JPS6131305A - セラミツクを用いたオゾナイザ−装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野〕 この発明は何層かのオゾナイザ−よりなるセラミックを
用いたオゾナイザ−に関するものであり、０２の酸化に
よるＯ８の製造、ＮＯｘ、ＳＯｘの酸化による脱硝、脱
硫等に関するものである。ここでオゾナイザ−とは絶縁
体に電極を設け高周波高電圧を印加することにより高周
波コロナ放電を１発生し、強力なイオン源として使用で
きる他、極短パルス高電圧を印加すれば、沿面コロナ放
電を４にじ活性プラズマの形成により、放電化学作用を
有するものである。

［従来の技術］ 従来オゾナイザ−は一般に平板状又は円筒状であるため
容量の大きい装置とするには一般に大きな平板又は円筒
を要し、これをセラミ７りで製作４ると脆性のため破壊
し易いものであった。（特願昭５’ｌ−１５５６１７号
） １問題を解決するための手段］ この発明はこの欠点を除外するもので、何層もの板状ナ
ゾナイザーを積み重ね容積小さく且つ容量の大きなオゾ
ナイザ−を提供するもので、絶縁性セラミックよりなる
基板Ａの１面に電極を設け、該電極上に支持体を有する
空間を介して、絶縁性セラミックよりなる基板Ｂを設け
、該基板Ｂの上記空間と反対側に電極を設け、両電極間
に高電圧を印加し酸化させる気体を、上記空間の一方向
にのみ通過するオゾナイザ−を基本ブロックとし、該基
本ブロックを支持体により反応気体と異なった方向にの
み冷却流体を通過し得る別の空間を介して、基板又は他
の基本ブロックと積み重ねたことを特徴とするセラミッ
クを用いたオゾナイザ−装置で、支持体は波形又は柱状
体であり、電極は面状電極で平等電界を有するものが好
ましい。

次にこれを図面により説明する。第１図は本発明のオゾ
ナイザ−の最も簡単な一例を示す組立斜視図で、Ａはア
ルミナ磁器、窒化珪素磁器等よりなるファインセラミッ
クよりなる緻密質の基板（以下単に基板と略称する）で
、表面に面状電極１（以下単に電極と略称する）を有す
る。該電極はモリブデン又はタングステン等のメタライ
ズとその上に設けたニッケルメンキにより形成され、端
部に端子１ａを有し、且つ端子を有しない側端に柱状体
２．２を有す。３は波形の支持体で基板１、柱状体２に
囲まれる空間に挿入し、その上部に設置する基板Ｂを支
える働きをするが、これは波板に限ることはなく、２と
同形状の柱状支持体を２と類似方向に設置してもよい。

次に該支持体の上に設置する基板Ｂは、基板Ａと同様の
構造を有するが、側端の柱状体４．４を基板への柱状体
２．２と異なった方向に有することにより酸化させる気
体は基板Ａの上部は通過するが、基板Ｂの上■１〜は通
過できないものである。そして、電極１と５の間に高周
波高電圧を印加かれば、高周波放電を生じ、例えば０２
ならば酸化されてＯ３となり、オゾナイザ−として作用
する。一方基板Ｂの支持体の上には、電極を有しない基
板Ｃを設けてもよいし、又は基板Ａと同様のものを積層
しこれを繰り返してもよいし、又は裏面に電極を有する
基板を用いこれを繰り返してもよい。そして上記何れの
場合も、基板Ｂの上にはその軸方向が支持体３とは異な
った好ましくは直角方向の支持体６を設置することによ
り、この空間には、空気、水等の冷却流体を通過するこ
とにより、オゾナイザ−で発生する熱を除外することが
できる。そして冷却流体と０２又は０）は混合されるこ
とはない。

第２図には、上記オゾナイザ−の正面図を示す。

７は高周波高圧電源、８はアースである。次にこの基本
構造を組み合わせた別の態様を示す。第３）図は第２図
で示した基本ブロックの下に、波状支持体６と基板Ｃを
設けたもので、基板Ａの下側ににＢと同じ基板を電極面
を下にして取り付け、その上面に波状支持体３を下段の
冷却流体通過部分と直角に、即ち０２の流通する部分と
平行にはさみ、その上に、Ａと同じ基板を電極面を下に
して設置し、その上に冷却流体支持用の波形支持体を設
け、その上に基板Ｃを設けたものである。ここで、高周
波高電圧を、下より２枚目、３枚目の基板に付属する端
子及び、４枚目、５枚目の基板に付属する端子に印加し
、この間に０□を通せばこれら電極の間に高周波放電を
発生し、０２　は０３となり、且つ下より１枚目、２枚
目の基板の間及び３枚目、４枚目の基板の間、及び５枚
目、６枚目の基板の間に冷却流体を通せば、波状支持体
の方向が異なるため、これら流体は混合することなく通
過できる。

第５図は別の実施例で、第３図の実施例の最上部の基板
Ｃの位置に、第２図のオゾナイザ−を設置したもので、
下から２枚目、３枚目の基板の間４枚目、５枚目の基板
の間をオゾナイザ−にし、１枚目と２枚目の間、及び３
枚目と４枚目の間及び５枚目と６枚目の間を、冷却流体
の通路にするものである。

上記の各構造は適宜組合せて何層かにすることは当然本
発明の範囲である。

［作　用Ｊ 上記したように、何層かのオゾナイザ−を積層し、且つ
オゾナイザ−間に冷却流体の通路を設け、オゾナイザ−
と冷却流体の通路は互いに直角方向に波状支持体や柱状
支持体を挿入することにより、形状小型で、能力の大き
いオゾナイザ−とすることができるほか、酸化する気体
と冷却流体は互いに混合することなく通すことができ、
且つ支持体により、強度が向上し、セラミックスの脆性
を補い、取扱い易いものとなる。

（実施例） アルミナ含有率９０％以上の周知のアルミナ磁器素地に
周知の有機質結合材を加え、ローリングにより厚さ０．
５ｔｍの一辺１００■１の正方形のグリーンシートとし
、この片面にタングステンペーストにて厚さ５０ｐｍに
、−辺３Ｑｍｉの正方形をスクリーン印刷して、乾燥焼
付け、Ｈ２雰囲気で１６００℃に２時間焼成してＮｉメ
ッキをし、基板Ａ及びＢとした。次に同材質のシートで
波状支持体を製作し、又同材質で側端の柱状支持体を３
鶴×３鶴Ｘ１００ｍの形状に製作し、アルミナ磁器とし
た。これらをそれぞれ第２〜４図の形状にシリコン樹脂
或いはガラスにて接着組立て、前述の如く０２及び冷却
流体として水を通過し、１ＯＫｌｌｚ、３０００Ｖの高
周波高電圧を印加したところ、０２の０３転化率は良好
で、作動時の温度１−胃も無く運転に異常は起こらなか
った。

尚上記の説明は便宜上支持体として波形を用いたが、本
発明はこれにこだわることなく、棒状体柱状体や第６図
に斜視図を示す如き格子状物も当然に利用できるもので
ある。この格子状物９は両端に板状部１０を有している
ため、側端の柱状支持体２が不要となるため製造費を低
減できるもの・ある。又本実施例では各基板及び支持体
を別個に焼成後接着剤により接合組立てたが、本発明は
これにこだわらず生シートにて成形し、溶剤等にて接合
後、乾燥焼成してもよく、耐熱性ｉよ大いに高まるもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図イ〜ホは本発明の基本ブロックを構成する部分シ
ートの組立て図、第２図は上記基本ブロックの正面図、
第３〜５図は別の実施態様を示す１１面図、第６図は波
状支持体の代替に用いる格子状物の斜視図である。 八、　　Ｂ、　Ｃ・・・・・・基板、１，５・・・・・
・電極、２．４・・・・・柱状体、３．６・・・・・・
波形支持体、ｌａ、５ａ・・・・電極、７・・・・・電
源、８・・・・・・アース、９・・・・・・格ｓ’　ｉ
Ｊ、’支持体 第１図 ｉ２図 第３図 １１４１！１０ 第５図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）絶縁性セラミックよりなる基板Ａの１面に電極を
   設け、該電極上に支持体を有する空間を介して、絶縁性
   セラミックよりなる基板Ｂを設け該基板Ｂの上記空間と
   反対側に電極を設け、両電極間に高電圧を印加し酸化さ
   せる気体を、上記空間の一方向にのみ通過するオゾナイ
   ザーを基本ブロックとし、該基本ブロックを支持体によ
   り、反応気体と異なった方向にのみ冷却流体を通過し得
   る別の空間を介して、基板又は他の基本ブロックと積み
   重ねたことを特徴とするセラミックを用いたオゾナイザ
   ー装置。
2. （２）支持体が波形，柱状又は格子状の何れか又はその
   組合せである特許請求の範囲第１項記載のセラミックを
   用いたオゾナイザー装置。
3. （３）電極が面状で、平等電界を形成する特許請求の範
   囲第１項記載のセラミックを用いたオゾナイザー装置。