JPS6129813A - 合焦検出装置におけるサンプリング補正装置 - Google Patents

合焦検出装置におけるサンプリング補正装置

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JPS6129813A
JPS6129813A JP15105184A JP15105184A JPS6129813A JP S6129813 A JPS6129813 A JP S6129813A JP 15105184 A JP15105184 A JP 15105184A JP 15105184 A JP15105184 A JP 15105184A JP S6129813 A JPS6129813 A JP S6129813A
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JP
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light receiving
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Application number
JP15105184A
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English (en)
Inventor
Asao Hayashi
林 朝男
Junichi Nakamura
淳一 中村
Yuji Imai
右二 今井
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6129813A publication Critical patent/JPS6129813A/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/36Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Focusing (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、合焦検出装置におけるサンプリング補正装R
1更に詳しくは、カメラや顕微鏡等の結像光学系からの
光束を光軸な挾んで2分して結像させ、2つの像のずれ
泄から合焦状態を検出する合焦検出装RVcおいて、合
焦検出精度を上げるために受光素子出力のサンプリング
点の位置を補正する装置に関する。
(従来技術) 合焦検出装置には、大別して慮のコントラストを検知し
て合焦検出を行なうものと、隊の横ずれ(受光面方向の
ずれ)を発生させてそのずれ童から合焦検出を行なうも
のとの2つがあるが、前者に較べて後者は、低コントラ
ストの被写体に対しても合焦検出精度が高く、また、ピ
ントが大幅に外れていても前ビンか後ビンかを判別でき
る点で優れている。以下、この種の合焦検出装置につい
て説明する。
第2図は、像の横ずれを利用した、合焦検出装置の一例
を説明するための、光学系の概略構成を示す拡大断面図
である。カメラ、顕微鏡等の結像レンズ1を通過する被
写体光は光軸4に対して同光軸4を通り垂直に1列に配
設された2つの受光素子#A、Bからなる受光素子列3
に結像されるよ5になっている。この受光素子列3の第
1の受光素子群へのn個の受光素子3A+ 、・・・、
5Aj、・・・。
5Anと、第2の受光素子群Bの受光素子3Bt、・・
・。
3B1.・・・、 3Bnとは順次交互に等間隔に配置
されて受光素子群A、Bの各1個の受光素子同士が組み
合わされて対をなしている。受光素子列5の前方位置に
は、遮光部2aとスリット2bを有するストライプマス
ク2が横ずれ発生光学系として配設されている。このス
トライプマスク2を結像レンズ1からの光束が通過する
ことによって受光素子列3の受光面に2つの像がずれた
状態で形成される。
第3図は、上記第2図中の光軸付近に存在する受光素子
5Ajと3BIKi目した解析図であって、さらに、こ
の図によって鐵の横ずれが起きる原理を説明する。受光
素子3A1.3Biは結像レンズ1の開口部からの光を
受光するが、光がレンズ開口部のうちのどの部分を通過
してきたかによってその光を受光する割合が異なる。結
像レンズ1の開口半径をkとし、レンズ1の中心から直
径方向に変位Xをとり、位置Xを通る光に対する受光素
子5Ai、3Biの受光する割合なη(X)とすると、
このη(X)は第4図に示すようになる。即ち、位置X
を通る光を受光素子3Aiが受光する割合は特性線7A
jで示され、また受光素1子3Bjが受光する割合は特
性線7Biで示される。この場合、各受光素子3Ai 
、 3B1はレンズ1の開口部全面からの光を受光し、
η(X)の分布形状はレンズ中心位@X=Oに関して対
称な形状となる。第4図中、8Ai、8B1は、それぞ
れ特性線7AIとX軸、特性線7BiとX軸で囲まれる
面積を2等分する線であり、その線8Ai。
8Biのレンズ1上の位置5Ai、5Biを通る光を、
それぞれ受光素子3Ai 、 3田に対する重心光と呼
ぶことにすると、この重心光の光路は第3図中、6A1
゜6Biで示されるものとなり、光路6Ai、sBjの
重心光はそれぞれレンズ1の中心を挾んだ上下部から光
軸4を交叉してスト、ライブマスク2のスリット2bを
通り各受光素子3Ai、5Biに入射する。このことは
、光軸4から離れた位置に存在する他の受光素子に対し
ても同様である。
6光の光路6Ai、6Bjを示したものである。光路6
Ai、6Bjが光軸4と交わる点が合焦位fll P 
oであり、同合焦位置Poより結像レンズ1がわ寄りの
位置が後ビン位置P、となり、結像レンズ1から遠去か
る位置が前ピン位置P2となる。上記ストライプマスク
2を有する受光素子列3を後ビン位置Pis合焦位置P
O+前ビン位置P2に置いたとき、受光菓子列3の受光
面に形成される像パターンはそれぞれ第6図(A) 、
 (B) 、 (C)に示すようになる。即ち、受光素
子列3を後ビン位置PKに置いた場合には、第6図(A
)に示すように受光素子群A、Hの受光面に、鍬が12
A 、 12Bのようにずれて形成され、また、受光素
子列3が合焦位置Poにある場合には第6図(B)に示
すように廉の横ずれかなく、受光素子同士、Bの受光面
に1つに合致したgI!!12が形成され、さらに、受
光素子列3を前ピン位置P2に置いた場合には、第6図
(C) VC示すように、上記前ビン状態とは逆に、像
12Aと12Bとの位置が入れ替った状態で横ずれして
形成される。
ここで、被写体輝度がなだらかに変化する被写体を選び
、同被写体の像が受光素子列3の受光面に横ずれして形
成され【いるとすると、この受光素子列3の受光面上の
変位に対する受光素子群A。
Bの各素子出力は第7図に示すようになる。線13は第
1の受光素子群Aの各受光素子(3Ale 3A21 
#・・)の出力a、、a、、・・・の包絡線であり、線
14は第2の受光素子群Bの各受光素子(3BxjB2
.・・・)の出力b□、b8.・・・の包絡線である。
ところで、各受光素子は受光素子列3の長手方向にある
躯を有しているので、1つの受光素子はその幅に対応し
た像の領域からの情報を受けることになる。これを図で
表わすと、第8図(A) 、 (B)に示すようになる
即ち、前述したように、受光素子列3の受光素子群A、
Hの前面にはストライプマスク2が設けられ【いるので
、第8図(A)にその一部を拡大して示すように、ある
1つの受光素子5Biの前方位置(図では上方位置)に
ストライプマスク2の一部が存在する。そして、受光素
子列3の受光面には、第8図(B)に示すように線17
で示すような強度分布特性の鍬が得られている場合、上
記受光素子3Biは、強度分布特性17の2点17−1
と17−2間の領域からの情報を受け、出力!五を発す
る。そこで、この出力す、と同じ出力を得るための均一
な像の強度分布特性18を想定すると、この2つの強度
分布特性17と18の交点17−3に対する受光面上の
位置19は受光素子出力に対応した慮面上の代表点であ
る。以下、この点19をサンプリング点と呼ぶ。
サンプリング点19が受光素子3Bfの受光面の中央に
存在していないのは、ストライプマスク2の遮、元部2
aによりて片側が重点的に遮光されているためであり、
サンプリング点19は受光面中央よりストライプマスク
2のスリ7) 2bの形成されている側に片寄ることに
なる。このようなサンプリング点は受光素子列3の全受
光素子についても同様であり、第7図に示すように受光
素子列3上の各、受光素子3ki、3Bi、5に、3B
−の出力”i+ bis ai+1+1+1   1+
1 bjlのサンプリング点16Ai、 1<5Bi、 1
6ki+s。
16Bi+□ は受光面上でこの順で配列する。
ここで、鍬の横ずれを利用して合焦検出を行なうための
評価関数の一例を示すと、この評価関数fは、 f=、Σ (Iai−z  b、l  lad  b、
l ) ・・・・(i)!−1 である。この(1)式の意味するところは、第7図にお
いて、受光素子出力a、のサンプリング点16A1と受
光素子出力a i 4□のサンプリング点16A1+□
の間隔を1ピツチとすると、受光素子群人の素子出力の
包絡線13を牛ピッチ分だけ左にずらした#15−1と
受光素子群B17)素子出力の包絡線14とに囲まれる
部分の面積と、包絡線13を半ピッチ分だけ右にずらし
た線13−2と包絡線14とに囲まれる部分の面積との
差である。この評価関数fは、正しく合焦検出を行なう
ときは、前ピン、合焦、後ピンの各焦点状態によって第
9図に実線20で示すような値をとる。即ち、評価関数
fの値は、後ピン、前ピンでそれぞれ正、負の値となり
、合焦状態でOとなる。そして、このときは、上記受光
素子出力aA、bi、ai+1.b1+□のサンプリン
f 点16At e 16B’ a’ 6A1 + 1
 e 16B 7+□が等間隔に配列されなければなら
ない。
しかし、上記第2図に示した合焦検出装置の光学系にお
いては、第10因に拡大して示すように、受光素子群λ
の受光素子3i、 3Aj+1.・・・、の間隔を1ピ
ツチ(P)とすると、受光素子nA、Bの各受光素子3
11.3Bi、 3Aム+1,3B田を1/2Pの等間
隔に配列しているために、これらの各受光素子はストラ
イプマスク2によってその片側が重点的に遮光されると
、各受光素子出力のサンプリング点22λie 22B
i、 22に4+ss 22E1.+□は受光素子の中
央よりストライプマスク2のスリット2bの側に片寄っ
て等間隔に配列されないことになる。このため、上記(
1)式に示す評価関数fは上記第9図に東線20で示す
ようにはならず、破N21で示すような値をとる結果と
なり、合焦誤差を発生してしまうO そこで、本出願人は、上配合焦娯差を生じさせないため
に、2つの受光素子群A、Hの各受光素子出力のサンプ
リング点の位置から第3の出力分布のサンプリング点を
補間して求めて各サンプリング点のピッチ間隔の補正を
行なった合焦検出装置(Q!j願昭58−70587号
)および2つの受光素子群A、Bの各受光素子出力のサ
ンプリング点の位置を見積り、各サンプリング点のピッ
チが等間隔になるように受光素子群人、Bの各受光素子
の配列間隔を補正した合焦検出装置(特願昭58−70
588号)を既に提案した。従って、これらの合焦検出
装置により原理的には精度の高い合焦検出が行なわれる
ことになる。しかしながら、実際に製作された合焦検出
装置では、フレアが発生することによって受光素子出力
が複雑な影響を受けてしまい正確な合焦検出出力を得る
ことはできなかった。
以下、さらに、この点について詳述する。
第11図は像の鮮明度および横ずれを検知して合焦検出
を行なう合焦検出装置を備えた一眼レフレックスカメラ
の光学系の概略断面図である。第11図において%撮影
レンズ23(結像レンズ1)からの光束は、一部にハー
フミラ−24aを形成されたクイ、クリターンミラー2
4Vcよって反射されて上方のファインダー光学系(図
示されず)に導かれると共に、ハーフミラ−24aを透
過した光束は、クイックリターンミラー24の後方に設
けた全反射ミラー25によって下方の焦点検出装置26
のビームスプリッタ27に導かれる。ビームスプリッタ
27は2つの光路分割面27a、 27bを有している
ので、入射光束は、ここで2つの光路に分割されたのち
、それぞれの光束は下方の横ずれ発生光学系であるスト
ライプマスク28を通して受光基板29上に設げた、2
つの受光素子列51.52に入射する。
2つの受光素子列31.32の受光面は、フィルム面の
位置に等しい撮影レンズ23の予定焦土面66の前後に
、それぞれ光路差1を隔てた位954.55と光学的に
等価の位置にある。ストライプマスク28と受光素子列
31.32の配置関係は第12図に示すようになってい
る。受光素子列51.52はそれぞれ2n個の受光素子
からなる。即ち、受光素子列31は第1の受光素子#A
のn個の受光素子31人1〜31Anと、この各受光素
子と交互に配置される第2の受光素子群Bのn個の受光
素子31B1〜31Bnとからなり、隣接する6対の受
光素子61八1と31Bs、・・・。
31Aiと31B1. oss、 31Anと31Bn
の各一部は各マスク28aと対向している。同様に、受
光素子列52は第1の受光素子群Aのn個の受光素子3
2A1〜32Anと、この各受光素子と交互に配置され
る第2の受光素子群Bのn個の受光素子52B1〜52
Bnとからなり、6対の受光素子32Alと52Bt、
・・・、32AJと52Bi、@拳a、 52Anと3
2Bnの各一部は各マスク28aと対向している。
ストライプマスク28のマスク28&により、撮影レン
ズ23の射出瞳の2つの部分、即ち、第11図において
、光軸4を含む紙面に平行な面を境とする手前側の部分
を透通した光束と向い側の部分を透過した光束とを分離
して各光束が、2つの受光素子列31.32に対してそ
れぞれ第1の受光素子群人の各受光素子31A1〜51
An 、32A1〜32Anと第2の受光素子群Bの各
受光素子31B1〜5iBn、 32B1〜32Bnに
入射する。このようにストライプマスク2日は2つの受
光素子列31.32のそれぞれについて、その第1の受
光素子群人と第2の受光素子群Bとに、前記@4図で説
明したように、それぞれ受光量の角度依存性を持たせて
いる。
上記合焦検出装置26において、上記2つの受光素子列
31.32の受光面が予定焦XF面33の前後の位置5
4.55と光学的に等価な位置に配置されているので、
各受光菓子列31.32の出力からそれぞれの受光面に
おける像の鮮明度および横ずれ状態を求めて合焦検出の
評価が行なわれるようになっている。ところで、この場
合の像の横ずれを利用した合焦検出のための評価関数f
oは、受光素子列31に関する評価関数f、と受光素子
列32に関する評価関数f2を加算したものになる。即
ち、評価関数f、、f、を、例えば、前記(1)式に示
した評価関数fと同様のものとすると、ff価関数’r
+b+16は、である。従って、上記合焦検出装置26
が正しく合焦検出を行なうことができる状態であれば、
第13図に示すように、評価関数f、 、 f、はそれ
ぞれ実線41.42で示す値をとり、従って、合焦検出
を行なうための評価関数foは実線46で示すような値
をとるはずである。しかし、上記合焦検出装置26では
、実際には、上記評価関数f、 、 f2は第13図に
それぞれ破線41’t42’で示すような値をとるとと
kなり、ピント位置がそれぞれ上記位置54 、35に
一致したとき評価値が0にはならず、評価値が0となる
位置ではそれぞれ位置54 、55からのレンズ移動量
にしてδ1.δ8の誤差量を生じている。その結果、評
価関数foも破線43′で示すような値をとることにな
り、実際の合焦状態の位置から誤差蓋δだけレンズが移
動した位置で合焦状態の判定を行なってしまうことにな
る。このように、実際の評価値に誤差を生じてしまう理
由としては、前述したストライプマスク28によるほか
に、次に述べるフレアの発生に起因して受光素子出力の
サンプリング点が等間隔にならないからである。特に、
このフレアは両方の受光素子列31.3211C同様に
発生するものではなく、例えに、一方の受光素子列31
に関して大きく、このため、上記第13図から明らかな
ように、δ1〉δ2となっている。即ち、上記合焦検出
装置26のビームスプリツタ270光路分割面27gは
手透鏡面であり、光路分割面27bは全反射面であるた
め、第14図に拡大して示す合焦検出装置26において
、上記光軸4に清って進む光束は、ビームスグリツタ2
7に対して一点鎖線で示す光束44として入射して受光
素子列31.32に導かれるが、ビームスプリッタ27
の光路分割面27aを透過して受光基板29に向って破
線で示すように光束45が入射した場合、同党東45は
受光基板29のアル1ニウム蒸着された上面29aで反
射したのち、ビームスプリッタ27でさらに反射して一
方の受光素子列31に入射しフレアを発生することがあ
るが、この光束45の成分は他方の受光菓子列32には
ほとんど導かれない。つまり、受光素子列31と32と
はビームスグリツタ27の構成上全く同様な環境には置
かれていない。また、ビームスプリッタ27は合焦検出
装置26を安価に製作する目的から底面27Cを研摩し
ないまま用いられることがしばしばあり、このような場
合、このビームスグリツタ27の底面27cを通る光が
散乱して受光素子列31.32に入射し、フレアを発生
することになる。このように、受光素子列31,32に
は合焦検出に不要の光が導かれフレアとなって悪い影響
を及ぼし、しかもこのフレアによる影響は受光素子列3
1.32では必ずしも均等ではない。このようなフレア
はできるだけ低減させることが望ましいのは勿論である
が、完全に除去することは現実的に不可能である。
また、このフレアの状態は、合焦検出装置26の生産の
ロフト毎に異なるのが−it通である。今、仮に、上記
フレアにより、受光素子列31上の各位置(X)で同量
の受光量の変化があったとすると、前記第4図を用いて
説明すれば、受光割合は特性線5QAi。
50B1で示すように増加し、その重心位置もm i 
8Ai 18Biをそれぞれγだげ中心寄りに動かした
線51Ai。
51B1とX軸とが交わる位置52λf、 52Bjに
なる。
しかし、上記の7レアによってサンプリング点の位置の
変化があった場合、このサンプリング位置の変化を考慮
し、前述した先願の合焦検出装置によって完全に補正す
ることはできない。従って、実際に製作された合焦検出
装置26では、このように予期しない不特定な、フレア
などの原因で生ずるサンプリング点のずれのために合焦
検出精度が劣化することはある程度は止むを得ないもの
とされていた。
(目的) 本発明の目的は、上述の問題点に鑑み、光学系によって
異なる状態のフレアなどが発生しても、このフレアによ
る受光素子出力のサンプリング点のずれを補正して、精
度の高い合焦検出を行なう合焦検出装置におけるサンプ
リング補正装置を提供するにある。
(a要) 本発明の合焦検出装置におけるサンプリング補正装置は
、第1の受光素子群の出力のサンプリング点に対する第
2の受光素子群の出力のサンプリング点の位置を、外部
から任意に設定しうる補正係数によって補正するように
したものである。
(実施例) 以下、本発明を図示の実施例によって説明する。
本発明が適用される合焦検出装置では、上記第12図に
示されるように、2つの受光素子列31゜62において
、受光素子群Aの各受光素子と受光素子群Bの各受光素
子とは、特に配列間隔を変えることなく、それぞれ交互
に等間隔に配列されている。
被写体輝度のなだらかに変化する被写体録が例えに1受
光素子列51の受光面に形成されている場合を考えると
、合焦状態にあっては、第15図に示すように、受光面
上の変位に対する受光素子群Aの各受光素子出力”i、
”j+t+ ai+s++・・・および受光菓子群Bの
各受光素子出力b1.bi+□+ ’)i+2+・・・
は1つの包絡線53上に存在しているが、各受光素子出
力a7. bi、 ai+xr bi+t+ ”’のサ
ンプリング点54At+ 548in 54Ai+1.
54B1+1は等間隔には配列されていないbここで、
受光素子31B1  の出力す、とこの受光素子群Bに
おいて受光素子31Biに隣り合う受光素子31Bi+
1の出力b4+sとから補正値b j/を求めると、 bi′=αbi+(1−α)bi+t  ・・・・・(
3)となるので、この補正値b 、’0)サンプリング
点54Bi’が受光菓子出力の受光素子31Ajの出力
aiのサンプリング点54Aiと受光素子”i+tの出
力ai+tのサンプリング点54Ai+、との中央に配
置されるように上記(3)式中の補正係数αの値を選べ
ば、受光素子群Aの各受光素子出力と、受光素子群Bの
各受光素子出力から得た各補正値との演算によって合焦
検出のための評価関数を求めることができる。
即ち、上記一方の受光素子列31について、その評価関
数を求めることができるので、他方の受光素子列32に
ついても、上記受光素子列31とは独立に同様にしてそ
の評価関数を求めることができる。
つまり、前記(1)式において、受光菓子出力す、の代
りに上記補正値bi′を用いることにより、f′−1Σ
(I a i+s −b、l −1a、−b、’I >
−−−−(4)となるので、2つの受光素子列31.3
2を有した合焦検出装置26においては、前記(2)式
からとなる。従って、この(5)式の評価関数f。/を
求めることによって精度の高い合焦検出を行なうことが
できる。なお、受光素子出力b1とbitlとから補正
値J/を求めるようにしているが、受光素子出力a7と
ai+xとから補正値a 、 /を求めるようにしても
よいこと勿論である。
第1図は、本発明のサンプリング補正装置を適用した自
動合焦装置の電気N路の概略構成を示すブロック図であ
る。撮影レンズ23(結鍬レンズ1)ハモ−タロ0によ
って光軸方向に駆動されるようになっている。撮影レン
ズ23を通過した光束はストライプマスク28および受
光素子列31.52からなる受光部分に導かれることに
より、受光素子列31゜32の各受光素子群A、Bから
なる光電変換部61によって電気信号に変換される。受
光素子列31゜62ハ例工id、CCD(@荷結合’t
i= 子) + M OS 7オトダイオードアレイな
どの同体撮@素子により形成されている。光電変換部6
1内の受光素子列31.32の受光素子群A、Bは駆動
回路66からのスタート信号により動作されて一定時間
積分が行なわれるようになっており、積分が終了すると
、このあと、この受光素子群A、Hにチャージされた光
電変換信号が各別に順次読み出される。この順次読み出
された光電変換信号はA/D変換器62に導かれ、ここ
でディジタル信号に変換されたのち、記憶回路63に記
憶される。記憶回路63に記憶された値は演算回路64
に取り込まれる。また、補正係数設定(ロ)路65には
P−几OM(プルグラマプル・リードオンリーメモリ)
又はビットスイッチなどが内蔵されていて、調整時に任
意の補正係数αが入力設定される。この設定された補正
係数αは上記演算N路64に導かれるので、演算回路6
4では、上記(3)式に示した補正値bI′を求める演
算が行なわれ、さらにこの求められた補正値bitが記
憶回路65に導かれたあと、演算回路64で、この補正
値bi′を基にして上記(5)式の評価関数fo′を求
める演算が行なわれる。
このようにして得られた評価関数f、Iの値は制御回路
67に導かれるので、制御回路67からの制御信号によ
りモータ60が制御され撮影レンズ23が駆動される。
また、A/D f換器62.記憶回路63、演算回路6
4.補正係数設定回路65および駆動回路66はそれぞ
れの動作タインングな、定められたプログラムで動作′
する制御回路67の出力により制御されるようになって
いる。従って、撮影レンズ23は自動的に合焦位置に制
御されることになる。
撮影レンズ23が合焦位置に制御されたときは、表際の
調整方法を述べる。−眼し7レツクスカメラ内には、第
16図に示すように、合焦検出装置26のほかに、予定
焦平面33と光学的に等価な位置に。
調整用受光素子69が配設されている。従って、この調
整用受光素子69の出力により鍬の鮮明度を評価すると
、撮影レンズ23の移動に対して、受光素子69の出力
による評価値は第17図に示す曲線70のように変化す
るので、評価値がピークとなる位置Zoが予定焦平面6
6の位置に一致することになる。一方、実際に、合焦検
出に用いられる合焦検出装置26の受光菓子列61.3
2からの出力による評価値は、それぞれ曲線71.72
で示すように変化しているものとする。この第17図か
ら明らかなよ5に、上記曲線70により予定焦半面33
の位置、即ち、合焦位置Z0が決まれば、受光系子りυ
31゜32による横ずれの評価値が最適であるか否かが
判定できることになる。この第17囚においては、受光
素子列62に関する評価値(曲線72)が適正であり、
受光菓子列31に関する評価値(曲線71)が不適正で
あることを示している。即ち、合焦位置Zoと、受光素
子列62の出力による評価値が0になったとぎの位置z
2との間の距離が光路差1に一致しているのに対して、
受光素子列31の出力による評価値が0になるときの位
置Z、/は上記位fix Z 。
から光路差!だけ離れた位置Z1との間にΔZの距離の
ずれを生じている。その結果、受光菓子列31と32と
の評価値から、合焦検出のための評価値が曲線76のよ
うに求められることとなり、この曲線73で示される評
価値が0となる位置Z。lは上記合焦位置Z0と一致し
ないことがわかる。受光素子列61の適正な評価値は点
線で示す曲線74であり、このような評価値曲線が得ら
れれば、合焦検出のための評価値は点線で示す曲線75
のように変化することになる。つまり、この調整によっ
て、受光素子列31の出力による評価値に関し、レンズ
移動量にして距離ΔZの補正を行なえばよいことがわか
る。なお、他方の受光素子列32の評価値も適正でない
場合、同様にしてこの受光素子列62の評価値に関して
その補正量ΔZを求めてもよいが、2つの受光素子列5
1.52の評価値がいずれも適正でない場合には、いず
れか一方の受光菓子列の評価値が0になる位置と上記合
焦位置Zoとのffi離を基準にして光路差1を定め、
他方の受光素子列pFF価値に関して補正量ΔZを求め
るようにしてもよい。
そこで、次に上記補正量ΔZと前記補正係数αとの関係
を考えると、被写体輝度のなだらかに変化する被写体像
が受光素子列31の受光面に形成されている場合1合焦
状態では、前記第15図に示したように、受光面上の変
位に対する受光素子群Aの各受光素子出力a・ a・ 
、a・ 、・・・および受1−   1+夏     
1十2 光累子群Bの各受光素子出力す、、 b1+□、bi+
□、・・・は一つの包絡線53上に載っているのである
が、受光素子群Bの受光素子出力す、のサンプリング点
54Biの位置は、受光素子群λの受光素子出力aiの
サンプリング点54Aiと受光素子出力a1+1のサン
プリン・グ点54人1+□どの中間位置には存在しない
ため、前記(2)式に示す評価関数”””’I+fzに
よって評価を行なうと、あたかも、受光素子群Aの受光
素子出力aD ai+1.ai+zのfyグリンク点5
4Ai。
54Ai+t+ 54A7+□の中間位fit 54B
j ’ # 54El’j +1154B7/+。
に上記受光素子出力す、、 bt+s+ bt+sのサ
ンプリング点が存在しているかのように見なされてしま
う結果、実際の受光素子群A、Bの受光素子出力が包絡
線56上に存在していて合焦状態であるにもかかわらず
、見かけ上、受光素子群Bの受光素子出力は受光素子#
人の受光素子出力に対して受光面に沿って(1−α)P
だけ変位した破線で示す包絡線55上にあって非合焦状
態であると判定されてしまう。従って、上記補正蓋ΔZ
が上記(1−α)Pに等しくなるように、補正係数αを
決定すればよいことになる。つまり、 ΔZ α=1−□   豐・・・・(6) から補正係数αが求められる。実際には、上記第17図
に示す評価値を測定しながら、レンズ移動の補正量ΔZ
が零になるように、補正係数αを変えて入力してやれば
よい。上記(6)式を満たす最適な補正係数αが決定す
ると、上記第17図に示す評価値の線71は点線で示す
曲線74のようになり、その結果、曲線74で示す評価
値と曲線72で示す評価値との和から曲線75で示す評
価値が得られるので、合焦位置Zoで評価値は零となり
、正しい合焦検出が行なわれるようになる。
なお、上記実施例では、ディジタル信号により演算処理
を行なう場合を説明したが、アナログ信号を用いて演算
を行なうようにしてもよい。この場合、例えば、第18
図に示す補正係数設定回路8゜を用いればよい。即ち、
この補正係数設定N路8゜はα発生用半固定抵抗81と
、同半面定抵抗81に連動する(1−α)発生用半固定
抵抗82とを有していて、これらの半固定抵抗81,8
2の一端は受光菓子列311或いは32の出カイぽ号が
印加される端子83およびアナログ演舞器84の第1の
入力端子に接続され、抵抗81.82の他端は接地され
、また、半固定抵抗81.82の摺動接片鳩子81a1
828はそれぞれアナログ演算器84の第2.第6の入
力−子に接続されている。上記半固定抵抗81を補正係
数αの抵抗(+&に設定すると、これに連動して上記半
固定抵抗82の抵抗値は(1−α)に設定される。使っ
て、端子86から補正係数設定N路80に受光素子出力
b・が導かれると、この受光素子出力す、はア瓢 ナログ演真器84の第1の入力端子にそのまま導かれ、
受光素子出力す、に補正係数αを川けた信号αbIが第
2の入力端子に導かれ、さらに、受光素子出力b1に(
1−α)を掛けた信号(1−α)blが第6の入力端子
に導かれる。これらの信号がアナログ演算器84に入力
されると、アナログ演舞器84は、前記(3) 、 (
51式VC基いて補正演算を行ない、この補正演算後は
周知のアナログ演算を行なって表示用、或いはレンズ駆
動用の出力信号を出力端子85に送出する。なお、上記
補正係数設定回路80の、アナログ演算器8403つの
入力端子に向けて出力される信号は同一時間の信号であ
るので、アナログ演算器84では補正演算に先立ち、信
号を一時的にホールドして・ ai・bi・ai+x・
bi+1  の信号を用いて、前記(31、(51式の
演算が行なわれるようになっている。
また、上記実施例は、予定焦平面35の前後の位置34
.35と光学的に等価の位置にそれぞれ受光素子列31
.32を配置した合焦検出装置について述べたが、例え
ば、前記第2図に示したように一列の受光素子列3を予
定焦平面63に等価な位置に配置した合焦検出装置にも
適用できる。即ち、第19図に示すように、このような
合焦検出装置90においては、例えば、赤外光カットフ
ィルタ91が用いられるので、撮影レンズの光軸4に清
って進む光束は、一点鎖線で示す光束94として入射し
受光素子列5に導かれるが、破線で示すように光束95
 、96が赤外光カットフィルタ91に入射した場合、
光束95、96は受光基板97のアルミニウム蒸着面か
らなる上面97aで反射したのち、再び赤外光カットフ
ィルタ91或いはストライプマスク2で反射して受光菓
子列3に導かれる。従って、この光束95゜96が7レ
アとなって受光素子列3の受光素子群A、Hの各受光素
子出力のサンプリング点のずれをもたらすことになる。
そこで、この合焦検出装[90においても、前記実施例
と同様にして%調整用受光素子を予定焦平面36と等価
な位置に配置して受光菓子列3の出力による評価値から
合焦位置との補正量ΔZを求めることによって補正係数
αを設定し、この補正係数αを用いて合焦検出のための
評価値の演算を行なえば、精度の高い合焦検出の評価を
行なうことができる。
筐だ、横ずれ発生光学系については、必ずしもストライ
プマスクに限られるものではなく、例えば、特願昭56
−159218号に述べられている微小プリズム等を用
いてもよい。
さらに、上記実施例の合焦検出装置は受光素子出力の横
ずれの評価値を求め、このレンズ移動により評価値が0
0値のときに合焦状態を検出するものであるが、合焦位
置からのデフォーカス量を直接求めるようにしだ合焦検
出装置にも本発明を適用することができる。即ち、この
ような合焦検出装置において、受光素子列3の受光素子
群Aの各受光素子と受光素子*Bの各受光素子とがそれ
ぞれ(n+1)個交互に配列されている場合、今、」を
任意の整数としたとき、 なる関数PI)を定義する。すると、上記実施例と同様
にして前記(・6.)式により補正係数αを決定し、こ
の補正係数αから、 ”i+J ”’αbi+j十(1−α)bi月+1 ・
・・・・(8)によって補正された受光素子出力b1+
Jを求めて、これを上記(力式に代入することにより上
記(7)式を基にしてデフォーカス量dF’と正確に対
応する値がjをJoとする。jo = 00ときが合焦
であり、j。
がそれ以外の値をとるときは隊の横ずれが23o Pだ
け生じていることになる。従って、第20図に示すよう
に、受光素子tHA、BVcそれぞれ入射する光束の主
光束100A 、 100Bのなす角をθとすると、撮
影レンズ23のピント位置から予定焦平面33までのデ
フォーカスjtdFは oP dF=□   ・・・・・(9) tanθ となる。上記角度θと撮影レンズ230F値との間には
、tanθ7の関係があるので、上記(9)式はdF 
= 2PjoP   、、、、、  (l□)となり、
デフォーカス量dFが求められ、このデフオルカス童d
Fだけ撮影レンズ23を移動すれは合焦状態になる。
(効果) 以上述べたように、本発明しζよれば、受光素子出力の
サンプリング点の位置を補正するための補正係数を外部
から任意に設定できるようにしているため、製作時の状
態によって生ずる個々のサンプリング点の位置ずれを含
めて、希望する位置にサンプリング点の位置を新たに求
めて補正することができ、精度の高い合焦検出を行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のサンプリング補正装置を適用した自
動合焦装置の電気回路の概略構成を示すプ尊ツク図、 第2図は、合焦検出装置の一例を説明するだめの概略構
成を示す拡大断面図、 第3図は、上記第2図中の光軸付近における重心光の光
路の解析図、 第4図は、レンズ径方向変位に対する、光軸付近の受光
素子の受光割合を示す特性図、第5図は、結像レンズに
よる点光源の結傳位置と受光位置との関係を示すための
図、 第6図(A)、(B)、(C)は、それぞれ上記第5図
の各受光位置における隊の形成状態を示す図、第7図は
、上記第2図に示す受光素子列の受光面上変位に対する
受光素子出力を示す図。 第8図(A) 、 (B)は、上記第2図に示す受光素
子列の1つの受光素子付近の断面と、この受光素子の受
光面上変位に対する鍬の光強度を示す図、第9図は、レ
ンズ移動量に対する鐵の横ずれ童を検出するための評価
関数を表わす図、第10図は、上記第2図に示す合焦検
出装置の受光部分をさらに拡大した断面図、 第11図は、本発明が適用される、家の鮮明度および横
ずれを検知して合焦検出を行なう合焦検出装置ヲ備えた
一眼し7レツクスカメラの光学系の概略断面図、 第12丙は、上記I!11図における合焦検出装置の受
光部分を拡大した半面図、 第15図は、上記第11図における合焦検出装置による
横ずれ評価関数を表わす図。 第14図は、す/ブリング点のずれの原因となるフレア
を説明するための上記紀11図における合焦検出装置の
拡大図、 第15図は、本発明のサンプリング補正装置において、
補正値を求める方法をa8Aするための各受光出力群の
像出カバターン図。 第16図は1本発明のサンプリング補正装置において、
補正係数を求めるために、カメラ内に補正用受光素子を
配置した構成図、 第17図は、上記第16図に示す配fit構成によって
得た像の鮮明度と横ずれの評価関数を表わす図。 第18図は、アナμグ値で処理を行なう補正係数設定回
路の一実施例を示す電気回路図、第19図は5本発明が
適用される合焦検出装置の他の例において、フレアの発
生を説明するための断面図。 第20図は、本発明が適用される合焦検出装置の更に他
の例において、飽の横ずれ蓋とデフォーカス量との関係
を説明するための解析図である。 1.26・・・・・・結像レンズ、撮影レンズ(結祿光
学系)2.28・・・・・・ストライプマスク(横ずれ
発生光学系)3.31.32・・・・・受光素子列 16Ai、16Bi、22Ai、22Bi+19,54
Ai、54Bi  ・・・・・サンプリング点 54Bi/・・・・・補正されたサンプリング点65.
80・・・・補正係数設定回路 69・・・・・・・補正用受光素子 A ・・・・・・・第1の受光素子群 B ・・・・・・・第2の受光素子群 ai ・・・・・・・第1の受光素子群A中のi番目の
受光素子出力 b・・・・・・・・第2の受光素子群B中のi番目0受
光素子出力 α ・・・・・・・補正係数 特許出願人    オリンパス光学工業株式会社A 翫を一七掴l−1−引俊 −バ 喘6厭慰劃 ω 川 手 続 補 正 書 (自発)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 結像光学系を通過した光束を横ずれ発生光学系を介して
    第1および第2の受光素子群に導くことにより結像光学
    系のピントのずれ量に応じて横ずれする第1および第2
    の光分布パターンをそれぞれ上記第1および第2の受光
    素子群の受光面に形成させ、この第1および第2の受光
    素子群からの第1および第2の出力分布を基にして合焦
    状態の検出を行なう装置において、 上記第1の出力分布の各出力のサンプリング点に対する
    上記第2の出力分布の各出力のサンプリング点の位置を
    外部から任意に設定した補正係数を用いて補正したこと
    を特徴とする合焦検出装置におけるサンプリング補正装
    置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4994841A (en) * 1987-11-06 1991-02-19 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Automatic focus detecting means
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JPH07256379A (ja) * 1993-11-01 1995-10-09 Ethicon Inc 外科針の製造方法

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