JPS6130956U - 反射式電子回折用電子線照射装置 - Google Patents

反射式電子回折用電子線照射装置

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JPS6130956U
JPS6130956U JP11667284U JP11667284U JPS6130956U JP S6130956 U JPS6130956 U JP S6130956U JP 11667284 U JP11667284 U JP 11667284U JP 11667284 U JP11667284 U JP 11667284U JP S6130956 U JPS6130956 U JP S6130956U
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JP
Japan
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electron
beam irradiation
irradiation device
electron beam
reflection
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Pending
Application number
JP11667284U
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English (en)
Inventor
建勇 斎藤
寿治 吉田
達志 佐藤
Original Assignee
株式会社 日本ビ−テツク
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Publication date
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の実施例を示す電子回折装置の説明
図、第2図は、電子線回折装置の従来例を示す説明図で
ある。 11・・・・・・電子銃、12・・・・・・陽極、13
・・・・・・集束レンズ、14・・・・・・偏向コイル
、15・・・・・・試料、18・・・絞り、20・・・
・・・磁気シールド。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子銃から試料に至るまでの電子線照射径路上に、陽極
    、電子レンズ及び偏向コイルを順次配置してな慝反射式
    電子回折用電子線照射装置において、電子線照射径路上
    にあって、集束レンズの手前の陽極の直後に細孔を有す
    るフレア除去用の絞りを固定して配置し、上記電子銃か
    ら偏向コイルに至る電子線照射径路の周囲を磁気シール
    ドで覆ってなることを特徴とする反射式電子回折装置用
    電子照射装置。
JP11667284U 1984-07-30 1984-07-30 反射式電子回折用電子線照射装置 Pending JPS6130956U (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50146267A (ja) * 1974-05-13 1975-11-22
JPS58223250A (ja) * 1982-06-21 1983-12-24 Hitachi Ltd 反射電子回折装置
JPS5923444A (ja) * 1982-07-30 1984-02-06 Hitachi Ltd 走査型反射電子回折顕微装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50146267A (ja) * 1974-05-13 1975-11-22
JPS58223250A (ja) * 1982-06-21 1983-12-24 Hitachi Ltd 反射電子回折装置
JPS5923444A (ja) * 1982-07-30 1984-02-06 Hitachi Ltd 走査型反射電子回折顕微装置

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