾
燥した層を生成させた。実施例1に記載のごとく
75℃において積層を行なうことによつてエレメン
トの製造が完了した。完成された生成物を1分間
ハーフトーンターゲツトからキセノンランプ(ヌ
アーク「フリツプ・トツプ」プレート・メーカ
ー・モデルFT26M−2)を使用して露光した。
80〓(27℃)において4%炭酸ナトリウム水溶液
で現像を行なう(15秒間)ことにより原画の正確
な陽画コピーが得られたが、このコピーは別のコ
ピーの製造に有用であつた。 実施例 5 現像液として有機溶媒と共に使用される次の組
成物を調製した。 成 分 量(g) (a) 塩化メチレン 1000 (b) 2−エトキシエタノール 100 (c) ポリ(メチルメタクリレート(分子量約
30000) 70 (d) ポリ(メチルメタクリレート)(分子量約
100000) 40 (e) 実施例1の光開始剤(e) 15.6 (f) 実施例1の光開始剤(f) 6.3 (g) トリエチレングリコールジアセテート17 (h) 実施例1の単量体(h) 70 (i) 実施例1の染料(j) 37.2 (j) トリス(4−ジエチルアミノ−o−トリル)
メタン 3.1 (k) 4・4′・4″−メチリジントリス(N・N−ジ
メチルアニリン)(ロイコ・クリスタル・バイ
オレツト) 0.63 上記の組成物を0.004インチ(0.101mm)のドク
ターナイフを使用して塗布して実施例1に記載の
基質上に3.0以上の光学濃度を有する厚さ0.0005
インチ(0.013mm)の乾燥した層を生成させた。
実施例1に記載のカバーシートを光感受性層上に
(100℃において)積層してエレメントを形成させ
た。このエレメントを透明体を通して2分間実施
例1の黒色光装置を使用して露光した。離層後、
メチルクロロホルムのスプレー中で(9秒間)現
像を行ない、次いで水ですぎ乾燥を行なうことに
よつて黒色画像が得られた。得られたフイルムは
マスクとして使用するのに適していた。 実施例 6 実施例5に関連した次の処方はガラス上にフオ
トマスクを形成する。別の開始剤系を示す。
【表】 約13.7%の固体分を含有する上記溶液を厚さ
0.001インチ(0.025mm)の澄明な2軸方向に配向
され熱固定されたポリエチレンテレフタレートフ
イルム上にドクターナイフで塗布した。乾燥後、
前記フイルムを厚さ0.001インチ(0.025mm)のポ
リエチレンンで積層して、乾燥後の厚さが約
0.0003インチ(0.0076mm)である生成紫外線吸収
層を保護した。 300〜500nm範囲において3.0以上の光学濃度を
有する上記の紫外線吸収層を、次に溶媒で摩擦洗
浄することによつて充分に洗浄された3″×
4″(7.6×10.2cm)プロジエクタースライドカバ
ーグラスに移した。この移転は前記のポリエチレ
ンカバーシートを除き前記紫外線吸収層を前記ガ
ラスプレートに加熱ローラーにより100〜120℃に
おいて約183cm/分の割合で積層することによつ
て行なわれた。 次に前記光重合性層を40.6cmの距離において
1000ワツトの石英沃化物ランプで凝似電子印刷回
路からなる標準試験パターンを含有する陰画を通
して露光した。ポリエチレンテレフタレートシー
トを剥がして除去し、得られた画像をメチルクロ
ロホルムで10秒間噴霧し次に水を噴霧して現像
し、さらに生成したオレンジ色の画像を圧縮空気
を吹きつけて乾燥させた。ここで使用された溶媒
はフオトレジストの未硬化部分を溶解して、300
〜500nmの光感度を有するフオトレジストを画
像化するのに有用な適当な陽画マスクを剛性ガラ
ス支持体上に残留させた。 実施例 7 以下の成分を含有する実施例4と同様である
が、ただし酸素不透過性カバー層を含有するオレ
ンジ色の光重合性組成物を調製した。
【表】 上記の被覆溶液を実施例3に記載の基質上に塗
布して80〜90mg/dm2の乾燥被覆重量を生成させ
た。これは厚さ約0.0003インチ(0.0076mm)を有
する。次に実施例1のカバーシート上に予め被覆
された酸素遮蔽層を前記の光感受性層上に積層し
た。前記の遮蔽作用組成物(乾燥被覆重量6〜10
mg/dm2)は米国特許第3458311号明細書実施例1
に記載されたポリオキシエチレン表面活性剤2%
を含有するポリビニルアルコール(中等度粘度、
99%けん化)の水性−アルコール性溶液の変形物
質であつた。該変形は前記ポリビニルアルコール
に5:1の比率でビニルピロリドンと酢酸ビニル
との共重合体(89/11)を添加することからな
り、上記共重合体の15%エタノール溶液の粘度は
75〓(24℃)において38〜44センチストークの範
囲である。さらに、湿潤性を良好にするために前
記遮蔽作用層は次の構造式 を有する表面活性剤の少量を含有する。 カバーシートを除いた後、剥離可能な遮蔽作用
層が前記光感受性層上に残留する。次に以上のエ
レメントをプロセス透明体を通して実施例1の不
可視光装置により30秒間露光した。蒸留水中重炭
酸ナトリウム2.33%および炭酸ナトリウム0.67%
を含有する現像液組成物中に浸漬し、次に水洗
し、水含有パツドでこすりさらに乾燥することに
よつて現像を80秒間68〜70〓(20℃)において行
なうことにより、フオトマスクとして使用するの
に適した原画のオレンジ色の画像が得られた。前
記現像液により酸素遮蔽層そして次いで光重合性
層の未露光部分が除去された。次のデータは現像
がより長時間継続されるに従つて線画像の蝕刻が
起こることを示す。 現像−線幅 浸漬時間(秒) 線幅(μ) 40 124(現像不充分) 45 124 50 119 55 117 60 111 (原画線ターゲツト=124μ澄明空間) 実施例 8 この例は網点蝕刻可能性を達成するためには高
い光学濃度が必要であることを立証する。実施例
7に記載のようにして4種の光重合性組成物を製
造した。組成物Aは実施例7と同一であり、組成
物B〜Dは以下のように変化する。
【表】 実施例7のようにして125μの線含有ターゲツ
トに露光後、現像増大に伴なう線幅の減少を実施
例7の現像液および方法により測定し、次のデー
タが得られた。
【表】 以上の結果によれば、300〜500nmにおいて光
学濃度4を有する組成物A(実施例7)は一定の
パターンにおいて網点(線)蝕刻可能であること
が示される。組成物B(光学濃度3)もまた網点
蝕刻可能であるがそれ程容易ではない。組成物C
(光学濃度2)は若干不規則な結果を示すが実質
上網点蝕刻不可能であることは明瞭である。組成
物D(光学濃度1)はベースに至るまで明らかに
安定化され、おそらく重合されており全く蝕刻
(アンダーカツト)不可能である。 実施例 9 (A) この例は顔料を含有する光重合性で水性現像
可能な密着感度平版系を例示する。塩化メチレ
ン中固体分10%の次の被覆用分散液を調製し
た。 固体分%(重量) (a) 実施例4の結合剤(c) 16.4 (b) 実施例4の結合剤(d) 30.3 (c) 実施例4の光開始剤(e) 5.8 (d) 実施例4の光開始剤(f) 2.3 (e) 実施例4の表面活性剤(k) 0.09 (f) 実施例1の単量体(h) 27.2 (g) 実施例1の可塑剤(g) 1.7 (h) コロイド状カーボン 16.4 以上の被覆用処方物を調製するに際しては、
上記の成分(b)〜(g)を直接前記の溶媒中に溶解さ
せる。成分(a)および(h)は別にCH2Cl2中で混合
し、サンドミル処理して小粒子とし、次に前記
のその他の成分をこの分散物に加える。多数の
カーボンブラツクを使用することができるが、
この例は約75nmの粒子サイズのフアーネスブ
ラツクが用いられた。以上の充分混合した被覆
用組成物を実施例3の基質上に塗布して300〜
500nmの範囲において3.0以上の光学濃度を有
する乾燥時の厚さ0.0002インチ(0.005mm)の
層を形成させ、実施例1のカバーシートを積層
した。このエレメントを次にハーフトーンター
ゲツトからBRHランプ(1000ワツト、タング
ステン−ヨーダイド)により30秒間露光した。
前記のランプは光重合性層から1mの距離に置
かれた。前記カバーシートを除いた後、フイル
ムを45秒間室温においてNa2CO3および
NaHCO3各2%を含有する水性現像液で現像
し、水ですすぎそして乾燥することによつて黒
色画像が得られた。さらに、得られた陽画ハー
フトーン網点は前記フイルムを同一の現像液中
に30秒間浸漬しても網点蝕刻されなかつた。す
なわち、上記のフイルムはそれからさらに他の
コピーを作製するのに適当な平版タイプのエレ
メントを提供する。 (B) 印刷作業において行なわれる網点蝕刻の例示
のために前記(A)に記載のエレメントと同様のエ
レメントが使用された。カラー写真プリント用
プレートを製造するために通常使用される4種
の標準カラー(マゼンタ、シアン、黄および
黒)の各カラー用のエレメントにより陽画画像
マスター(マスク)を調製した。これらのエレ
メントを実施例9の装置を使用して露光し、実
施例3に記載の自動処理機中において実施例10
〜12に記載の現像液溶液で現像を行なうことに
より4種の網点蝕刻可能なマスクを生成させ
た。(米国特許第3649268号明細書に記載のよう
な)カラープルーフフイルム上において完全な
カラープルーフが前記マスクからプレス印刷を
模して行なわれた。プルーフの分析に際して、
前記写真のすべての部分において過剰黄色があ
りそして1個所は「過剰赤色」であることが観
察された。これらの問題の修正のためには黄色
陽画画像は「フラツト蝕刻」(写真中のすべて
の網点が小パーセンテージだけサイズを縮小さ
れる)されるべきであり、マゼンタ陽画画像は
「部分蝕刻」(過剰赤色部分の網点が実質的パー
センテージにおいてサイズを縮小される)され
るべきである。 これを達成するために、同一の露光および現
像手段を用いて黄色およびマゼンタマスターか
らコピーが作製された(陽画画像マスターを陰
画画像中間体にコピーし、これを次に原画の陽
画画像複製物にコピーした)。得られた黄色複
製物を次に標準現像時間を2倍にして処理機で
再処理した。これは前記画像上のすべての網点
を網点蝕刻するのに有効であつた。各種の網点
(線150本のスクリーン)のサイズ(カバレー
ジ)の減少量は例えば次のとおりである。
【表】 拡大下の網点の表面積の変化の測定値が特定
の部分の積分濃度値と比較された。前記測定値
によれば積分濃度値の変化は全体的に網点部分
の変化の結果でありそして網点内の濃度損失で
はないことが確認された。 次にマゼンタ陽画画像複製物が部分的に蝕刻
された。蝕刻すべき部分は視覚的に確認され、
画像の残りの部分は次の成分 CCl2FCClF2 240g ポリ(n−ブチルメタクリレート) 15g (No.50キヤノン−フエンスケ粘度計を使用
して20℃において測定されたCHCl350ml中重合
体0.25gを含有する溶液中の固有粘度=0.53) トリス−(4−ジエチルアミノ−o−トリル)
メタン 0.5g シー・アイ・ソルベント・ブルー36 0.3g を含有する「腐食止め溶液」を塗布することに
よつて保護された。ステージが乾燥した時点で
所定の部分の蝕刻を、前記のフイルム全体をブ
チルカルビトール(登録商標名)65容量%、エ
チレングリコール17.5容量%および17.5容量%
の溶液中に10〜20秒間浸漬し、次に衝撃水スプ
レーですすぐことによつて行なつた。網点サイ
ズを測定して適当なサイズの網点が得られるま
で以上の方法を繰り返した。この場合、40%網
点から10%網点に減少し、積分濃度と網点サイ
ズとを比較して試験した場合網点内では濃度損
失は起こらなかつた。前記のフイルムを熱風で
乾燥しそしてステージを溶媒(CCl2FCClF2
で注意深くすることによつて除去した。 別の完全なカラープルーフがマスターである
シアンおよび黒色マスクならびに蝕刻された黄
色およびマゼンタマスクからつくられ、所要の
カラーシフトが達成されていることが確認され
た。前記マスクは、順次正確なカラーバランス
を有する完全なカラープレスプリントを与える
光重合性印刷用プレートを露光するのに使用さ
れ得る。 実施例 10〜12 これらの実施例は実施例9と同様であるが、多
数の単量体および別の光開始剤の使用を例示す
る。CH2Cl2中約15%の固体分を含有する次の光
重合性被覆用組成物を調製した。
【表】 ル
実施例9におけるように、上記のカーボンおよ
び結合剤(a)をミル処理によつて微細に分散させ、
この分散物に上記のその他の成分を加えた。次
に、充分混合した前記の被覆用組成物を実施例3
の基質上に別々に塗布しそして実施例1のカバー
シートを積層した。実施例10の乾燥後の被覆厚さ
は約0.004mmであり、実施例11〜12の前記厚さは
約0.0076mmであつた。実施例10のフイルムは300
〜500nmの範囲において3.0および4.0の可視的光
学濃度を有し、実施例11〜12のフイルムはスペク
トルの可視および紫外線の両範囲において>4.0
の光学濃度を有していた。 実施例10のフイルムを実施例9のようにして20
秒間露光した。ただし照射源は試料から152.5cm
の距離に置かれた。実施例11〜12のフイルムは実
施例4に記載の装置を使用して10分間キセノンラ
ンプに露光した。次に、カバーシートを除いて、
実施例10のフイルムを実施例3の自動処理機中5
秒間27℃において、水(1)中NaHCO3(4.6
g)およびNa2CO3・H2O(27.4g)の溶液を現
像液として使用して現像し、水を噴霧してすすぎ
そして乾燥した。得られたフイルム画像は前記ハ
ーフトーンターゲツトの正確な複製であり、「硬
質」網点はシヤープな端縁を示して網点蝕刻可能
であつた。 実施例11〜12のフイルムをトレー中において
Na2CO3(2%)およびNaHCO3(1%)を含有
する水溶液中(24℃、15秒間)現像した。水です
すぎそして乾燥を行なつた後、画像含有フイルム
部分をNa2CO3(0.4%)およびNaHCO3(0.4%)
を含有する水溶液を用いて選択的に網点蝕刻する
ことにより約5〜10%の網点サイズ減少が生じ
た。 実施例 13〜14 これらの2例もまた実施例9と同様であるが、
これらはこの発明に有用な別の結合剤の使用を例
示する。 CH2Cl2/2−エトキシエタノール中に次の成
分を含有する被覆用組成物を調製した。
【表】
【表】 らの高分子量テトラポリマ

ミル処理、混合、被覆および積層工程を行なつ
た後、実施例9の露出装置を使用して2種のフイ
ルムをそれぞれ15秒間および10秒間露光した。実
施例13のフイルムは厚さ0.00025インチ(0.0063
mm)および光学濃度>3であり、実施例14のフイ
ルムは厚さ0.0002インチ(0.0051mm)および光学
濃度>3であつた。実施例10に記載のようにして
現像を行なつた後(PH=10.3、29℃、10〜15秒
間)、乾燥フイルムハーフトーン画像を網点蝕刻
した。蝕刻溶液は前記現像液と均等であるが水3
部で希釈した。蝕刻方法は前記フイルムを部分的
にテープで保護し、次に未保護部分を蝕刻溶液中
に浸漬したコツトンパツドで軽くこすり、続いて
水ですすぎそして乾燥することからなる。以上の
蝕刻方法が所望の効果が得られるまで繰り返し可
能であることは当然である。以下のデータによつ
て示されるごとく、両フイルムとも網点蝕刻可能
であり、トツプ濃度(すなわち網点の濃度)の損
失は起こらない。エレメントの総(可視的)濃度
の低下は網点蝕刻(すなわち画像の網点サイズの
縮小)を示す。
【表】 実施例 15〜16 実施例4と同様の有用なオレンジ色フオトマス
クを生成するこれら2例は別の染料の使用を例示
する。次の被覆用組成物を調製した。
【表】
【表】 *染料A〜Dはすべて溶媒可溶性であつて酸性
染料のジシクロヘキシルアミン塩である。染
料Aはソルベント・レツド30(C.I.27291)
であり、染料Cはタートラジン(C.
I.19140)の塩であり、染料DはC.I.19135の
塩である。染料Bは2−アミノ−5−クロロ
−ベンゼンスルホン酸および3−メチル−1
−(2・5−ジクロロ−4−スルホフエニ
ル)−ピラゾロンからジアゾ化およびカツプ
リングによつて得られる酸性染料の塩であ
る。 前記の被覆用溶液を実施例4におけるごとく塗
布、積層および露光した。乾燥被覆重量は118〜
125mg/dm2でありそして厚さは約0.0004インチ
(0.010mm)であつた。両フイルムを3分間露光し
た。カバーシートを除去した後、重炭酸ナトリウ
ム2%および炭酸ナトリウム0.67%を含有する水
溶液を使用し2分間21℃において現像した。水で
すすぎそして乾燥を行なつた後、得られたオレン
ジ色画像は300〜500nmの範囲において>4の光
学濃度を有していた。 実施例 17 カーボン顔料処理された光重合性層は酸素感受
性であり露光中空気中の酸素から保護されなけれ
ばならない。これは多くの場合、前記光重合性層
の表面に積層される薄い剥離可能なフイルムを使
用して行なわれる。さらにまた、光重合性層を、
該光重合性層に(その溶媒の蒸発後)粘着して良
好な酸素に対する保護膜を生成し、現像液溶媒中
で剥離可能な酸素遮蔽重合体溶液で被覆すること
によつても行なわれる。このような被覆溶液を例
示すれば次のとおりである。
【表】 実施例9(A)と同様の組成物の被覆用として固体
分3.5%を含有する溶液を次のようにして調製し
た。 水 683 g 上記の被覆用溶液 210 g 上記表面活性剤(10%水溶液) 5.4ml 青色顔料(インモント・ブルー3G) 1.8g 上記の溶液を押出しダイを使用して実施例9(A)
と同様のエレメント上に塗布した。ただしカバー
フイルムは積層しなかつた。こうして得られたエ
レメントを200〓(93.3℃)において乾燥した。
3種の被覆において、9.2、15.0および24.1mg/d
m2の乾燥被覆重量が得られた。これら3種のフイ
ルムを実施例9(A)と同様の組成物である対照(保
護カバーフイルム含有)と比較した。より低い被
覆重量を有する前記2種の被覆されたエレメント
は前記対照よりもより低い写真感度を示し、これ
ら2種のフイルムは大気により迅速に影響された
(オーバーコートは光沢を失ない、割れ目が生じ
た)。しかしながら、前記の最高の被覆重量を有
するエレメントはすぐれた安定性を示し、写真感
度ならびに網点範囲のいずれも前記対照と均等で
あつた。 実施例 18 ポリビニルアルコール(98〜98.8%けん化、低
粘度)500gを蒸留水5000gに添加して85℃にお
いて2時間加熱した。この溶液100gを蒸留水262
g、実施例17に記載のポリオキシエチレン表面活
性剤(10%水溶液)18g、エチルセロソルブ10g
およびエチルアルコール10gと混合した。以上の
混合物100gに、12〜15mμの範囲のサイズの粒
子からなり蒸留水0gを含有する30%コロイド状
シリカ分散液2.7gを加えた。こうして次の組成
のオーバーコートが得られた。 ポリビニルアルコール 2.25g 蒸留水 122.50g ポリオキシエチレン表面活性剤 0.45g エチルセロソルブ 2.50g エチルアルコール 2.50g コロイド状シリカ 2.70g 実施例10に記載の光重合性組成物を使用して同
様に実施例10に記載された光重合性エレメントを
製造した。 カバーシートを除き、2ミル(0.05mm)のドク
ターナイフを用いて上記のオーバーコート溶液を
直接光重合性表面上に塗布して乾燥させた。上記
のオーバーコートの被覆重量は10.0mg/dm2であつ
た。 以上のオーバーコートで被覆されたエレメント
を実施例10に記載のようにして露光そして現像し
た。前記のオーバーコートで被覆されたエレメン
トと実施例10のようにカバーシートを有するエレ
メントとは実質上均等な写真感度(単一√2階段
内)を有することが見出された。 前記オーバーコート層の保持を測定するために
以下の試験を行なつた。 A 重量測定 オーバーコート被覆されたフイルムの試料を
全体的画像形成露光(10秒間)に付した。わず
かに9.0mg/dm2のオーバーコート(未露光フイ
ルムの場合の10.0mg/dm2に対して)が上記の試
料から溶出されるに過ぎないことが見出され
た。これは10%のオーバーコートが露光部分に
残留することをあらわす。 B X線螢光 上記の重量データはX線螢光分析と一致し、
該分析によれば露光されたプロセス画像部分は
原料中に最初に存在していたシリカ12%を保持
していることが示される。 C 走査電子顕微鏡検査(SEM) 露光かつプロセス処理されたフイルム上に残
留するオーバーコート物質に対するさらに他の
立証データは走査電子顕微鏡検査によつて得ら
れる。4μのシリカ粒子1〜4%を含有するポ
リビニルアルコールベースのオーバーコートで
被覆されたフイルムに関するSEM試験は前記
粒子の有意の数が露光かつプロセス処理された
画像表面上に残留することを示す。 実施例 19 3ガロン(11.36)の乳剤缶に蒸留水4500g
および脱カチオン処理したゼラチン100gを充填
し、この混合物を15分間室温において浸漬しそし
て次に125〜130〓(52〜55℃)に30分間加熱す
る。前記の混合物を95〜100〓(35〜39℃)に冷
却して、次の成分を添加する。 エタノール 50g エチルセロソルブ 50g 実施例7に記載の表面活性剤の10%水溶液 50ml メタクリル酸メチル(66%)/アクリル酸エチル
(29%)、アクリル酸(5%)(水中固体分30%)
75g ムコクロル酸(2%水溶液) 600ml 以上の溶液を実施例10に記載の光重合性エレメ
ントの光重合性層表面上に乾燥被覆重量が10mg/
dm2となるように塗布する。前記のゼラチン層は
230〓(110℃)で乾燥される。 上記の被覆の1dm2試料2個を実施例10に記載
のように前側および後側から各1分間ずつ露光す
る。前記試料の重量を記録する。 試料No. 重量(g) 1 1.4347 2 1.4393 試料1および2を実施例10に記載のように処理
する。乾燥後、前記2試料の重量を再度測定す
る。
【表】 平均重量損失は0.75mg/dm2である。この実施例
は約92.5重量%の硬化ゼラチンが光重合性エレメ
ントの光重合された表面上に残留することを例示
する。未露光かつ未重合の光重合性層およびその
オーバーコートは処理中に完全に除去される。 実施例 20 この例は別法のプルーフ系としてならびに完全
なカラープリント用印刷プレートの製造に有用な
本発明のカラーコードを付したフオトマスクの製
造を例示する。 それぞれ次の成分を含有する3種の被覆溶液を
調製した。 実施例4の成分 量(g) 溶媒(a) 81 溶媒(b) 4 光開始剤(e) 1.0 光開始剤(f) 0.1 結合剤(c) 4.1 結合剤(d) 6.6 単量体(h) 3.2 表面活性剤(k) 0.04 紫外線吸収剤(2・2′−ジヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフエノン) 1.0 各溶液にさらに次の染料のうちの1種を加え
た。 染 料 量(g) グラソール(登録商標名)・フアスト・ブリリア
ント・レツドRL(CIソルベント・レツド 86)
1.0 イルガセツト(登録商品名)・イエロー2RL(CI
ソルベント・イエロー 91) 1.0 イルガセツト・ブリリアント・ブルー2GLN(CI
ソルベント ブルー 48) 1.0 以上の3種の溶液をそれぞれドクターナイフで
実施例3に記載の基質および下引き層上に塗布し
た。熱風乾燥後の乾燥被覆重量は約150mg/dm2
あり、乾燥被覆厚さは約0.0004インチ(0.01mm)
であつた。次に各光重合性層を実質的に実施例18
に記載のとおりの酸素遮蔽作用重合体で被覆し
た。得られた本発明の3種のエレメントは300〜
400nmのスペクトル範囲にわたつてすべて強く
吸収し、光学濃度は3.0〜3.2に変化した。スペク
トルの可視範囲における最大吸収はシアンフイル
ムでは67nmおよび630nmにおいて起こり、マゼ
ンタフイルムでは560nmおよび450nmにおい
て、そして黄色フイルムでは470nmにおいて起
こつた。 着色された各エレメントを次に実施例4に記載
のようにして露光した。ただし露光はその色すな
わちマゼンタ、黄色およびシアンに相当するハー
フトーン色分解陰画に対して90秒間行なつた。炭
酸カリウム(1.5%)および重炭酸カリウム(1.5
%)の水溶液(PH10.4)により29℃において(15
秒間)現像を行ない次いで温水(38℃)中ですす
ぎそして乾燥することにより、マゼンタ、黄色お
よびシアンにそれぞれ着色された前記ハーフトー
ンターゲツトの正確な画像が得られた。 シアンフイルムについて、その画像含有フイル
ムを上記瑠の現像液に浸漬し(30秒間、29℃)、
38℃において温水を噴霧することによつて網点蝕
刻を行なつた。乾燥後の測定の結果、網点サイズ
の減少は網点内部の濃度損失なしに50%網点から
4.5%網点であることが認められた。同様にし
て、前記黄色フイルムおよびマゼンタフイルムの
網点蝕刻が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の露光および現像されたエレメ
ントの略断面図(寸法によらない)であり、その
露光部分の端縁は現像によつてアンダーカツトさ
れて支持体上に残存している。第2図は露光され
た不透明光重合体からなるハーフトーン網点のパ
ターンを示す露光および現像されたエレメントの
縦断面図である。第2A図は60%網点をあらわ
し、その角は互いに交わつて穴部分を規制してい
る。第2B図は10%網点をあらわす。第3図はア
ンダーカツトされた端縁が除去されている露光部
分を有する、露光および現像された本発明のエレ
メントの略横断面図である。第4図は露光された
光重合体画像の網点の縮小されたサイズを示す、
アンダーカツトされた端縁が除かれた第3図の露
光および現像エレメントの縦断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 活性線照射によつて光重合し得る極めて薄い
    層がその上に塗布された支持体を含むエレメント
    であつて、前記光重合性層が未露光状態では現像
    剤溶媒により除去できるが露光状態では最早除去
    できないものであつて且つ0.010mmを越えない厚
    さと活性線照射に対して少なくとも3.0の光学濃
    度を有し、さらに前記光重合性層が遊離基によつ
    て開始される連鎖生長付加重合によつて高重合体
    を形成し得るエチレン性不飽和化合物と、有機重
    合体結合剤と、300nmまたはそれ以上のスペク
    トル領域における活性線照射によつて活性化し得
    る遊離基発生付加重合開始剤系とからなり且つ場
    合により活性線照射吸収剤を含有するものであつ
    て、さらに前記光重合性層が前記エレメントの最
    外層であるかあるいは露光および未露光の光重合
    性層から剥離でき且つ活性光に対して透明な除去
    可能なカバーシートに接触しているかまたは活性
    光に対して透明であつて且つ前記光重合性層に対
    する現像剤溶媒に少なくとも部分的に可溶性であ
    るかまたは透過性であるオーバーコート層に接触
    していることを特徴とする、網点蝕刻可能であり
    且つ溶媒処理可能な高いコントラストのリスフイ
    ルム用光重合性エレメント。 2 光重合性層が350〜400nmの範囲において少
    なくとも4.0の光学濃度を有することを特徴とす
    る、前記特許請求の範囲第1項記載のエレメン
    ト。 3 支持体がシートと光重合性層との間に非光感
    受性下引き層を有するシートからなり、前記下引
    き層は光重合性層に対する現像剤溶媒中に可溶性
    であり、そして下引き層と光重合性層とを組合せ
    た厚さが0.015mmをこえないことを特徴とする、
    前記特許請求の範囲第1項〜第2項のいずれかに
    記載のエレメント。 4 シートが重合体状フイルムでありそして下層
    が樹脂下引き層であることを特徴とする、前記特
    許請求の範囲第3項記載のエレメント。 5 重合体状フイルム支持体が前記重合体状フイ
    ルムと光重合性層との間に下引き層を有すること
    を特徴とする、前記特許請求の範囲第1項〜第4
    項のいずれかに記載のエレメント。 6 光重合性物質が光開始剤、活性線照射吸収
    剤、重合可能な単量体および重合体状結合剤から
    なることを特徴とする、前記特許請求の範囲第5
    項記載のエレメント。 7 光開始剤が活性線照射によつて活性化可能な
    有機、遊離基生成系からなり、光重合性層の0.1
    〜20重量%の量で存在し、活性線照射吸収剤が光
    重合性層の0〜40重量%の量で存在し、重合可能
    な単量体が光重合性層の7.5〜35重量%の量で存
    在し、そして重合体結合剤が光重合性層の10〜60
    重量%の量で存在することを特徴とする、前記特
    許請求の範囲第6項記載のエレメント。 8 光重合性層が主として水性の現像液溶媒中で
    現像可能であることを特徴とする、前記特許請求
    の範囲第7項記載のエレメント。 9 重合体状結合剤が遊離カルボン酸基を含有す
    るビニル付加重合体の少なくとも1種からなるこ
    とを特徴とする、前記特許請求の範囲第8項記載
    のエレメント。 10 エレメントが350〜400nm範囲において現
    像後の非画像部分中に0.3をこえない光学濃度を
    有しうるものであることを特徴とする、前記特許
    請求の範囲第1項〜第9項のいずれかに記載のエ
    レメント。 11 エレメントが光重合性層中に分散された顔
    料を含有することを特徴とする、前記特許請求の
    範囲第1項〜第10項のいずれかに記載のエレメ
    ント。 12 分散された顔料がカーボンブラツクである
    ことを特徴とする、前記特許請求の範囲第1項記
    載のエレメント。
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