JPS61294860A - バイポ−ラトランジスタの製造方法 - Google Patents
バイポ−ラトランジスタの製造方法Info
- Publication number
- JPS61294860A JPS61294860A JP60136409A JP13640985A JPS61294860A JP S61294860 A JPS61294860 A JP S61294860A JP 60136409 A JP60136409 A JP 60136409A JP 13640985 A JP13640985 A JP 13640985A JP S61294860 A JPS61294860 A JP S61294860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- base
- collector
- emitter
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60136409A JPS61294860A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
| EP86304785A EP0206787B1 (en) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Heterojunction bipolar transistor and method of manufacturing same |
| DE8686304785T DE3682959D1 (de) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Bipolarer transistor mit heterouebergang und verfahren zu seiner herstellung. |
| US07/048,470 US4746626A (en) | 1985-06-21 | 1987-05-08 | Method of manufacturing heterojunction bipolar transistors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60136409A JPS61294860A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294860A true JPS61294860A (ja) | 1986-12-25 |
| JPH0453108B2 JPH0453108B2 (cs) | 1992-08-25 |
Family
ID=15174484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60136409A Granted JPS61294860A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294860A (cs) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63226962A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-21 | Nec Corp | ヘテロ接合バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
| JPH01146362A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-08 | Nec Corp | ヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP60136409A patent/JPS61294860A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63226962A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-21 | Nec Corp | ヘテロ接合バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
| JPH01146362A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-08 | Nec Corp | ヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0453108B2 (cs) | 1992-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5155561A (en) | Permeable base transistor having an electrode configuration for heat dissipation | |
| EP0206787B1 (en) | Heterojunction bipolar transistor and method of manufacturing same | |
| JPH0797589B2 (ja) | ヘテロ接合型バイポ−ラトランジスタの製造方法 | |
| JPH02252267A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS61294860A (ja) | バイポ−ラトランジスタの製造方法 | |
| JPS6218761A (ja) | ヘテロ接合トランジスタの製造方法 | |
| JPH0452627B2 (cs) | ||
| JPS62152165A (ja) | バイポ−ラトランジスタの製造方法 | |
| JPH0453110B2 (cs) | ||
| JPS6218762A (ja) | ヘテロ接合トランジスタおよびその製造方法 | |
| JP2623655B2 (ja) | バイポーラトランジスタおよびその製造方法 | |
| JPH0577172B2 (cs) | ||
| JPH0577173B2 (cs) | ||
| JPH0453106B2 (cs) | ||
| JPS6216569A (ja) | ヘテロ接合トランジスタおよびその製造方法 | |
| JPH02188964A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH0577174B2 (cs) | ||
| JP2924007B2 (ja) | 化合物半導体装置及びその製造方法 | |
| JPH0453109B2 (cs) | ||
| JP2841380B2 (ja) | ヘテロ接合バイポーラトランジスタ | |
| JPS61294859A (ja) | バイポ−ラトランジスタの製造方法 | |
| JPH0575169B2 (cs) | ||
| JPS6381977A (ja) | ヘテロ接合バイポ−ラトランジスタ | |
| JPS6221272A (ja) | ヘテロ接合トランジスタの製造方法 | |
| JPS63188968A (ja) | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |