JPS61248753A - 板状部材 - Google Patents
板状部材Info
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- JPS61248753A JPS61248753A JP60090228A JP9022885A JPS61248753A JP S61248753 A JPS61248753 A JP S61248753A JP 60090228 A JP60090228 A JP 60090228A JP 9022885 A JP9022885 A JP 9022885A JP S61248753 A JPS61248753 A JP S61248753A
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- nickel
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Classifications
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- B41J2/1643—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by plating
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１丘分立
本発明は、板状部材、より詳細には、シート状。
テープ状等の薄板上にフォトファブリケーション。
メッキ、蒸着等によって機能素子を形成する技術に関す
る。
る。
従米且玉
第２図は、従来技術によって製作されるインクジェット
記録装置用ノズルプレートの加工工程を説明するための
図で、該ノズルプレートは次のようにして製作される。
記録装置用ノズルプレートの加工工程を説明するための
図で、該ノズルプレートは次のようにして製作される。
（１）ｍ、ステンレススチール等のエツチング可能な材
質よりなる基板（薄板）１の表面を脱脂処理、酸化膜除
去処理、研磨等の前処理をし、前記基板１上に塗布され
るフォトレジスト２が均一に、且つ密着良く塗布される
ようにする。
質よりなる基板（薄板）１の表面を脱脂処理、酸化膜除
去処理、研磨等の前処理をし、前記基板１上に塗布され
るフォトレジスト２が均一に、且つ密着良く塗布される
ようにする。
（２）基板１０表面上に光線の照射（露光）により重合
硬化（又は分解）される材質よりなる感光剤であるフォ
トレジスト２を塗布する〔第２図（Ａ）〕。
硬化（又は分解）される材質よりなる感光剤であるフォ
トレジスト２を塗布する〔第２図（Ａ）〕。
（３）フォトレジスト２を充分加熱乾燥し、剥離や腐食
等の起きない状態にした後、オリフィス画像が焼き付け
されたフィルムマスク３を前−記フオトレジスト２のフ
ィルムマスク３よりの露出部を重合硬化（又は分解）す
る〔第２図（Ｂ）〕。
等の起きない状態にした後、オリフィス画像が焼き付け
されたフィルムマスク３を前−記フオトレジスト２のフ
ィルムマスク３よりの露出部を重合硬化（又は分解）す
る〔第２図（Ｂ）〕。
（４）光を照射されたフォトレジスト２を現像処理およ
び洗浄することによりインク噴射口であるオリフィス部
分のフォトレジスト２が残存するようにする（第２図（
Ｃ））。
び洗浄することによりインク噴射口であるオリフィス部
分のフォトレジスト２が残存するようにする（第２図（
Ｃ））。
（５）ニッケル電着液中に前述の処理を行った基板１を
浸し、電気化学的にニッケル薄膜４を析出させる。ここ
で前記フォトレジゑト２上にはニッケルは析出されない
〔第２図（Ｄ）〕。
浸し、電気化学的にニッケル薄膜４を析出させる。ここ
で前記フォトレジゑト２上にはニッケルは析出されない
〔第２図（Ｄ）〕。
（６）基板１の裏面側に（１）〜（４）の処理を行う（
第２図（Ｅ）〕。
第２図（Ｅ）〕。
（７）基板１の裏面側よりエツチングを行い基板１のフ
ォトレジスト２が添着されていない露出部からカップ状
に腐食させる〔第２図（Ｆ）〕。
ォトレジスト２が添着されていない露出部からカップ状
に腐食させる〔第２図（Ｆ）〕。
（８）フォトレジスト２を薬剤処理により除去し、オリ
フィス７を穿設した後ニッケル等の保護膜５を形成する
〔第２図（Ｇ）〕。
フィス７を穿設した後ニッケル等の保護膜５を形成する
〔第２図（Ｇ）〕。
第３図は、第２図（Ｇ）の一部を拡大して示したもので
あるが、上記従来の方法によって製作されるノズルプレ
ート或いは蒸着用メカニカルマスクの欠点は、ニッケル
薄Ｉ！１４が基板１の片側にしかないため、ニッケルメ
ッキ薄膜の応力、或いは、基板ｌと薄膜４の熱膨係数の
違いなどによってそりが生じることである。
あるが、上記従来の方法によって製作されるノズルプレ
ート或いは蒸着用メカニカルマスクの欠点は、ニッケル
薄Ｉ！１４が基板１の片側にしかないため、ニッケルメ
ッキ薄膜の応力、或いは、基板ｌと薄膜４の熱膨係数の
違いなどによってそりが生じることである。
貝ｍ
本発明は、上述のごとき従来技術の欠点を解消するため
になされたもので、特に、シート状物体。
になされたもので、特に、シート状物体。
テープ状物体、基板等の板状部材の平面度を維持するこ
とを目的としてなされたものである。
とを目的としてなされたものである。
１威
本発明は、上記目的を達成するため、薄板功一方の面に
該薄板の材質と異なる材料が層状に付与。
該薄板の材質と異なる材料が層状に付与。
形成された板状部材において、該薄板の他方の面に前記
材料と同一又は類僚の物理的９機械的性質をもつ材料が
層状に付与、形成されていることを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
材料と同一又は類僚の物理的９機械的性質をもつ材料が
層状に付与、形成されていることを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
第１図は、本発明の一実施例を説明するための要部断面
図であるが、本発明は、第２図（Ｄ）の工程において、
基板１の表裏にニッケル＊Ｘ＊を析出させる点に特徴が
ある。それ以外は、従来の工程と同様であり、裏面にニ
ッケル薄膜があることにより、たとえば、第２図（Ｅ）
以降の工程で不都合が生じるようなことは全くない、な
ぜなら、基板１のエツチングに用いるエッチャント（主
に塩化第２鉄あるいは塩化第２銅溶液が用いられる）は
、基板１と同様にニッケルをも容易にエツチングするか
らである（エツチングレートは、銅の場合もニッケルの
場合もほとんど同じである）。
図であるが、本発明は、第２図（Ｄ）の工程において、
基板１の表裏にニッケル＊Ｘ＊を析出させる点に特徴が
ある。それ以外は、従来の工程と同様であり、裏面にニ
ッケル薄膜があることにより、たとえば、第２図（Ｅ）
以降の工程で不都合が生じるようなことは全くない、な
ぜなら、基板１のエツチングに用いるエッチャント（主
に塩化第２鉄あるいは塩化第２銅溶液が用いられる）は
、基板１と同様にニッケルをも容易にエツチングするか
らである（エツチングレートは、銅の場合もニッケルの
場合もほとんど同じである）。
また、第２図（Ｄ）の工程では、表面だけにニッケル薄
膜４を析出させるために、裏面には保護膜（フォトレジ
スト等が使用される）を形成しているが（ただし、第２
図では説明を簡単にするために、図示されていない）、
本発明によれば、その必要はなく、工程の短縮もできる
。
膜４を析出させるために、裏面には保護膜（フォトレジ
スト等が使用される）を形成しているが（ただし、第２
図では説明を簡単にするために、図示されていない）、
本発明によれば、その必要はなく、工程の短縮もできる
。
裏面のニッケル薄膜４は、表面の薄膜４と似たような物
理的性質を示すようなものであれば、特にニッケル薄膜
に限定はしないが、工程上の便利さ、又、機能上の有利
さく表裏が同じ材質であり、同じ厚さだけついているの
が最も望ましい）より、表面４と同じニッケル薄膜が望
ましい。いうまでもないが、薄膜４の材料としてニッケ
ル以外のもの（たとえば金）が用いられれば表裏とも同
一の材料たとえば金が用いられる。
理的性質を示すようなものであれば、特にニッケル薄膜
に限定はしないが、工程上の便利さ、又、機能上の有利
さく表裏が同じ材質であり、同じ厚さだけついているの
が最も望ましい）より、表面４と同じニッケル薄膜が望
ましい。いうまでもないが、薄膜４の材料としてニッケ
ル以外のもの（たとえば金）が用いられれば表裏とも同
一の材料たとえば金が用いられる。
班来
以上の説明から明らかなように、本発明によると、
イ）従来片側だけにニッケル薄膜が形成されていたため
、メッキの応力で、できあがった板状部材がそってしま
い、不都合が生じていた。具体的には、複数のノズル大
を有するマルチノズルプレートにおいて、このようなそ
りがあったため、噴射方向がそろわず、使用に耐えなか
った。しかしながら、本発明のように裏面にもニッケル
ｆｆ膜を形成することにより、表裏の応力を打ち消しあ
うことができ、そりのない平面度のすぐれたマルチノズ
ルプレートの製作が可能になった。
、メッキの応力で、できあがった板状部材がそってしま
い、不都合が生じていた。具体的には、複数のノズル大
を有するマルチノズルプレートにおいて、このようなそ
りがあったため、噴射方向がそろわず、使用に耐えなか
った。しかしながら、本発明のように裏面にもニッケル
ｆｆ膜を形成することにより、表裏の応力を打ち消しあ
うことができ、そりのない平面度のすぐれたマルチノズ
ルプレートの製作が可能になった。
また、上記実施例では、マルチノズルプレートを例にあ
げたが、シングルノズルにも通用することができる。た
だし、効果としては、マルチノズルプレート或いは大型
のメカニカルマスクのようなものに特に良い結果が得ら
れる（なぜならば、小さいシングルノズルでは、そりは
あまり問題にならない）。
げたが、シングルノズルにも通用することができる。た
だし、効果としては、マルチノズルプレート或いは大型
のメカニカルマスクのようなものに特に良い結果が得ら
れる（なぜならば、小さいシングルノズルでは、そりは
あまり問題にならない）。
口）第２図（Ｄ）の工程が短縮できる（裏面の保護膜塗
布（図示していない）が不要になる）。
布（図示していない）が不要になる）。
等の利点がある。
第１図は、本発明によ名簿板部材の一実施例を説明する
ための要部断面図、第２図は、従来の板状部材の製作方
法の一例を説明するための製作工程図、第３図は、第２
図（Ｇ）の一部拡大図である。 １１・・基Ｆｉ＜＊板）、４・・・薄膜、５・・・保護
膜。 第２図 第３ｒＩＪ 第１ｙ１ 手続補正書輸発） 昭和６０年９月１２日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 ２、発明の名称 板状部材 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 オオタ り ナカマゴメ 住所 東京都大田区中馬込１丁目３番６号氏名（名称
） （６７４）株式会社リコー代表者 浜 １）
広 ４、代 理 人 住 所 〒２３１ 横浜市中区不老町１−２−７
シヤトレーイン横浜８０７号 ６、補正の対象 （１）、明細書の発明の詳細な説明の欄１、ＷＪ正の内
容 （１）、明細書第２頁第１０行目に記載のｒ鋼、」をｒ
ｉｌｌ、 Ｊに補正する。 、同第３頁第９行〜１０行目に記載の「ここで前記・・
・川されない〔第２図（Ｄ）〕。」を「ここで前記フォ
トレジスト２は、非導電性であるため直接ニッケルは析
出されないが、周囲の基板１よりせり出した形でニッケ
ルがかぶされる〔第２図（Ｄ） ） 、 Ｊに補正する
。 （３）、同第３頁第１９行目に記載の「拡大して」を削
除する。 、同第７頁第１３行目に記載の「一部拡大図」を「一部
を示す図」に補正する。 、−１、第２図を別紙の°通り補正する。
ための要部断面図、第２図は、従来の板状部材の製作方
法の一例を説明するための製作工程図、第３図は、第２
図（Ｇ）の一部拡大図である。 １１・・基Ｆｉ＜＊板）、４・・・薄膜、５・・・保護
膜。 第２図 第３ｒＩＪ 第１ｙ１ 手続補正書輸発） 昭和６０年９月１２日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 ２、発明の名称 板状部材 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 オオタ り ナカマゴメ 住所 東京都大田区中馬込１丁目３番６号氏名（名称
） （６７４）株式会社リコー代表者 浜 １）
広 ４、代 理 人 住 所 〒２３１ 横浜市中区不老町１−２−７
シヤトレーイン横浜８０７号 ６、補正の対象 （１）、明細書の発明の詳細な説明の欄１、ＷＪ正の内
容 （１）、明細書第２頁第１０行目に記載のｒ鋼、」をｒ
ｉｌｌ、 Ｊに補正する。 、同第３頁第９行〜１０行目に記載の「ここで前記・・
・川されない〔第２図（Ｄ）〕。」を「ここで前記フォ
トレジスト２は、非導電性であるため直接ニッケルは析
出されないが、周囲の基板１よりせり出した形でニッケ
ルがかぶされる〔第２図（Ｄ） ） 、 Ｊに補正する
。 （３）、同第３頁第１９行目に記載の「拡大して」を削
除する。 、同第７頁第１３行目に記載の「一部拡大図」を「一部
を示す図」に補正する。 、−１、第２図を別紙の°通り補正する。
Claims (2)
- （１）、薄板の一方の面に該薄板の材質と異なる材料が
層状に付与、形成された板状部材において、該薄板の他
方の面に前記材料と同一又は類似の物理的、機械的性質
をもつ材料が層状に付与、形成されていることを特徴と
する板状部材。 - （２）、前記薄板が銅もしくは銅系の合金もしくはアル
ミニウムもしくはアルミニウム系の合金もしくはステン
レス鋼もしくはニッケルもしくはガラスもしくはシリコ
ンであり、前記材料が銅、もしくはニッケルもしくはア
ルミもしくはクロムもしくは金もしくは白金もしくはＳ
ｉＯ＿２もしくはＳｉ＿３Ｎ＿４であり、前記薄板の材
質と前記材料の材質が一致しない組み合わせであること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の板状部
材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090228A JPS61248753A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 板状部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090228A JPS61248753A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 板状部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61248753A true JPS61248753A (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=13992622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60090228A Pending JPS61248753A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 板状部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61248753A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5387440A (en) * | 1991-03-28 | 1995-02-07 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing a said nozzle plate |
| US6000783A (en) * | 1991-03-28 | 1999-12-14 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing said nozzle plate |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP60090228A patent/JPS61248753A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5387440A (en) * | 1991-03-28 | 1995-02-07 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing a said nozzle plate |
| US6000783A (en) * | 1991-03-28 | 1999-12-14 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing said nozzle plate |
| US6016601A (en) * | 1991-03-28 | 2000-01-25 | Seiko Epson Corporation | Method of preparing the nozzle plate |
| US6357857B1 (en) | 1991-03-28 | 2002-03-19 | Kiyohiko Takemoto | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing said nozzle plate |
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