JPS61292510A - プリント回路板の自動光学検査 - Google Patents
プリント回路板の自動光学検査Info
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- JPS61292510A JPS61292510A JP61138402A JP13840286A JPS61292510A JP S61292510 A JPS61292510 A JP S61292510A JP 61138402 A JP61138402 A JP 61138402A JP 13840286 A JP13840286 A JP 13840286A JP S61292510 A JPS61292510 A JP S61292510A
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- circuit board
- printed circuit
- camera
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V30/00—Character recognition; Recognising digital ink; Document-oriented image-based pattern recognition
- G06V30/10—Character recognition
- G06V30/24—Character recognition characterised by the processing or recognition method
- G06V30/248—Character recognition characterised by the processing or recognition method involving plural approaches, e.g. verification by template match; Resolving confusion among similar patterns, e.g. "O" versus "Q"
- G06V30/2504—Coarse or fine approaches, e.g. resolution of ambiguities or multiscale approaches
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N2021/95638—Inspecting patterns on the surface of objects for PCB's
-
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- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/10—Image acquisition modality
- G06T2207/10016—Video; Image sequence
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30141—Printed circuit board [PCB]
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- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の要約]
プリント回路板などを自動検査する装置につき開示する
。カメラは補完的な微細および粗大傷検出器に対し実時
間で走査されたプリント回路板の表面のビデオデータを
供給して、それぞれ所定寸法未満またはそれより大きい
傷を検出する。
。カメラは補完的な微細および粗大傷検出器に対し実時
間で走査されたプリント回路板の表面のビデオデータを
供給して、それぞれ所定寸法未満またはそれより大きい
傷を検出する。
[産業上の利用分野]
本発明は、プリント回路板などを自動光学検査するため
の装置に関するものである。
の装置に関するものである。
[従来の技術]
プリント回路板は典型的にはガラス繊維またはマイラ
で作成された基板からなり、その表面には導電体である
金属線が形成され、これらを使用して各種の回路素子を
相互連結しかつ/または外部回路に接続する。集積回路
工業に歩調を合せるためその形状寸法、すなわち金属線
とこれら金属線間の間隔は極めて小さい寸法(たとえば
0.005インチ)に狭められている。プリント回路板
の加工技術は著しく進歩しているが、プリント回路板の
数%は各種の傷が幾つか存在するため製造ラインから除
去される。たとえばプリント回路板は狭すぎる線および
/または間隔、短絡、開口、ピンホールσビ′を有する
ことがあり、それらのいずれもプリント回路板を使用し
えないものにする。極め°て小さい寸法に関するため、
この種の傷の肉眼検出は技術的に有効でなく、また経済
上実用的でない。したがって、プリント回路板の検査法
における自動化が、マイクロ電子工業の分野で必須要件
となっている。
で作成された基板からなり、その表面には導電体である
金属線が形成され、これらを使用して各種の回路素子を
相互連結しかつ/または外部回路に接続する。集積回路
工業に歩調を合せるためその形状寸法、すなわち金属線
とこれら金属線間の間隔は極めて小さい寸法(たとえば
0.005インチ)に狭められている。プリント回路板
の加工技術は著しく進歩しているが、プリント回路板の
数%は各種の傷が幾つか存在するため製造ラインから除
去される。たとえばプリント回路板は狭すぎる線および
/または間隔、短絡、開口、ピンホールσビ′を有する
ことがあり、それらのいずれもプリント回路板を使用し
えないものにする。極め°て小さい寸法に関するため、
この種の傷の肉眼検出は技術的に有効でなく、また経済
上実用的でない。したがって、プリント回路板の検査法
における自動化が、マイクロ電子工業の分野で必須要件
となっている。
プリント回路板を検査するには、現在各種の技術が存在
している。この種の1つの技術は基準比較技術であって
、試験プリント回路板をメモリに記憶された完全マスタ
ーと比較することである。
している。この種の1つの技術は基準比較技術であって
、試験プリント回路板をメモリに記憶された完全マスタ
ーと比較することである。
この技術は、存在しうる仝ゆる傷を検出する能力を有す
る。しかしながら、この能力を実現するには極めて大き
いメモリ容量と、極めて高いデータ比率と、比較される
試験画像とマスター画像との間の極めて良好な整合性と
を必要とするる。したがって、この種の装置を使用して
、存在しうる全ゆる傷を検出するのは経済上不可能であ
る。
る。しかしながら、この能力を実現するには極めて大き
いメモリ容量と、極めて高いデータ比率と、比較される
試験画像とマスター画像との間の極めて良好な整合性と
を必要とするる。したがって、この種の装置を使用して
、存在しうる全ゆる傷を検出するのは経済上不可能であ
る。
プリント回路板における傷を検査する他の技術はルール
技術であって、それぞれ特定種類の傷を示す複数のルー
ルアルゴリズムにしたがいプログラミングされたロジッ
ク列に対し試験回路板の表面を“示すビデオ情報を与え
ることである。これらのロジック列は、1個もしくはそ
れ以上の傷の存在を決定するためのビデオデータを解読
する。しかしながら、この種の技術は、全てのルールを
満たしかつしたがって検出されないような多数の欠陥が
存在する場合に制約される。たとえば、完全短絡、すな
わち金属線間もしくはトレース間における形状寸、法に
等しいまたはそれより大きい幅の金属線は、プリント回
路板における典型的な特徴として解釈されるので、全て
のルールを満たしかつ検出されない。
技術であって、それぞれ特定種類の傷を示す複数のルー
ルアルゴリズムにしたがいプログラミングされたロジッ
ク列に対し試験回路板の表面を“示すビデオ情報を与え
ることである。これらのロジック列は、1個もしくはそ
れ以上の傷の存在を決定するためのビデオデータを解読
する。しかしながら、この種の技術は、全てのルールを
満たしかつしたがって検出されないような多数の欠陥が
存在する場合に制約される。たとえば、完全短絡、すな
わち金属線間もしくはトレース間における形状寸、法に
等しいまたはそれより大きい幅の金属線は、プリント回
路板における典型的な特徴として解釈されるので、全て
のルールを満たしかつ検出されない。
[発明が解決しようとする問題点]
したがって本発明の目的は、上記欠点を解消するプリン
ト回路板の検査装置を提供するにある。
ト回路板の検査装置を提供するにある。
[問題点を解決するための手段1
本発明を実施する際、ビデオカメラはプリント回路板の
照明された表面を走査して、たとえばプリント回路板の
表面に形成された回路パターンにおける金属導体線およ
び狭すぎる間隔、短絡、開放回路などの傷を検査する。
照明された表面を走査して、たとえばプリント回路板の
表面に形成された回路パターンにおける金属導体線およ
び狭すぎる間隔、短絡、開放回路などの傷を検査する。
ビデオカメラは定期的に増感されて、走査した表面を示
すビデオ情報を受入れると共に、それぞれ走査線を構成
するそのビデオ内容を除去にする。ビデオプロセッサは
ビデオデータの各走査線を、それぞれ走査されている映
像要素もしくはピクセルを示す各ビットのデジタル流に
変換する。ビデオプロセッサの出力は微細傷検出器に供
給されて、最小形状の寸法(すなわちラインもしくは間
隔の幅)を検出すると共に、粗大傷検出器にも供給され
て最小形状寸法に等しいまたはそれより大きい傷を検出
する。
すビデオ情報を受入れると共に、それぞれ走査線を構成
するそのビデオ内容を除去にする。ビデオプロセッサは
ビデオデータの各走査線を、それぞれ走査されている映
像要素もしくはピクセルを示す各ビットのデジタル流に
変換する。ビデオプロセッサの出力は微細傷検出器に供
給されて、最小形状の寸法(すなわちラインもしくは間
隔の幅)を検出すると共に、粗大傷検出器にも供給され
て最小形状寸法に等しいまたはそれより大きい傷を検出
する。
本発明の独特な補完方式で微細傷検出器および粗大傷検
出器を使用することにより、記憶されたマスター画像に
対する基準比較技術のメモリ量、データ割合および極め
て正確な整合要求が著しく減少し、かつ成る種の傷を検
出しえないルール技術に関連する問題が解消される。
出器を使用することにより、記憶されたマスター画像に
対する基準比較技術のメモリ量、データ割合および極め
て正確な整合要求が著しく減少し、かつ成る種の傷を検
出しえないルール技術に関連する問題が解消される。
プリント回路板を検査テーブル上に載置すれば、製造の
際にプリント回路板の各隅部に位置する基準マークの位
置を検出しかつ記録することにより、カメラと試験中の
プリント回路板との整列が得られる。このデータを、記
憶されたマスターの基準マークに関する予め記録された
位置と比較して情報を与え、この情報をコンピュータ制
御下で使用して、プリント回路板とカメラとをXおよび
yサーボによりX方向およびy方向に整列させる。所望
ならば、θサーボを使用して、第2B図に示しかつ後期
に説明するように、試験回路板を回転整列させることも
できる。この同じ情報を使用して、メモリに記憶された
基準もしくはマスター画像からの試験プリント回路板画
像の歪み程度を決定することもできる。プリント回路板
の歪みが所定の基準内であれば、この歪みを補償するの
に必要な歪み補正パラメータを計算して補正を行なう。
際にプリント回路板の各隅部に位置する基準マークの位
置を検出しかつ記録することにより、カメラと試験中の
プリント回路板との整列が得られる。このデータを、記
憶されたマスターの基準マークに関する予め記録された
位置と比較して情報を与え、この情報をコンピュータ制
御下で使用して、プリント回路板とカメラとをXおよび
yサーボによりX方向およびy方向に整列させる。所望
ならば、θサーボを使用して、第2B図に示しかつ後期
に説明するように、試験回路板を回転整列させることも
できる。この同じ情報を使用して、メモリに記憶された
基準もしくはマスター画像からの試験プリント回路板画
像の歪み程度を決定することもできる。プリント回路板
の歪みが所定の基準内であれば、この歪みを補償するの
に必要な歪み補正パラメータを計算して補正を行なう。
プリント回路板の歪みが所定の許容範囲外であれば、こ
のプリント回路板を排除する。同じ情報を使用して、試
験プリント回路板画像を記憶されたマスター画像と整合
させ、走査プリント回路板の表面を示す実時間における
カメラで与えられたデータを、記憶されたマスタープリ
ント回路板の正確なデータと比較する。
のプリント回路板を排除する。同じ情報を使用して、試
験プリント回路板画像を記憶されたマスター画像と整合
させ、走査プリント回路板の表面を示す実時間における
カメラで与えられたデータを、記憶されたマスタープリ
ント回路板の正確なデータと比較する。
[実 施 例]
以下、添付図面を参照して本発明を実施例につき説明す
る。
る。
第1図を参照して、本発明によるプリント回路板検査装
置10のブロック図を示す。カメラ11(これは電荷結
合素子(COD)列とすることができる)を、検査すべ
きプリント回路板12の表面に隣接配置する。カメラ1
1(CCD列11とも称する)を、検査すべきプリント
回路板12に対し相対移動ざぜる。カメラ11またはプ
リント回路板のいずれかを移動部材としうるが、ここで
は説明の目的でカメラ11を移動部材として選択した。
置10のブロック図を示す。カメラ11(これは電荷結
合素子(COD)列とすることができる)を、検査すべ
きプリント回路板12の表面に隣接配置する。カメラ1
1(CCD列11とも称する)を、検査すべきプリント
回路板12に対し相対移動ざぜる。カメラ11またはプ
リント回路板のいずれかを移動部材としうるが、ここで
は説明の目的でカメラ11を移動部材として選択した。
検査すべきプリント回路板の表面寸法およびCCD列の
長さに応じて、検査すべき表面は1回の走査活動で走査
することができ、或いは検査中の全表面を観察するには
2回以上の走査を必要とすることもある。
長さに応じて、検査すべき表面は1回の走査活動で走査
することができ、或いは検査中の全表面を観察するには
2回以上の走査を必要とすることもある。
第2A図および第2B図を参照して説明すれば、′コン
ピュータ制御されるx、yおよびθサーボはカメラ11
の走査機能を制御する。
ピュータ制御されるx、yおよびθサーボはカメラ11
の走査機能を制御する。
本発明に使用する種類のCCD列は、直線配置された複
数の感光素子を備える。実用的な実施例において、00
0列は2048個の感光素子を有する線状列であり、長
さ1.024インチでおる。この種のCCD列はフェア
チャイルドCCD 143としてフェアチャイルド社か
ら入手できる。これら条件下において、CCD列中の各
感光(ピクセル)素子は0.0005 X O,000
5平方インチであり、この列はその全長にわたり204
8個の映像素子もしくはピクセルを解像することができ
る。それより多数もしくは少数の感光素子を有する00
0列も、勿論、所用の解像程度および所望の走査列に応
じて使用することができる。
数の感光素子を備える。実用的な実施例において、00
0列は2048個の感光素子を有する線状列であり、長
さ1.024インチでおる。この種のCCD列はフェア
チャイルドCCD 143としてフェアチャイルド社か
ら入手できる。これら条件下において、CCD列中の各
感光(ピクセル)素子は0.0005 X O,000
5平方インチであり、この列はその全長にわたり204
8個の映像素子もしくはピクセルを解像することができ
る。それより多数もしくは少数の感光素子を有する00
0列も、勿論、所用の解像程度および所望の走査列に応
じて使用することができる。
周知のように、CCD列は増感状態を有し、その間にこ
の列は観察したビデオデータを記録し、さらに移動状態
をも有して、その間にビデオデータを移動させて処理す
る。この増感およびCCD列からのデータの移動は、後
記するように調時クロック制御の下におかれる。表面を
検査するには、増感およびCCD列からのビデオデータ
の移動は多数回で行なわねばならない。たとえば、1.
024x 1.024インチの表面をできるだけ高い解
像度で観察することが望ましければ、それぞれ0.00
05x O,0005平方インチの2048個の感光素
子を有するCCD列を増感させかつ走査の際に2048
回除去せねばならない。たとえば、この特定実施例にお
いては、全表面を観察するのに2048本の走査線を要
する。したがって、各走査線につきCCD列は、204
8個のピ、クセルを示すアナログ信号を出力する。
の列は観察したビデオデータを記録し、さらに移動状態
をも有して、その間にビデオデータを移動させて処理す
る。この増感およびCCD列からのデータの移動は、後
記するように調時クロック制御の下におかれる。表面を
検査するには、増感およびCCD列からのビデオデータ
の移動は多数回で行なわねばならない。たとえば、1.
024x 1.024インチの表面をできるだけ高い解
像度で観察することが望ましければ、それぞれ0.00
05x O,0005平方インチの2048個の感光素
子を有するCCD列を増感させかつ走査の際に2048
回除去せねばならない。たとえば、この特定実施例にお
いては、全表面を観察するのに2048本の走査線を要
する。したがって、各走査線につきCCD列は、204
8個のピ、クセルを示すアナログ信号を出力する。
検査すべき表面がy方向に1.024インチを越えれば
、観察されている表面を完全走査するには2回以上の走
査を必要とする。
、観察されている表面を完全走査するには2回以上の走
査を必要とする。
本発明で利用する画像形成を行なう際、CCD列11を
増感させかつデータをそこから各走査線につき移動させ
、これをピクセルクロツタ速度で行なう。露出パルスは
、CCD列11に蓄積された電荷をCCD列11に含ま
れる移動レジスタまで転送し、移動レジスタクロツタは
このビデオデータを000列11から転送する。露出パ
ルスが各ライン毎に1回生ずる一方、2048個のピク
セルクロックが各走査線毎に生ずる。
増感させかつデータをそこから各走査線につき移動させ
、これをピクセルクロツタ速度で行なう。露出パルスは
、CCD列11に蓄積された電荷をCCD列11に含ま
れる移動レジスタまで転送し、移動レジスタクロツタは
このビデオデータを000列11から転送する。露出パ
ルスが各ライン毎に1回生ずる一方、2048個のピク
セルクロックが各走査線毎に生ずる。
光源13は、プリント回路板12の表面をこの回路板が
カメラまたはCCD列11によって走査される際に照明
する。光源13は平滑な金属表面の回路板に対し垂直な
光線を有しかつ/または光源は光線をプリント回路板に
対し傾斜角度で指向させて不規則な銅表面および基板縁
部を適切に照明する。
カメラまたはCCD列11によって走査される際に照明
する。光源13は平滑な金属表面の回路板に対し垂直な
光線を有しかつ/または光源は光線をプリント回路板に
対し傾斜角度で指向させて不規則な銅表面および基板縁
部を適切に照明する。
垂直光線は、平滑な銅表面からCCD列へ高反射信号を
与える。角度をつけて指向された光線は暗視野画像を与
える。
与える。角度をつけて指向された光線は暗視野画像を与
える。
アナログ型であるカメラもしくはCCD列11の出力を
ビデオプロセッサ14に供給する。ビデオプロセッサ1
4は、各走査線におけるピクセルを示すCCD列11か
らのアナログビデオ信号を、各走査線において000列
により観察されたピクセルをそれぞれ示す一連のQおよ
び1から構成されたデジタル信号に変換する。
ビデオプロセッサ14に供給する。ビデオプロセッサ1
4は、各走査線におけるピクセルを示すCCD列11か
らのアナログビデオ信号を、各走査線において000列
により観察されたピクセルをそれぞれ示す一連のQおよ
び1から構成されたデジタル信号に変換する。
ざらに、ビデオプロセッサ14は、カメラ11における
CCD列を構成する2048個の検出素子のそれぞれに
つきゲインおよびオフセット補正を行なう。
CCD列を構成する2048個の検出素子のそれぞれに
つきゲインおよびオフセット補正を行なう。
ゲイン補正は、均一の明視野を観察している間に列にお
ける2048個の検出器のそれぞれの応答性を基準化す
ることにより行なわれる。オフセット補正は、暗視野(
レンズキャップを装着)を観察している間に2048個
の検出器のそれぞれにおける片寄り(典型的にはOボル
トに対する)を基準化して行なわれる。ゲインおよびオ
フセット補正に対する検出値(全部で2048)を、内
部バス22によりインタフエ7ス20を介して制御プロ
セッサ24中へ読込む。次いで、制御プロセッサ24は
、ゲインおよびオフセット補正につき計算を行なう。次
いで、補正値(すなわちゲインにつき2048およびオ
フセットにつき2048 )をビデオプロセッサのゲイ
ンおよびオフセットRAM (ビデオプロセッサ14内
に位置する’) (2048X 8−ビット)中へそ
れぞれ書込む。
ける2048個の検出器のそれぞれの応答性を基準化す
ることにより行なわれる。オフセット補正は、暗視野(
レンズキャップを装着)を観察している間に2048個
の検出器のそれぞれにおける片寄り(典型的にはOボル
トに対する)を基準化して行なわれる。ゲインおよびオ
フセット補正に対する検出値(全部で2048)を、内
部バス22によりインタフエ7ス20を介して制御プロ
セッサ24中へ読込む。次いで、制御プロセッサ24は
、ゲインおよびオフセット補正につき計算を行なう。次
いで、補正値(すなわちゲインにつき2048およびオ
フセットにつき2048 )をビデオプロセッサのゲイ
ンおよびオフセットRAM (ビデオプロセッサ14内
に位置する’) (2048X 8−ビット)中へそ
れぞれ書込む。
ゲイン補正はCODの不均一性を補償するだけでなく、
焦点平面から見た照明の不均一性をも補償する。
焦点平面から見た照明の不均一性をも補償する。
試験画像を観察している間、ビデオプロセッサ14は各
ピクセルにつき実時間でゲインおよびオフセット補正を
行ない、次いでアナログビデオを画成すると共に、二進
化したピクセルビデオを出力する。閾値は基板と銅との
間の画像の転移点を規定しくまたはその逆の場合もある
)、さらに制御プロセッサ24を介して負荷することも
できる。
ピクセルにつき実時間でゲインおよびオフセット補正を
行ない、次いでアナログビデオを画成すると共に、二進
化したピクセルビデオを出力する。閾値は基板と銅との
間の画像の転移点を規定しくまたはその逆の場合もある
)、さらに制御プロセッサ24を介して負荷することも
できる。
ビデオプロセッサ14の出力を基準検出器15と微細傷
検出器16とに接続する。
検出器16とに接続する。
基準検出器15は、試験中の回路板における基準マーク
の位置を検出する。マスター画像が形成された際に予め
記録された位置と対比して、これらマークの位置は基準
と試験画像との正確な整合を可能にする。さらに、最小
形状寸法より大き゛い回路板歪みによる試験画像の不整
合が検出され、これは試験中の回路板を排除するのに充
分である。
の位置を検出する。マスター画像が形成された際に予め
記録された位置と対比して、これらマークの位置は基準
と試験画像との正確な整合を可能にする。さらに、最小
形状寸法より大き゛い回路板歪みによる試験画像の不整
合が検出され、これは試験中の回路板を排除するのに充
分である。
歪みまたは他の原因による最小形状寸法より小さい不整
合は、下記するような基準位置の測定を用いて補償する
ことができる。
合は、下記するような基準位置の測定を用いて補償する
ことができる。
基準位置検出は、実時間の試験基準画像を同様な記憶基
準画像と相関させて行なわれる。検出を行なう際、対応
のx、y位置が記憶される。試験基準画像は、ビデオプ
ロセッサ14のピクセルビデオ出力から基準検出器15
内で生ずる。記憶基準画像は、制御プロセッサ24から
内部バス22およびインタフェース20を介して基準検
出器14中へ導入することができる。X、y位置のデー
タは、位置バス32を介し位置決定用装置21から基準
検出器15に入力される。かくして、ビデオプロセッサ
15からの試験画像と位置決定装置21からのその対応
する位置データとが、基準の検出および位置につきプリ
セットされる。
準画像と相関させて行なわれる。検出を行なう際、対応
のx、y位置が記憶される。試験基準画像は、ビデオプ
ロセッサ14のピクセルビデオ出力から基準検出器15
内で生ずる。記憶基準画像は、制御プロセッサ24から
内部バス22およびインタフェース20を介して基準検
出器14中へ導入することができる。X、y位置のデー
タは、位置バス32を介し位置決定用装置21から基準
検出器15に入力される。かくして、ビデオプロセッサ
15からの試験画像と位置決定装置21からのその対応
する位置データとが、基準の検出および位置につきプリ
セットされる。
次いで、基準位置データを制御プロセッサ24中に読込
んで、基準と試験画像とを整合させるのに必要な歪み補
正計算(相関)を行ない、かつ回路板の不整合試験を行
なうと共に、全回路板にわたって走査すべき各ストリッ
プにつき出発位置を決定する。要するに、これは試験画
像から基準画像への直線的二次元行列変換よりなり、試
験回路板における歪みを補償する。
んで、基準と試験画像とを整合させるのに必要な歪み補
正計算(相関)を行ない、かつ回路板の不整合試験を行
なうと共に、全回路板にわたって走査すべき各ストリッ
プにつき出発位置を決定する。要するに、これは試験画
像から基準画像への直線的二次元行列変換よりなり、試
験回路板における歪みを補償する。
微細傷検出器16は、典型的には寸法16x 16ピク
セルよりなる画像ウィンドーを形成し、これを使用して
微細像を検出する。多数の特定微細像は欠陥マスクによ
り微細傷検出器で検出することができ、これはPALデ
バイス(プログラマブル・アレー・ロジック・デバイス
)によって行なわれる。
セルよりなる画像ウィンドーを形成し、これを使用して
微細像を検出する。多数の特定微細像は欠陥マスクによ
り微細傷検出器で検出することができ、これはPALデ
バイス(プログラマブル・アレー・ロジック・デバイス
)によって行なわれる。
これらの傷を、内部バスによりインタフェース2゜を介
して制御プロセッサ24に供給する。
して制御プロセッサ24に供給する。
メモリアドレス発生器18はカメラ11と基準バッフ1
メモリ、19とに接続された出力を有する。基準バッフ
ァメモリ19は粗大傷検出器17に接続される。
メモリ、19とに接続された出力を有する。基準バッフ
ァメモリ19は粗大傷検出器17に接続される。
ビデオプロセッサ14と微細傷検出器16と粗大傷検出
器17と基準検出器15とメモリアドレス発生器18と
基準バッフ7メモリ19とは全て、インタフェース20
を介しコンピュータバス22に接続される。
器17と基準検出器15とメモリアドレス発生器18と
基準バッフ7メモリ19とは全て、インタフェース20
を介しコンピュータバス22に接続される。
位置決定装置21はカメラ11に機械接続されて、カメ
ラ11をX、Yおよび(所望ならば)θ方向へ移動させ
る。位置決定装置21はコンピュータバス22に接続さ
れ、かつこのコンピュータバス22を介してランダムア
クセスメモリ23と制御プロセッサ24とキーボード2
5とディスクメモリ26とプリンタ27とに接続される
。
ラ11をX、Yおよび(所望ならば)θ方向へ移動させ
る。位置決定装置21はコンピュータバス22に接続さ
れ、かつこのコンピュータバス22を介してランダムア
クセスメモリ23と制御プロセッサ24とキーボード2
5とディスクメモリ26とプリンタ27とに接続される
。
ざらに、位置決定装置21は、結晶オシレータ28から
入力を受入れる。結晶オシレータ28は調時信号を調時
板29を介して調時バス30へ供給し、この調時バスは
カメラ11に対する接続部を有する。がくして、調時板
29は、ピクセルクロックを含む調時信号をカメラ11
へ供給する。この装置に加えうる他のカメラ/チャンネ
ルモジュールを調時バス30に接続す、ることもできる
。
入力を受入れる。結晶オシレータ28は調時信号を調時
板29を介して調時バス30へ供給し、この調時バスは
カメラ11に対する接続部を有する。がくして、調時板
29は、ピクセルクロックを含む調時信号をカメラ11
へ供給する。この装置に加えうる他のカメラ/チャンネ
ルモジュールを調時バス30に接続す、ることもできる
。
位置決定装置21は、その出力を基準検出器15とメモ
リアドレス発生器18に接続する。
リアドレス発生器18に接続する。
プリント回路板を走査する際に必要とされる出力ビデオ
信号を供給するには、CODカメラ11はピクセルクロ
ックと露出パルス入力との両者を必要とする。ピクセル
クロック入力は、結晶クロック28により駆動される調
時板29を介してカメラ11に供給される。露出パルス
入力は、メモリアドレス発生器18を介してカメラ11
に供給される。これらの露出パルスはメモリアドレス発
生器18においてピクセルピッチに等しい正確な空間間
隔で発生し、かくして運動方向(X方向)に適正な線間
隔(典型的には0.5ミル)を与える。メモリアドレス
発生器18は位置決定バス32を介し位置決定装置21
により供給される入力X位置の関数としてこれらの露出
クロックを出力する。これはテーブル検索操作を行なっ
てメモリアドレス発生器18で行なわれ、その入力アド
レスはX位置の電流値でありかつその単一ビット出力は
対応の露出パルスとなる。検索テ・−プルはRAMであ
って、そのアドレス間隔は検査されているプリント回路
板のXディメンションに相当し、かつその単一ビット出
力は露出パルスに相当するー。歪み補正アルゴリズム(
制御プロセッサ24により実行される)は、どの位置で
露出パルスが生ずるかを決定すると共に、これらの位置
(アドレス)における露出パルスビットをRAM23に
記憶する。これらの位置は、基準画像につき測定された
マークに対する試験回路板における基準マークの位置を
計測しかつ試験画像から基準画像への線状二次元行列変
換を行なって決定される。
信号を供給するには、CODカメラ11はピクセルクロ
ックと露出パルス入力との両者を必要とする。ピクセル
クロック入力は、結晶クロック28により駆動される調
時板29を介してカメラ11に供給される。露出パルス
入力は、メモリアドレス発生器18を介してカメラ11
に供給される。これらの露出パルスはメモリアドレス発
生器18においてピクセルピッチに等しい正確な空間間
隔で発生し、かくして運動方向(X方向)に適正な線間
隔(典型的には0.5ミル)を与える。メモリアドレス
発生器18は位置決定バス32を介し位置決定装置21
により供給される入力X位置の関数としてこれらの露出
クロックを出力する。これはテーブル検索操作を行なっ
てメモリアドレス発生器18で行なわれ、その入力アド
レスはX位置の電流値でありかつその単一ビット出力は
対応の露出パルスとなる。検索テ・−プルはRAMであ
って、そのアドレス間隔は検査されているプリント回路
板のXディメンションに相当し、かつその単一ビット出
力は露出パルスに相当するー。歪み補正アルゴリズム(
制御プロセッサ24により実行される)は、どの位置で
露出パルスが生ずるかを決定すると共に、これらの位置
(アドレス)における露出パルスビットをRAM23に
記憶する。これらの位置は、基準画像につき測定された
マークに対する試験回路板における基準マークの位置を
計測しかつ試験画像から基準画像への線状二次元行列変
換を行なって決定される。
露出パルスは、カメラがX方向に移動している際、内部
240,000x 1−ビットRAMを読取ることによ
り、メモリアドレス発生器18にて発生する。
240,000x 1−ビットRAMを読取ることによ
り、メモリアドレス発生器18にて発生する。
この移動カメラのX位置は直接にこのRAMをアドレス
する。この実施例においては24インチの移動にわたり
240.000個のエンコーダクロック(1インチ当り
10,000個)に相当する240.000個の位置も
しくはアドレスが存在する。このRAMの単一ビット出
力をロジックr1Jとして読取ると適性位置に露出パル
スが発生する一方、ロジックrOJの読取りはそのアド
レスにて露出パルスが発生しないことを意味する。運動
方向くX方向)において、0.5ミルのピクセル対ピク
セル間隔の場合、正確に24インチの移動にわたり最大
48.000個の露出パルスが生じうろことに注目され
る。
する。この実施例においては24インチの移動にわたり
240.000個のエンコーダクロック(1インチ当り
10,000個)に相当する240.000個の位置も
しくはアドレスが存在する。このRAMの単一ビット出
力をロジックr1Jとして読取ると適性位置に露出パル
スが発生する一方、ロジックrOJの読取りはそのアド
レスにて露出パルスが発生しないことを意味する。運動
方向くX方向)において、0.5ミルのピクセル対ピク
セル間隔の場合、正確に24インチの移動にわたり最大
48.000個の露出パルスが生じうろことに注目され
る。
ざらに、走査する前かつ試験画像対基準画像の位置の基
準計測により試験回路板の歪みを決定した後、必要とさ
れる歪み補償された48.000個の露出パルスを制御
プロセッサ24によりRAMの240、000アドレス
間賠でその適性位置にロジック「1」として書込みうろ
ことが注目される。
準計測により試験回路板の歪みを決定した後、必要とさ
れる歪み補償された48.000個の露出パルスを制御
プロセッサ24によりRAMの240、000アドレス
間賠でその適性位置にロジック「1」として書込みうろ
ことが注目される。
x−y位置決定装置におけるエンコーダクロックは位置
決定バス32における位置データ出力を発生するよう使
用する基礎クロックであり、位置バスはメモリアドレス
発生器18を介して露出パフレスを発生する。− Xカメラ位置出力は、カメラがOから最大24インチま
で移動する際に、X軸起点(位置カウンタはOにクセ1
ツトされている)からのXエンコーダクロツタを計数す
ることにより発生する。このカウンタは、カメラが方向
変化したことを工″ンコーダが検知した際に計数し始め
る。露出パルスとピクセルクロックとをカメラ11にお
けるCCDで同期させるには、エンコーダクロックを結
晶クロック28を介して位置決定装置21で同期させる
。
決定バス32における位置データ出力を発生するよう使
用する基礎クロックであり、位置バスはメモリアドレス
発生器18を介して露出パフレスを発生する。− Xカメラ位置出力は、カメラがOから最大24インチま
で移動する際に、X軸起点(位置カウンタはOにクセ1
ツトされている)からのXエンコーダクロツタを計数す
ることにより発生する。このカウンタは、カメラが方向
変化したことを工″ンコーダが検知した際に計数し始め
る。露出パルスとピクセルクロックとをカメラ11にお
けるCCDで同期させるには、エンコーダクロックを結
晶クロック28を介して位置決定装置21で同期させる
。
この同期は、たとえば第3図に示したようなフリップ−
フロップの適当な配置を用いるなど多数の方法で行なう
ことができる。比較的低周波のエンコーダクロックは、
それよりずっと高周波のピクセルクロツタによって図示
したようにクロックすることができる。この配置は得ら
れた同期エンコーダクロックのジッタを1つのピクセル
クロック期間内に維持し、この期間は露出パルス1個当
り約−2048個のピクセルクロックに対比して小さい
。
フロップの適当な配置を用いるなど多数の方法で行なう
ことができる。比較的低周波のエンコーダクロックは、
それよりずっと高周波のピクセルクロツタによって図示
したようにクロックすることができる。この配置は得ら
れた同期エンコーダクロックのジッタを1つのピクセル
クロック期間内に維持し、この期間は露出パルス1個当
り約−2048個のピクセルクロックに対比して小さい
。
次いで、この露出パルスは前記したように、これらの同
期エンコーダクロックから生ずる。
期エンコーダクロックから生ずる。
前記したように、試験されている回路板の周辺部に位置
する基準マークを示すカメラ11からのビデオ入力を受
入れた基準検出器15は、位置決定装置21からの入力
をも有する。位置決定装置21からの入力は、試験され
ているプリント回路板における基準マークの実時間x、
y座標位置をその検出時点にて基準検出器15により与
える。これらの座標位置XおよびyはRAM23に記憶
されて、基準マークの正確なXおよびY座標位置を決定
すべく使用される。これは、XおよびYオフセット並び
に走査ヘッドとプリント回路板12の軸線との間の角度
°を決定して位置決定装置21をカメラ11およびプリ
ント回路板12に対しx、yおよびθ(所望ならば)方
向で互いに整列させた後、カメラ11によるプリント回
路板12の走査を可能にする。これらの基準計測値を使
用して、記憶マスターとカメラ11により与えられる試
験プリント回路板画像との間に存在しうる回路板歪みの
程度を計測することもできる。この歪み測定はXおよび
Y軸の歪み補正を行なって、基準画像と試験画像との間
の適正な整列もしくは整合を維持することを可能にする
。
する基準マークを示すカメラ11からのビデオ入力を受
入れた基準検出器15は、位置決定装置21からの入力
をも有する。位置決定装置21からの入力は、試験され
ているプリント回路板における基準マークの実時間x、
y座標位置をその検出時点にて基準検出器15により与
える。これらの座標位置XおよびyはRAM23に記憶
されて、基準マークの正確なXおよびY座標位置を決定
すべく使用される。これは、XおよびYオフセット並び
に走査ヘッドとプリント回路板12の軸線との間の角度
°を決定して位置決定装置21をカメラ11およびプリ
ント回路板12に対しx、yおよびθ(所望ならば)方
向で互いに整列させた後、カメラ11によるプリント回
路板12の走査を可能にする。これらの基準計測値を使
用して、記憶マスターとカメラ11により与えられる試
験プリント回路板画像との間に存在しうる回路板歪みの
程度を計測することもできる。この歪み測定はXおよび
Y軸の歪み補正を行なって、基準画像と試験画像との間
の適正な整列もしくは整合を維持することを可能にする
。
歪みが所定量より大きければ、回路板は排除される。
上記したように、本発明による傷検出装置の特徴はルー
ルアルゴリズムを用いる微細傷検出器と粗大傷検出器と
を補完的に使用することであり、試験板を記憶マスター
と比較する。本発明を実施する際、独特な微細傷検出装
置を独特な粗大傷検出装置および不整合/歪み補正装置
と組合せる。
ルアルゴリズムを用いる微細傷検出器と粗大傷検出器と
を補完的に使用することであり、試験板を記憶マスター
と比較する。本発明を実施する際、独特な微細傷検出装
置を独特な粗大傷検出装置および不整合/歪み補正装置
と組合せる。
これらの傷検出装置および不整合/歪み補正方式は、本
出願人による「プリント回路板の微細傷検出器」、「プ
リント回路板検査の粗大傷検出器」および「不整合/歪
み補正方式」と題する各米国特許出願明細書に充分開示
されており、上記「プリント回路板の検査の粗大傷検出
器」に使用される基準および試験パッチの比較技術に関
し参考のためここに引用する。
出願人による「プリント回路板の微細傷検出器」、「プ
リント回路板検査の粗大傷検出器」および「不整合/歪
み補正方式」と題する各米国特許出願明細書に充分開示
されており、上記「プリント回路板の検査の粗大傷検出
器」に使用される基準および試験パッチの比較技術に関
し参考のためここに引用する。
しかしながら、本発明を一層良く理解する目的で、以下
、微細および粗大傷検出方式につき簡単に説明する。
、微細および粗大傷検出方式につき簡単に説明する。
微細傷検出器16は線/間隔の称呼寸法より小さい寸法
の傷を検出す゛る一方、粗大傷検出器は線/間隔の称呼
寸法より大きいまたはそれに等しい傷を検出する。微細
な傷はルール・アルゴリズムを用いて検出される一方、
粗大な傷は試験画像と基準もしくはマスク画像との比較
技術を用いて検出される。
の傷を検出す゛る一方、粗大傷検出器は線/間隔の称呼
寸法より大きいまたはそれに等しい傷を検出する。微細
な傷はルール・アルゴリズムを用いて検出される一方、
粗大な傷は試験画像と基準もしくはマスク画像との比較
技術を用いて検出される。
微細傷検出器16は、ビデオプロセッサ14から1ビツ
ト定聞化ビデオおよびクロックを受信する。
ト定聞化ビデオおよびクロックを受信する。
これは全回路板にわたり16X 16ピクセルの連続パ
ッチを観察することにより傷を検索する。勿論、16X
16ピクセルバツチは、任意のnxnピクセルまで拡大
することもできる。これらパッチは、それぞれrnJ遅
延ラインにそれぞれ続く「n」ビットのシフトレジスタ
の同等な蛇紋接続を介して形成される。
ッチを観察することにより傷を検索する。勿論、16X
16ピクセルバツチは、任意のnxnピクセルまで拡大
することもできる。これらパッチは、それぞれrnJ遅
延ラインにそれぞれ続く「n」ビットのシフトレジスタ
の同等な蛇紋接続を介して形成される。
各遅延ラインは、2048ピクセルの走査線に等しい。
高速度のVLSI RAMを使用して遅延ライン機能
を生ぜしめ、全チップカウントを効率的に最小化させる
。形成された情報を、所定のルールアルゴリズムにした
がってプログラミングされたロジック列へ入力として供
給し、プリント回路板における各種の傷を検出する。
を生ぜしめ、全チップカウントを効率的に最小化させる
。形成された情報を、所定のルールアルゴリズムにした
がってプログラミングされたロジック列へ入力として供
給し、プリント回路板における各種の傷を検出する。
粗大傷検出器17は、整合した試験パッチと基準パッチ
との間の差を比較することにより粗大傷を検出する。重
なった16X 16ピクセル試験パツチを、微細傷検出
器16における16本のビデオ遅延ラインから発生させ
る。[本出願人による「微細傷P。
との間の差を比較することにより粗大傷を検出する。重
なった16X 16ピクセル試験パツチを、微細傷検出
器16における16本のビデオ遅延ラインから発生させ
る。[本出願人による「微細傷P。
C0検出器」を参照]。かくして、粗大傷検出器17に
て再び16本のビデオ遅延ラインを重複させる代りに、
これらの同じラインを直接使用して16X16ビツトパ
ツチを与えることができる。これらを、メモリアドレス
発生器18により供給された歪み補正アドレスを有する
マスタメモリから発生する16×16ピクセル基準バツ
チと比較する。このアドレスは、位置決定装置21を介
し走査器の実時間XおよびY位置の関数として発生する
。
て再び16本のビデオ遅延ラインを重複させる代りに、
これらの同じラインを直接使用して16X16ビツトパ
ツチを与えることができる。これらを、メモリアドレス
発生器18により供給された歪み補正アドレスを有する
マスタメモリから発生する16×16ピクセル基準バツ
チと比較する。このアドレスは、位置決定装置21を介
し走査器の実時間XおよびY位置の関数として発生する
。
微細傷もしくは粗大傷を検出する際は常に、割込みを発
生させてこれをコンピュータバス22を介し制御プロセ
ッサ24へ移送する。傷゛の種類および位置をディスク
メモリ26に記憶させると共に、プリンタ27によって
印刷することができる。
生させてこれをコンピュータバス22を介し制御プロセ
ッサ24へ移送する。傷゛の種類および位置をディスク
メモリ26に記憶させると共に、プリンタ27によって
印刷することができる。
オペレータがキーボード25を使用して微細傷検出器1
6のロジック列をプログラミングし、かつ傷検出などに
おける許容/排除の閾値を確定することができる。
6のロジック列をプログラミングし、かつ傷検出などに
おける許容/排除の閾値を確定することができる。
メモリアドレス発生器18は歪み補正アドレスを基準バ
ッファメモリ19に供給して基準パッチを生ぜしめ、こ
れらをその対応する試験パッチに適切に整合させる。歪
み補正アドレスは、位置決定装置21からの実時間座標
入力の関数として発生され、ざらに予め計測されかつコ
ンピュータバス22を介しメモリアドレス発生器18に
入力された歪みデータの関数として発生する。カメラ1
1に対するX座標方向の歪み補正された露出パルスもメ
モリアドレス発生器18により発生され、試験パッチを
基準パッチに対し適切に整合させると共に同期させる。
ッファメモリ19に供給して基準パッチを生ぜしめ、こ
れらをその対応する試験パッチに適切に整合させる。歪
み補正アドレスは、位置決定装置21からの実時間座標
入力の関数として発生され、ざらに予め計測されかつコ
ンピュータバス22を介しメモリアドレス発生器18に
入力された歪みデータの関数として発生する。カメラ1
1に対するX座標方向の歪み補正された露出パルスもメ
モリアドレス発生器18により発生され、試験パッチを
基準パッチに対し適切に整合させると共に同期させる。
ざらに、ビクセルゲートもメモリアドレス発生器18に
より発生して、y座標に沿ったこれらパッチの適切な整
合および同期を行なう。
より発生して、y座標に沿ったこれらパッチの適切な整
合および同期を行なう。
上記の説明は、カメラ11による1回の走査が検査中の
プリント回路板の全表面を観察する状態を前提とする。
プリント回路板の全表面を観察する状態を前提とする。
プリント回路板の表面を走査するのに2回以上のカメラ
11の走査を必要とする場合は、プリント回路板12を
減圧テーブルの上に載置し、かつカメラ11および光源
13をコンピュータ制御サーボによりプリント回路板に
往復走査させ、カメラ11を第2A図に示したようにX
、Y平面でプリント回路板12に対し移動させる。この
場合、試験中のプリント回路板を整列させるための基準
の検出は、カメラを回路板の周辺部に走査させて行なわ
れる。
11の走査を必要とする場合は、プリント回路板12を
減圧テーブルの上に載置し、かつカメラ11および光源
13をコンピュータ制御サーボによりプリント回路板に
往復走査させ、カメラ11を第2A図に示したようにX
、Y平面でプリント回路板12に対し移動させる。この
場合、試験中のプリント回路板を整列させるための基準
の検出は、カメラを回路板の周辺部に走査させて行なわ
れる。
このようにして、基準マークの位置が検出されかつ記録
される。このデータから、制御プロセッサ24はプリン
ト回路板12とカメラ11とをX、Yお゛よびθ(所望
ならば)方向にそれぞれX、Yおよびθサーボ31.2
1および33を介して整列させる(これらは位置決定装
置21内に第2A図および第2B図に示したように含ま
れる)。
される。このデータから、制御プロセッサ24はプリン
ト回路板12とカメラ11とをX、Yお゛よびθ(所望
ならば)方向にそれぞれX、Yおよびθサーボ31.2
1および33を介して整列させる(これらは位置決定装
置21内に第2A図および第2B図に示したように含ま
れる)。
往復走査に際し、1個のみの傷検出カメラ/チャンネル
モジュールが示されている。しかしながら、ざらにカメ
ラ/チャンネルモジュールを並列して追加することによ
り、瞬間的な視野および出力を増大させることもできる
。したがって、この範囲内においてカメラ/チャンネル
の視野は、全回路板を検査するのに1回のみの走査を必
要とするプリント回路板の全幅を網羅する。このような
装置(これは実際上、第1図を参照して上記した装置で
ある)において、カメラ11は単一ユニットであるが、
隣接関係で2個もしくはそれ以上のCCD列で構成する
こともできる。
モジュールが示されている。しかしながら、ざらにカメ
ラ/チャンネルモジュールを並列して追加することによ
り、瞬間的な視野および出力を増大させることもできる
。したがって、この範囲内においてカメラ/チャンネル
の視野は、全回路板を検査するのに1回のみの走査を必
要とするプリント回路板の全幅を網羅する。このような
装置(これは実際上、第1図を参照して上記した装置で
ある)において、カメラ11は単一ユニットであるが、
隣接関係で2個もしくはそれ以上のCCD列で構成する
こともできる。
第2A図および第2B図はカメラ移動を制御する配置を
示しており、この場合走査カメラ11の位置および速度
が示されている。一般的に、第2A図および第2B図は
カメラ11を往復移動させる制御配列を示している。し
かしながら、この制御装置は、Y方向を示すデータを省
略して非往復走査に容易に適用することもできる。
示しており、この場合走査カメラ11の位置および速度
が示されている。一般的に、第2A図および第2B図は
カメラ11を往復移動させる制御配列を示している。し
かしながら、この制御装置は、Y方向を示すデータを省
略して非往復走査に容易に適用することもできる。
第2A図および第2B図において、モータ31.32お
よび33(これらは第1図の位置決定装置21に含まれ
る)を接続してカメラをX、Yおよびθ(所望ならば)
方向に駆動させる。さらに、モータ31.32お・よび
33のそれぞれはタコメータを備えて、それぞれX、Y
およびθ(所望ならば)方向におけるカメラ11の速度
を示す信号X−VEL。
よび33(これらは第1図の位置決定装置21に含まれ
る)を接続してカメラをX、Yおよびθ(所望ならば)
方向に駆動させる。さらに、モータ31.32お・よび
33のそれぞれはタコメータを備えて、それぞれX、Y
およびθ(所望ならば)方向におけるカメラ11の速度
を示す信号X−VEL。
Y−VELおよびθ−VELをそれぞれ示す。ざらに、
位置エンコーダ34.35および36をカメラ11に接
続して、仝ゆる時点におけるカメラ11の瞬間的位置を
示す出力を供給する。
位置エンコーダ34.35および36をカメラ11に接
続して、仝ゆる時点におけるカメラ11の瞬間的位置を
示す出力を供給する。
カメラ11を、第2B図に示したようなりC電源によっ
て「パワニアツブ」させる。カメラ11は調時ボード2
9からその入力ビクセルクロツタ(PC)を受入れて、
これを結晶クロック28から垂ぜしめる。カメラ11に
対する露出パルス入力は、第1図に示したようにメモリ
・アドレス発生器18により供給する。ピクセルビデオ
を、カメラ11から出力同期クロックφ8およびPCと
共に出力する。
て「パワニアツブ」させる。カメラ11は調時ボード2
9からその入力ビクセルクロツタ(PC)を受入れて、
これを結晶クロック28から垂ぜしめる。カメラ11に
対する露出パルス入力は、第1図に示したようにメモリ
・アドレス発生器18により供給する。ピクセルビデオ
を、カメラ11から出力同期クロックφ8およびPCと
共に出力する。
初期の整列に際し、カメラ11はθ(所望に応じ)で整
列して、直線列(X軸に沿った2048個の検出素子)
がX軸に対し直交する。これは、モータタコメータ33
とエンコーダ36とからなる「θ」サーボによって行な
われる。モータ33のためのθ−駆動入力は位、置決定
装置21により供給され、そのサーボ制御はそれぞれモ
ータ/タコメータ33とθエンコーダ36とから位置決
定゛装置21に入力されたθ−エンコーダ角度信号を使
用する。θ誤差がOまで低下すると、カメラは適切に整
列する。
列して、直線列(X軸に沿った2048個の検出素子)
がX軸に対し直交する。これは、モータタコメータ33
とエンコーダ36とからなる「θ」サーボによって行な
われる。モータ33のためのθ−駆動入力は位、置決定
装置21により供給され、そのサーボ制御はそれぞれモ
ータ/タコメータ33とθエンコーダ36とから位置決
定゛装置21に入力されたθ−エンコーダ角度信号を使
用する。θ誤差がOまで低下すると、カメラは適切に整
列する。
第2A図に示したように、y軸に沿って走査す゛る前に
カメラ11をy軸に沿って位置決定し、そのCCD列を
走査すべきXストリップに沿って図示したようにセンタ
リングする。これは、モータタコメータ32とエンコー
ダ35とからなるY位置サーボおよび位置決定装置21
によって行なわれる。モータタコメータ32に対するy
−駆動入力は位置決定装置21により供給され、そのサ
ーボ制御はそれぞれモータ/タコメータ32およびエン
コーダ35からのy−速度およびy−エンコーダクロッ
ク(カメラ11のy位置を決定するために使用する)の
フィードバック信号を使用して、カメラ11をy方向で
適切に位置決定する。
カメラ11をy軸に沿って位置決定し、そのCCD列を
走査すべきXストリップに沿って図示したようにセンタ
リングする。これは、モータタコメータ32とエンコー
ダ35とからなるY位置サーボおよび位置決定装置21
によって行なわれる。モータタコメータ32に対するy
−駆動入力は位置決定装置21により供給され、そのサ
ーボ制御はそれぞれモータ/タコメータ32およびエン
コーダ35からのy−速度およびy−エンコーダクロッ
ク(カメラ11のy位置を決定するために使用する)の
フィードバック信号を使用して、カメラ11をy方向で
適切に位置決定する。
カメラ11がXおよびy方向に適切に位置決定された後
、第2A図に示したようにy軸に沿ってストリップを、
走査させることができる。これは、X−サーボをy軸に
沿って一定速度で駆動することにより行なわれる。X−
サーボはモータ/タコメータ31とエンコーダ34と位
置決定装置21とから構成される。モータタコメータ3
1のためのX−駆動は、位置決定装置21により行なわ
れる。それぞれ。
、第2A図に示したようにy軸に沿ってストリップを、
走査させることができる。これは、X−サーボをy軸に
沿って一定速度で駆動することにより行なわれる。X−
サーボはモータ/タコメータ31とエンコーダ34と位
置決定装置21とから構成される。モータタコメータ3
1のためのX−駆動は、位置決定装置21により行なわ
れる。それぞれ。
モータタコメータ31およびエンコーダ34からのX−
速度およびX−エンコーダ出力は位置決定装置21に入
力されて、サーボループを完結する。かくして、カメラ
11はy軸に沿って一定速度で走査することにより、活
動ストリップの端部が検出されるまで、典型的には0.
5ミル間隔にてビデオのラインを発生する。X−エンコ
ーダクロックを計数してX位置データが得られる。カメ
ラを駆動させる露出(φ8)パルスは、上記したように
X−位置データから得られる。
速度およびX−エンコーダ出力は位置決定装置21に入
力されて、サーボループを完結する。かくして、カメラ
11はy軸に沿って一定速度で走査することにより、活
動ストリップの端部が検出されるまで、典型的には0.
5ミル間隔にてビデオのラインを発生する。X−エンコ
ーダクロックを計数してX位置データが得られる。カメ
ラを駆動させる露出(φ8)パルスは、上記したように
X−位置データから得られる。
ストリップが走査された後、カメラ11をy−サーボに
よりy軸に沿って再位置決定し、そのCCD列を第2A
図に示したように隣接する連続ストリップ(ただしy方
向での僅かな重複部を除く)にセンタリングさせる。次
いで、Xサーボがy軸(二拾って走査するが、これは上
記したサーボとは反対方向である。この過程を、全回路
板がX方向およびy方向の両者で往復走査されるまで反
復する。
よりy軸に沿って再位置決定し、そのCCD列を第2A
図に示したように隣接する連続ストリップ(ただしy方
向での僅かな重複部を除く)にセンタリングさせる。次
いで、Xサーボがy軸(二拾って走査するが、これは上
記したサーボとは反対方向である。この過程を、全回路
板がX方向およびy方向の両者で往復走査されるまで反
復する。
[発明の効果]
以上、本発明によれば、プリント回路板の表面に形成さ
れた狭すぎる金属線および間隔、短絡、開放回路などの
傷をビデオカメラの走査によって従来技術の欠点なしに
検査することができる。
れた狭すぎる金属線および間隔、短絡、開放回路などの
傷をビデオカメラの走査によって従来技術の欠点なしに
検査することができる。
以上、本発明を実施例につき説明したが、本発明の思想
および範囲内において多くの設計変更をなしうろことが
当業者には了解されよう。
および範囲内において多くの設計変更をなしうろことが
当業者には了解されよう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるプリント回路板検査装置のブロッ
ク図、 第2A図はカメラ制御系の平面図、 第2B図はカメラ制御系の正面図、 第3図はクロック同期配置を示すブロック図である。 10・・・装置 11・・・カメラ12
・・・プリント回路板 13・・・光源14・・・
プロセッサ 15.16.17・・・検出器1
8・・・発生器 19・・・メモリ20・
・・インタフェース 21・・・位置決定装置22
・・・コンピュータバス 23・・・メモリ24・・
・制御プロセッサ 25・・・キーボード26・・
・ディスクメモリ 27・・・プリンタ28・・・
オシレータ 29・・・調時板30・・・バス 31.32.33・・・モータ 34.35.36.37・・・エンコーダFIG、 、
? g 手続補正書(自発 昭和61年 9月17日
ク図、 第2A図はカメラ制御系の平面図、 第2B図はカメラ制御系の正面図、 第3図はクロック同期配置を示すブロック図である。 10・・・装置 11・・・カメラ12
・・・プリント回路板 13・・・光源14・・・
プロセッサ 15.16.17・・・検出器1
8・・・発生器 19・・・メモリ20・
・・インタフェース 21・・・位置決定装置22
・・・コンピュータバス 23・・・メモリ24・・
・制御プロセッサ 25・・・キーボード26・・
・ディスクメモリ 27・・・プリンタ28・・・
オシレータ 29・・・調時板30・・・バス 31.32.33・・・モータ 34.35.36.37・・・エンコーダFIG、 、
? g 手続補正書(自発 昭和61年 9月17日
Claims (12)
- (1)プリント回路板の表面に形成された金属線および
/またはその間の間隔における傷を決定する装置におい
て、 表面を観察すると共にこの観察された表面を示すビデオ
データを出力として供給するカメラ手段と、 前記カメラ手段に接続されて前記金属線および/または
間隔における所定寸法未満の傷を検出する第1傷検出手
段と、 前記カメラ手段に接続されて前記金属線および/または
間隔における所定寸法に等しいまたはそれより、大きい
傷を検出する第2傷検出手段とからなることを特徴とす
る傷の決定装置。 - (2)第1傷検出手段は、カメラ手段により観察された
表面の金属線および/または間隔における1個もしくは
それ以上の種類の傷を検出するようプログラミングした
ロジック列手段を備える特許請求の範囲第1項記載の装
置。 - (3)第2傷検出手段は、検査しているプリント回路板
のマスターを記憶するメモリ手段と、ビデオデータと前
記記憶マスターとを比較してビデオカメラにより観察さ
れた表面の金属線および/または間隔における傷を検出
する比較手段とを備える特許請求の範囲第2項記載の装
置。 - (4)カメラ手段に接続されてこのカメラ手段をプリン
ト回路板の表面に対し往復して走査するモータ手段と、 前記モータ手段に接続されて前記カメラ手段を各走査前
に走査の方向に整列させる手段とをさらに備える特許請
求の範囲第3項記載の装置。 - (5)基準プリント回路板の隅部またはその他の領域に
おける基準マークの座標位置を記憶するメモリ手段と、 検査すべき各プリント回路板の周辺に沿ってカメラ手段
を走査させることにより各検査操作前に前記試験プリン
ト回路における前記基準マークの座標を得るモータ手段
と、 記憶された座標をカメラ手段により供給された座標と比
較して前記記憶された基準プリント回路板に対する前記
試験プリント回路板の歪み測定値を与えるプロセッサ手
段と をさらに備える特許請求の範囲第4項記載の装置。 - (6)プロセッサ手段は歪みが所定量を越えた際に指示
を与えると共に、このプロセッサ手段は前記歪みが前記
所定量より低い際に基準プリント回路板に対する試験プ
リント回路板の歪みを補償する特許請求の範囲第5項記
載の装置。 - (7)プリント回路板の表面をその走査に際し照明する
照明手段をさらに備え、この照明手段はプリント回路板
に対し垂直配置された第1光源手段と、 前記プリント回路板に対し傾斜角度で光を指向させるよ
う配置した第2光源手段と からなる特許請求の範囲第6項記載の装置。 - (8)カメラ手段は、直線配置された複数の電荷結合素
子の列からなる特許請求の範囲第7項記載の装置。 - (9)カメラ手段は、1回の通過でプリント回路板を走
査するのに充分な長さの隣接関係で複数の電荷結合素子
の列を備える特許請求の範囲第7項記載の装置。 - (10)複数の電荷結合素子の列の各組につき第1およ
び第2傷検出手段の組を備える特許請求の範囲第9項記
載の装置。 - (11)プロセッサ手段は、走査の際にカメラ手段から
得られたビデオデータをメモリ手段から出力されたデー
タと整合させる手段を備えて、試験プリント回路板を示
すビデオデータを基準プリント回路板を示すメモリから
のデータと整合させる、特許請求の範囲第6項記載の装
置。 - (12)プロセッサ手段は、走査の際にカメラ手段から
得られたデオデータをメモリ手段から出力されたデータ
と整合させる手段を備えて、試験プリント回路板を示す
ビデオデータを基準プリント回路板を示すメモリからの
データと正確に整合させる特許請求の範囲第10項記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US74576685A | 1985-06-17 | 1985-06-17 | |
US745766 | 1985-06-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61292510A true JPS61292510A (ja) | 1986-12-23 |
Family
ID=24998169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61138402A Pending JPS61292510A (ja) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | プリント回路板の自動光学検査 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0206709A3 (ja) |
JP (1) | JPS61292510A (ja) |
IL (1) | IL79097A0 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01265368A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印刷パターンの検査装置 |
CN105557082A (zh) * | 2013-09-12 | 2016-05-04 | 株式会社高永科技 | 基板检查时的补偿矩阵生成方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2647574B1 (fr) * | 1989-05-12 | 1991-09-06 | Automatisme Robotique Applique | Procedes et dispositifs pour effectuer des controles de fabrication visuels d'une serie de pieces identiques |
JP3163909B2 (ja) * | 1994-08-19 | 2001-05-08 | 株式会社富士通ゼネラル | 安全試験の自動化装置 |
GB9803179D0 (en) * | 1998-02-13 | 1998-04-08 | Scient Generics Ltd | PCB Inspection system |
US6707545B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-03-16 | Applied Materials, Inc. | Optical signal routing method and apparatus providing multiple inspection collection points on semiconductor manufacturing systems |
US6630995B1 (en) | 1999-09-07 | 2003-10-07 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for embedded substrate and system status monitoring |
US6693708B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-02-17 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for substrate surface inspection using spectral profiling techniques |
US7012684B1 (en) | 1999-09-07 | 2006-03-14 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus to provide for automated process verification and hierarchical substrate examination |
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US6721045B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-04-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus to provide embedded substrate process monitoring through consolidation of multiple process inspection techniques |
US6707544B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-03-16 | Applied Materials, Inc. | Particle detection and embedded vision system to enhance substrate yield and throughput |
IL160477A0 (en) * | 2004-02-19 | 2004-07-25 | Camtek Ltd | A method and a system for real-time defects verification |
CN102938077A (zh) * | 2012-10-25 | 2013-02-20 | 渭南师范学院 | 基于双阈值二值化的在线式aoi图像检索方法 |
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-
1986
- 1986-06-12 IL IL79097A patent/IL79097A0/xx unknown
- 1986-06-16 JP JP61138402A patent/JPS61292510A/ja active Pending
- 1986-06-16 EP EP86304611A patent/EP0206709A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN105557082A (zh) * | 2013-09-12 | 2016-05-04 | 株式会社高永科技 | 基板检查时的补偿矩阵生成方法 |
CN105557082B (zh) * | 2013-09-12 | 2018-09-11 | 株式会社高永科技 | 基板检查时的补偿矩阵生成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0206709A2 (en) | 1986-12-30 |
IL79097A0 (en) | 1986-09-30 |
EP0206709A3 (en) | 1988-09-28 |
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