JPS61247743A - 防汚性・低反射性プラスチツク - Google Patents
防汚性・低反射性プラスチツクInfo
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- JPS61247743A JPS61247743A JP8877685A JP8877685A JPS61247743A JP S61247743 A JPS61247743 A JP S61247743A JP 8877685 A JP8877685 A JP 8877685A JP 8877685 A JP8877685 A JP 8877685A JP S61247743 A JPS61247743 A JP S61247743A
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- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明唸表面に反射防止塗膜が形成されたプラスチック
に関し、特に、防汚性と低反射性に優れ、しかも耐擦傷
性をも有する低反射性プラスチックに関するものである
。
に関し、特に、防汚性と低反射性に優れ、しかも耐擦傷
性をも有する低反射性プラスチックに関するものである
。
〔従来の技術］
一般に、プラスチック材料、特に透明プラスチック材料
は透明性に加えて、自身の有する軽量、耐衝撃性及び易
加工性などの利点を活かして、建築物の窓・ドアー・間
仕切シ、ショーウィンド・ショーケース、車輛の窓・照
明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機器のハウジング、光
学レンズ、メガネレンズなどの広い分野に利用されてい
る。
は透明性に加えて、自身の有する軽量、耐衝撃性及び易
加工性などの利点を活かして、建築物の窓・ドアー・間
仕切シ、ショーウィンド・ショーケース、車輛の窓・照
明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機器のハウジング、光
学レンズ、メガネレンズなどの広い分野に利用されてい
る。
しかしながら、それらプラスチック材料カラなる成形品
は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、ある
いは周囲の景観が映シ、透視性や透明性（支障を与えた
シ、光の反射によ多光線透過率が低下して、プラスチッ
クを通して見ると明るさが損なわれるという問題がある
。
は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、ある
いは周囲の景観が映シ、透視性や透明性（支障を与えた
シ、光の反射によ多光線透過率が低下して、プラスチッ
クを通して見ると明るさが損なわれるという問題がある
。
従来から、ガラス、プラスチックなどの透明物品表面の
低反射化は光学部品を中心に開発が進められてきていて
、通常、プラスチック成形体の表面に反射防止膜を形成
することによって行なわれている。反射防止膜は例えば
、Ｍｇ１Ｆ、、ＬｉＦ’ ＸＴｈＦ４、氷晶石などの無
機フッ化物、５ｉＯ１ｓ ｉ Ｏ，、Ｚｒ０１．０ｅ０
２、Ａ’ｌ、Ｏ，などの金属酸化物を真空蒸着やスパッ
タリングなどの方法によって単層あるいは複層の塗膜と
して形成されている。一方、高分子物質からなる低反射
処理剤を直接塗布あるいは処理剤中に浸漬することによ
る反射防止塗膜の形成方法ならびに処理剤が提案されて
いる。しかしながら、かかる処理剤はガラス、プラスチ
ックなどの表面への接着性に劣るため、多くの場合、プ
レコート層が形成され、その層上に処理されて、反射防
止塗膜として形成される。これらの改良された反射防止
塗膜の形成方法として、例えば、透明材料、特にプラス
チック基材上に金属酸化物含有組成物を水を含む条件下
で処理してプレコート層を設け、該プレコート層上に有
機ケイ素化合物を含有する組成物からなる反射防止塗膜
を形成させる方法（特開昭５９−４９９６０号公報）が
開示されている。また、本−発明者も硬度と低反射性に
優れた反射防止塗膜として７ラン化合物とポリフルオロ
化基含有化合物からなる多層構造の低反射率塗膜（特開
昭５９−１１５８４０号公報）を提案している。
低反射化は光学部品を中心に開発が進められてきていて
、通常、プラスチック成形体の表面に反射防止膜を形成
することによって行なわれている。反射防止膜は例えば
、Ｍｇ１Ｆ、、ＬｉＦ’ ＸＴｈＦ４、氷晶石などの無
機フッ化物、５ｉＯ１ｓ ｉ Ｏ，、Ｚｒ０１．０ｅ０
２、Ａ’ｌ、Ｏ，などの金属酸化物を真空蒸着やスパッ
タリングなどの方法によって単層あるいは複層の塗膜と
して形成されている。一方、高分子物質からなる低反射
処理剤を直接塗布あるいは処理剤中に浸漬することによ
る反射防止塗膜の形成方法ならびに処理剤が提案されて
いる。しかしながら、かかる処理剤はガラス、プラスチ
ックなどの表面への接着性に劣るため、多くの場合、プ
レコート層が形成され、その層上に処理されて、反射防
止塗膜として形成される。これらの改良された反射防止
塗膜の形成方法として、例えば、透明材料、特にプラス
チック基材上に金属酸化物含有組成物を水を含む条件下
で処理してプレコート層を設け、該プレコート層上に有
機ケイ素化合物を含有する組成物からなる反射防止塗膜
を形成させる方法（特開昭５９−４９９６０号公報）が
開示されている。また、本−発明者も硬度と低反射性に
優れた反射防止塗膜として７ラン化合物とポリフルオロ
化基含有化合物からなる多層構造の低反射率塗膜（特開
昭５９−１１５８４０号公報）を提案している。
前記の反射防止膜の形成°方法において、真空蒸着ある
いはスパッタリング法は装置の機構上及びコスト面から
適応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制
約があり、更に連続的製造には適していない。
いはスパッタリング法は装置の機構上及びコスト面から
適応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制
約があり、更に連続的製造には適していない。
一方前記のごとき公知の低反射処理剤はプラスチック表
面への接着性は充分でなく、プレコート層の形成を必要
とし、低反射処理工程を煩雑なものとして、コスト的（
不利である。しかも形成された反射防止塗膜は大気中に
浮遊する塵埃、水滴、油滴などが付着して汚染されると
塗膜の構造特性から通常の洗浄作業によっては容易に除
去されず、例えば強く払拭すると塗膜に傷を生じ、つい
には剥離してしまい、耐擦傷性に劣るという問題がある
。
面への接着性は充分でなく、プレコート層の形成を必要
とし、低反射処理工程を煩雑なものとして、コスト的（
不利である。しかも形成された反射防止塗膜は大気中に
浮遊する塵埃、水滴、油滴などが付着して汚染されると
塗膜の構造特性から通常の洗浄作業によっては容易に除
去されず、例えば強く払拭すると塗膜に傷を生じ、つい
には剥離してしまい、耐擦傷性に劣るという問題がある
。
したがって、低反射処理工程が簡単であシ、しかも形成
された反射防止塗膜は耐擦傷性と防汚性とに優れている
低反射性プラスチックの開発が望まれている。
された反射防止塗膜は耐擦傷性と防汚性とに優れている
低反射性プラスチックの開発が望まれている。
本発明者は、前記問題点に鑑み、プラスチック表面に対
して接着性に優れ、しかも形成された反射防止塗膜は耐
擦傷性と防汚性とを満足する低反射処理剤について種々
研究、検討を行なった。その結果、特定の含フツ素シリ
コーン化合物の２種とシリコーン化合物との三成分から
なる組成物は反射防止塗膜としてプラスチック表面に形
成されると、前記問題点を解決するに足る塗膜となシ得
るという事実を見い出し本発明を完成するに至ったもの
である。
して接着性に優れ、しかも形成された反射防止塗膜は耐
擦傷性と防汚性とを満足する低反射処理剤について種々
研究、検討を行なった。その結果、特定の含フツ素シリ
コーン化合物の２種とシリコーン化合物との三成分から
なる組成物は反射防止塗膜としてプラスチック表面に形
成されると、前記問題点を解決するに足る塗膜となシ得
るという事実を見い出し本発明を完成するに至ったもの
である。
而して、上記組成物において、三成分のいずれが欠けて
も特性は満足されないが、三成分が含まれることによっ
て各種プラスチックに応用が可能であって、プラスチッ
クの有する透明性、透視性を損なうことなく、塗布、吹
付け、浸漬など既知の簡便な方法によってプラスチック
表面上に塗膜として形成されることによって、可視光全
域を平均に低反射化し、しかも耐擦傷性、防汚性にも優
れた低反射プラスチックが得られるものである。
も特性は満足されないが、三成分が含まれることによっ
て各種プラスチックに応用が可能であって、プラスチッ
クの有する透明性、透視性を損なうことなく、塗布、吹
付け、浸漬など既知の簡便な方法によってプラスチック
表面上に塗膜として形成されることによって、可視光全
域を平均に低反射化し、しかも耐擦傷性、防汚性にも優
れた低反射プラスチックが得られるものである。
即ち、本発明は、表面に反射防止膜が形成された低反射
性プラスチックにおいて、下記一般式で表わされる化合
物を含有する反射防止膜組成物からなる塗膜が形成され
てなることを特徴とする防汚性・低反射性プラスチック
を提供するものである。
性プラスチックにおいて、下記一般式で表わされる化合
物を含有する反射防止膜組成物からなる塗膜が形成され
てなることを特徴とする防汚性・低反射性プラスチック
を提供するものである。
一般式
Ｒ４” −Ａ−８ｉＸｌ ５〜８０
重量％Ｘ３Ｓｉ −Ａ −Ｒｆ”−Ａ−８１Ｘ３
５〜９４重量％８ｉＸ４
１〜９０重量僑（但し、式中人は二価の有機基、Ｘはハ
ロゲン、ＯＣＲ，ＯＲ，Ｒは低級アルキル基、Ｒｆｌは
ポリフルオロアルキル基、Ｒｆ”はフッ素ヲ含有する炭
素数２以上の二価の有機基を示す。
重量％Ｘ３Ｓｉ −Ａ −Ｒｆ”−Ａ−８１Ｘ３
５〜９４重量％８ｉＸ４
１〜９０重量僑（但し、式中人は二価の有機基、Ｘはハ
ロゲン、ＯＣＲ，ＯＲ，Ｒは低級アルキル基、Ｒｆｌは
ポリフルオロアルキル基、Ｒｆ”はフッ素ヲ含有する炭
素数２以上の二価の有機基を示す。
本発明におけるプラスチックとしては、表面の反射を低
下させる目的から透明プラスチックであるのが好適であ
る。かかる透明プラスチックとしては、例えば、ポリ（
ジエチレングリコ−、にビスアリルカーボネート）、ポ
リカーボネート、ポリメタアクリレート、ポリスチレン
、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。
下させる目的から透明プラスチックであるのが好適であ
る。かかる透明プラスチックとしては、例えば、ポリ（
ジエチレングリコ−、にビスアリルカーボネート）、ポ
リカーボネート、ポリメタアクリレート、ポリスチレン
、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。
而して、かかる透明プラスチックのみに限定されるもの
ではない。
ではない。
本発明の反射防止膜組成物は一般式Ｒｔｌ−ム−８ｉＸ
３、Ｘ３Ｓｉ −Ａ−Ｒｆ” −Ａ−８ｉＸ３．８１Ｘ
４で表わされる各化合物の三成分よシなるが、Ｒ４”−
Ａ−８ｉＸ１で表わされる化合物は塗膜の低屈折率化及
び防汚性付与、Ｘ３Ｓｉ −Ａ−Ｒ１−”−Ａ−８１Ｘ
１で表わされる化合物は低屈折率化及び耐擦傷性向上、
そして８１ｘ４ は耐擦傷性向上に有用であって、こ
れら三成分が最適な割合で組合せられることによって低
反射性、防汚性及び耐擦傷が発現されるも） のである
。
３、Ｘ３Ｓｉ −Ａ−Ｒｆ” −Ａ−８ｉＸ３．８１Ｘ
４で表わされる各化合物の三成分よシなるが、Ｒ４”−
Ａ−８ｉＸ１で表わされる化合物は塗膜の低屈折率化及
び防汚性付与、Ｘ３Ｓｉ −Ａ−Ｒ１−”−Ａ−８１Ｘ
１で表わされる化合物は低屈折率化及び耐擦傷性向上、
そして８１ｘ４ は耐擦傷性向上に有用であって、こ
れら三成分が最適な割合で組合せられることによって低
反射性、防汚性及び耐擦傷が発現されるも） のである
。
ここで、一般式Ｒ４’−Ａ−ＢＩＸＢ
で表わされる化合物は Ｒｆｌは防汚性の付与と、その
向上という点でポリフルオロアルキル基であるのが好ま
しく、エーテル結合が含まれていテモヨイ。Ａは二価の
有機基、Ｘはハロゲン、ＱＣ！Ｒ，ＯＲであってＲは低
級アルキル基である。
向上という点でポリフルオロアルキル基であるのが好ま
しく、エーテル結合が含まれていテモヨイ。Ａは二価の
有機基、Ｘはハロゲン、ＱＣ！Ｒ，ＯＲであってＲは低
級アルキル基である。
かかる化合物を例示すると
Ｒｆ（ＣＨＩ）１８１Ｃ１３，Ｒｆ（ＯＨ２）２８１（
ＯＯＨｓ）ｓ。
ＯＯＨｓ）ｓ。
ＲｆＯＯＮＨ（ＯＨ２）３８１（００２Ｈｓ）ｓ。
Ｒｆａｏｎｎ（ａｍ２）！ｎＨ（ａｍ、）、５ｘ（ｏｃ
、ａ、）、 。
、ａ、）、 。
Ｒｆ ８０１Ｎ（ＣＨｌ ） （Ｏ馬）１ ＣＯＭＨ（
０Ｈ１）３８１ （０Ｃ１Ｈｊ）３ 。
０Ｈ１）３８１ （０Ｃ１Ｈｊ）３ 。
Ｒｆ（ＯＨＩ）１０ｃＯ（ＣＨｌ）ｔ８（ＯＨｚ）ｓ８
１（ＯＣＲｓ）ｓ 。
１（ＯＣＲｓ）ｓ 。
Ｒｆ（ＯＨ２）ｘＯｃＯＮＨ（ＯＨＭ ）３８１ （Ｏ
Ｏ＊Ｈ＠）ｚ 。
Ｏ＊Ｈ＠）ｚ 。
Ｏ
Ｒｆ（ＣＨｔ）２ＮＨ（ＯＨｇ）ｔ ８１（００１ｉｓ
）ｓ。
）ｓ。
Ｒｆ（ＯＨｚ）ｚＮＨ（ＯＨｔ）１８１（ＯＯＨ４ｃＨ
１００Ｈ１）３゜（但し、Ｒｆはポリフルオロアルキル
基、ｍは１以上の整数） などのポリフルオロアルキル基含有７ラン化合物、ポリ
フルオロアルキル基がエーテル結合を有するシラン化合
物が挙げられる。
１００Ｈ１）３゜（但し、Ｒｆはポリフルオロアルキル
基、ｍは１以上の整数） などのポリフルオロアルキル基含有７ラン化合物、ポリ
フルオロアルキル基がエーテル結合を有するシラン化合
物が挙げられる。
上記一般式Ｒｆｌ−Ａ−８１Ｘ で表わされる化合物
は反射防止膜組成物中５〜８０重量優含まれるのが好ま
しい。５重量係以下では防汚性が、また８０重ｔ％以上
であると耐擦傷性が低下する。
は反射防止膜組成物中５〜８０重量優含まれるのが好ま
しい。５重量係以下では防汚性が、また８０重ｔ％以上
であると耐擦傷性が低下する。
次に、一般式！３８１−Ａ−Ｒｆ”−Ａ−ＢＩＭＢ テ
表わされる化合物は、Ｒｅ”がフッ素を含有する炭素数
２以上の二価の有機基であってム、Ｘは前記と同一であ
る。かかる化合物としては例えば０１ｓＢ１ＣｚＨ４（
ＯＦｇ ％Ｃ！Ｈ４８１０１ｇ −（（！Ｈ３０）ｓ８
１０２Ｈ４（ＣＦ２）ｎ＋４Ｈ４Ｓｉ（ＯＯＨｘ）！−
（但し、ｎは２〜１４の整数） などが挙げられる。
表わされる化合物は、Ｒｅ”がフッ素を含有する炭素数
２以上の二価の有機基であってム、Ｘは前記と同一であ
る。かかる化合物としては例えば０１ｓＢ１ＣｚＨ４（
ＯＦｇ ％Ｃ！Ｈ４８１０１ｇ −（（！Ｈ３０）ｓ８
１０２Ｈ４（ＣＦ２）ｎ＋４Ｈ４Ｓｉ（ＯＯＨｘ）！−
（但し、ｎは２〜１４の整数） などが挙げられる。
上記、一般式ＸｚＢＬ −Ａ−Ｒｆ”−Ａ−８１Ｘ３
”ｔ’表わサレる化合物は反射防止膜組成物中５〜９４
重量係重量包含のが好ましく、５重量暢以下であると耐
擦傷性が、９４重量係以上であると防汚性が低下する。
”ｔ’表わサレる化合物は反射防止膜組成物中５〜９４
重量係重量包含のが好ましく、５重量暢以下であると耐
擦傷性が、９４重量係以上であると防汚性が低下する。
更に一般式ＳｉＸ４ で表わされる化合物はＸは前記
と同一である。この化合物としては８１０１４、 ８１
（ＯＣＲｓ）ａ、 ＋３１（ＯＯ２Ｈｓ）４゜Ｓｉ（
ＯＣＯＨ３）４ などを例示することができる。この一般弐８１Ｘ４で表
わされる化合物は反射防止膜組成物１〜９０重量係含ま
れるのが好ましく、１重量僑以下では耐擦傷性が、９０
重量係以上では低反射性、防汚性が低下する。
と同一である。この化合物としては８１０１４、 ８１
（ＯＣＲｓ）ａ、 ＋３１（ＯＯ２Ｈｓ）４゜Ｓｉ（
ＯＣＯＨ３）４ などを例示することができる。この一般弐８１Ｘ４で表
わされる化合物は反射防止膜組成物１〜９０重量係含ま
れるのが好ましく、１重量僑以下では耐擦傷性が、９０
重量係以上では低反射性、防汚性が低下する。
上記、三成分を構成する化合物において、それぞれの化
合物内で数株が組合わされてもよい。
合物内で数株が組合わされてもよい。
反射防止膜組成物は上記、三成分を構成する化合物の他
に反射防止膜の特性を向上させる目的で、シリカゾルな
どの無機質フィラーや、例えば ０ＨＩ−ＯＨＯ］１１０（ＯＨ２）３Ｅｌｉ（ＯＣＲｓ
）ｓ ｌＮＨ鵞（Ｃ馬）！ＮＨ（ＣＨ鵞）、ｓ １（ｏ
ｃＨ＊）ｓ。
に反射防止膜の特性を向上させる目的で、シリカゾルな
どの無機質フィラーや、例えば ０ＨＩ−ＯＨＯ］１１０（ＯＨ２）３Ｅｌｉ（ＯＣＲｓ
）ｓ ｌＮＨ鵞（Ｃ馬）！ＮＨ（ＣＨ鵞）、ｓ １（ｏ
ｃＨ＊）ｓ。
Ｍｎ１（ｃｎ、）、５１（ｏａａ３）、、 ａｍ！−
ｃａｓｌ（ｏａａ３）、。
ｃａｓｌ（ｏａａ３）、。
ＯＲ。
０ｕｔ−ＯＨＥｌｉＯｌｓ、 ＯＨ，−００００（Ｃ
Ｈ，）ｓ８１（ＯＣＨｓ）、。
Ｈ，）ｓ８１（ＯＣＨｓ）、。
Ｈ８（ＯＨ，）、５ｉ（ＯＯＨｓ）ｓ、 Ｎｅｏ（Ｏ
ｕｔ）ｓ８１（００，Ｈｓ）ｓ。
ｕｔ）ｓ８１（００，Ｈｓ）ｓ。
ａｌ（ａｎ、）、５ｔ（ｏｃＨｊ）、。
などのシランカップリング剤、あるいは架橋剤、帯電防
止剤、その他の特性改良用の添加剤などが配合、含有さ
れてもよい。
止剤、その他の特性改良用の添加剤などが配合、含有さ
れてもよい。
反射防止膜組成物は塗膜形成用の処理液として次のよう
に調製される。即ち、前記三成分を構成するそれぞれの
化合物を所定の割合に従って混合して、溶媒中触媒の存
在下に加水分解反応せしめて、部分縮合体となし、溶媒
に溶解された処理液として調製される。かかる加水分解
反応における溶媒はアルコール類、例えば、ブタノール
、好ましくはｔａｒｔ−ブタノールが用いられ、触媒と
しては塩酸、酢酸あるいは他の有機酸が使用され、反応
は室温にて攪拌する乙とによって行なわれる。溶媒の量
は調製された処理液のプラスチック表面への塗布性ある
いは形成される塗膜の膜厚が考慮され、部分縮合体が１
〜２０重量俤、好ましくＦｉ２〜５重量憾となるように
調整される。
に調製される。即ち、前記三成分を構成するそれぞれの
化合物を所定の割合に従って混合して、溶媒中触媒の存
在下に加水分解反応せしめて、部分縮合体となし、溶媒
に溶解された処理液として調製される。かかる加水分解
反応における溶媒はアルコール類、例えば、ブタノール
、好ましくはｔａｒｔ−ブタノールが用いられ、触媒と
しては塩酸、酢酸あるいは他の有機酸が使用され、反応
は室温にて攪拌する乙とによって行なわれる。溶媒の量
は調製された処理液のプラスチック表面への塗布性ある
いは形成される塗膜の膜厚が考慮され、部分縮合体が１
〜２０重量俤、好ましくＦｉ２〜５重量憾となるように
調整される。
かくして調製された塗膜形成用の処理液のプラスチック
表面への塗布方法は、はけ塗膜、ロールｍｂ、スピニン
グ、吹付け、あるいは浸漬など既知の方法によって行な
われる。
表面への塗布方法は、はけ塗膜、ロールｍｂ、スピニン
グ、吹付け、あるいは浸漬など既知の方法によって行な
われる。
塗布後は５０〜１５０℃の温度で２０分以上硬化処理す
ることによって塗膜が形成される。
ることによって塗膜が形成される。
硬化処理における温度の設定はプラスチックの軟化温度
との関係において適当に選定される。
との関係において適当に選定される。
形成される塗膜の膜厚は（１２ｐ以下、好ましくはＩＩ
Ｌ０５〜［１１μでちって、かかる膜厚の調整は塗布方
法の条件によってなし得る本のであシ、例えば浸漬法に
おいては組成物濃度と引上げ速度とによって決定される
。
Ｌ０５〜［１１μでちって、かかる膜厚の調整は塗布方
法の条件によってなし得る本のであシ、例えば浸漬法に
おいては組成物濃度と引上げ速度とによって決定される
。
プラスチック表面に形成される塗膜の密着性は上記の方
法によれば実用上は充分であるが、プラスチック表面を
予め、アルカリ処理、グロー放電処理、プラズマ処理な
どの活性処理を施こすことによって、更（向上せしめる
ことができる。
法によれば実用上は充分であるが、プラスチック表面を
予め、アルカリ処理、グロー放電処理、プラズマ処理な
どの活性処理を施こすことによって、更（向上せしめる
ことができる。
〔実施例］
次に、本発明を実施例によシ具体的に説明するが本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。尚、実
施例において防汚性・低反射性プラスチックとしての評
価試験方法は次の通りである。
はこれら実施例のみに限定されるものではない。尚、実
施例において防汚性・低反射性プラスチックとしての評
価試験方法は次の通りである。
反射率測定：自記分光光度計正反射光測定付属装置（日
立製作新製：３２３型）を使用し、波長４００ ｎｍ〜
７００ ｎｍの入射角５°における平均反射率を測定。
立製作新製：３２３型）を使用し、波長４００ ｎｍ〜
７００ ｎｍの入射角５°における平均反射率を測定。
膜厚測定二″タリステップ＝ （Ｒａｎｋ ’ｒａｙｘ
ｏｒＨｏｂｓｏｎ 社製）を使用し針圧測定よシ求め
る。
ｏｒＨｏｂｓｏｎ 社製）を使用し針圧測定よシ求め
る。
耐擦傷性：綿布を５００２荷重下、１０００回摩擦し傷
の発生の有無を確認 防汚性二油性７エ゛ルトペンにて汚染し、１時間放置後
、綿布で払拭し、インクの除去性を確認。
の発生の有無を確認 防汚性二油性７エ゛ルトペンにて汚染し、１時間放置後
、綿布で払拭し、インクの除去性を確認。
実施例１
下記［Ａ］〜〔Ｃ］の化合物とｔａｒｔ−ブタノール２
ＳＱＱｆとを混合し、それに１俤塩酸水溶液１＆３ｆを
加え室温で２４時間攪拌しながら反応させて、反射防止
塗膜形成用の処理液を調製した。
ＳＱＱｆとを混合し、それに１俤塩酸水溶液１＆３ｆを
加え室温で２４時間攪拌しながら反応させて、反射防止
塗膜形成用の処理液を調製した。
［Ａ］ ＲｆＯ２Ｈ，Ｓｉ（ＯＣＨ３）、
５０ｔ（ここで、ＲｆはＯｎ’２ｎ＋１でｎ
は６〜１６で平均値９）［Ｂ］ （ＣＨ３０）３ＳｉＣ
２Ｈ４（４Ｆ′１２Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
４０９［０３５ｉ（ＯＣＲｓ）４
１０ｆ別にポリ（ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート）製の平板（５０ｍ Ｘ ５０
ｓａｔ Ｘ Ｓ−）を１０％苛性ソーダ水溶液に浸漬後
、水洗、乾燥して用意し、これを上記処理液に浸漬し７
、５ ｃｍ ／ ｍｉｎの速度で引上げ、室温にて１０
分間乾燥後、続いて１２０℃で６０分間加熱して硬化さ
せ、反射防止塗膜を形成した。形成された塗膜の膜厚は
１０９μ、波長４００ ｎｍから７００ ｎｍにおける
平均反射率は片面当９１．７俤でちった。また、塗膜の
耐擦傷性試験において傷の発生は全く認められず、防汚
性試験においてはインクは、はじかれ、払拭することに
よって完全に除去することができた。
５０ｔ（ここで、ＲｆはＯｎ’２ｎ＋１でｎ
は６〜１６で平均値９）［Ｂ］ （ＣＨ３０）３ＳｉＣ
２Ｈ４（４Ｆ′１２Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
４０９［０３５ｉ（ＯＣＲｓ）４
１０ｆ別にポリ（ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート）製の平板（５０ｍ Ｘ ５０
ｓａｔ Ｘ Ｓ−）を１０％苛性ソーダ水溶液に浸漬後
、水洗、乾燥して用意し、これを上記処理液に浸漬し７
、５ ｃｍ ／ ｍｉｎの速度で引上げ、室温にて１０
分間乾燥後、続いて１２０℃で６０分間加熱して硬化さ
せ、反射防止塗膜を形成した。形成された塗膜の膜厚は
１０９μ、波長４００ ｎｍから７００ ｎｍにおける
平均反射率は片面当９１．７俤でちった。また、塗膜の
耐擦傷性試験において傷の発生は全く認められず、防汚
性試験においてはインクは、はじかれ、払拭することに
よって完全に除去することができた。
実施例２〜６、比較例１〜４
実施例１におけるＣＡ〕〜〔Ｃ〕の化合物の量を第１表
に示す量に変えた他は、実施例１と同様の方法により、
反射防止塗膜形成用の処理液を調製した。次いで、実施
例１と同様に平板に処理して反射防止塗膜の形成された
平板を得て、その評価試験を行なった。試験結果を第１
表に示した。
に示す量に変えた他は、実施例１と同様の方法により、
反射防止塗膜形成用の処理液を調製した。次いで、実施
例１と同様に平板に処理して反射防止塗膜の形成された
平板を得て、その評価試験を行なった。試験結果を第１
表に示した。
第 １ 表
畳１）ｈ：傷の発生なし Ｂ：若干の傷の発生ありＣ
：多数の傷の発生あシ ｌ１２）○：完全に除去 Δ：除去性に難点あシス
：除去は困難 実施例７〜８ 実施例１における［Ａ］の化合物を第２表に示す化合物
に変えた他は実施例１と同様の方法によシ、反射防止塗
膜形成用の処理液を調製した。
：多数の傷の発生あシ ｌ１２）○：完全に除去 Δ：除去性に難点あシス
：除去は困難 実施例７〜８ 実施例１における［Ａ］の化合物を第２表に示す化合物
に変えた他は実施例１と同様の方法によシ、反射防止塗
膜形成用の処理液を調製した。
続いて平板に処理して反射防止膜の形成され九平板を得
た。その評価試験を行ない結果を第２表に示す。
た。その評価試験を行ない結果を第２表に示す。
第 ２ 表
畳１）、脣２）前記第１表と同。
実施例９
実施例１における［Ｅ］の化合物を
た他は実施例１と同様の方法によシ、反射防止塗膜形成
用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反射防止
膜の形成された平板を得た。
用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反射防止
膜の形成された平板を得た。
形成された塗膜の膜厚は１０９μ、平均反射率は片面当
り１．６％であった。また塗膜の耐擦傷性試験において
傷の発生は全く認められず、防汚性試験においてはイン
クは、はじかれ、払拭することによって完全に除去する
ことができた。
り１．６％であった。また塗膜の耐擦傷性試験において
傷の発生は全く認められず、防汚性試験においてはイン
クは、はじかれ、払拭することによって完全に除去する
ことができた。
実施例１０〜１１
実施例１における平板をポリメタクリル製及びポリウレ
タン製の平板とした他は実施例１と同様に処理して、反
射防止塗膜の形成された平板を得た。その評価試験を行
ない、結果を第３表に示した。
タン製の平板とした他は実施例１と同様に処理して、反
射防止塗膜の形成された平板を得た。その評価試験を行
ない、結果を第３表に示した。
第 ３ 表
憂１）、憂２）前記１と同
〔発明の効果〕
本発明の防汚性・低反射性プラスチックは、従来、得ら
れなかった防汚性と低反射性という両特性を同時に満足
させ、しかも耐擦傷性にも優れているという効果が認め
られるものである。
れなかった防汚性と低反射性という両特性を同時に満足
させ、しかも耐擦傷性にも優れているという効果が認め
られるものである。
特にプラスチック表面に形成される反射防止膜！ｉＩは
塗膜の形成工程が簡略化され、コスト的にも有利である
という効果をも有するものである。
塗膜の形成工程が簡略化され、コスト的にも有利である
という効果をも有するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に反射防止膜が形成された低反射性プラスチッ
クにおいて、下記一般式で表わされる化合物を含有する
反射防止膜組成物からなる塗膜が形成されてなることを
特徴とする防汚性・低反射性プラスチック。 一般式 Ｒ＿ｆ＾１−Ａ−ＳｉＸ＿３ ５〜８０重量％ Ｘ＿３Ｓｉ−Ａ−Ｒ＿ｆ＾２−Ａ−ＳｉＸ＿３ ５〜９
４重量％ ＳｉＸ＿４ １〜９０重量％ （但し、式中Ａは二価の有機基、Ｘはハロゲン、ＯＣＲ
、ＯＲ、Ｒは低級アルキル基、Ｒ＿ｆ＾１はポリフルオ
ロアルキル基、Ｒ＿ｆ＾２はフッ素を含有する炭素数２
以上の二価の有機基を示す。） ２、プラスチックが透明プラスチックである特許請求の
範囲第１項記載の低反射性プラスチック。 ３、プラスチックの表面が活性処理されてなる特許請求
の範囲第１項記載の低反射性プラスチック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8877685A JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8877685A JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61247743A true JPS61247743A (ja) | 1986-11-05 |
| JPH0629332B2 JPH0629332B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=13952253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8877685A Expired - Lifetime JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629332B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0749021A2 (en) * | 1995-06-15 | 1996-12-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Antireflection filter |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
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| US8211544B2 (en) | 2005-04-01 | 2012-07-03 | Daikin Industries, Ltd. | Surface modifier |
| US8664421B2 (en) | 2005-04-01 | 2014-03-04 | Daikin Industries, Ltd. | Surface modifier and its use |
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| JP4862992B2 (ja) | 2006-04-14 | 2012-01-25 | 信越化学工業株式会社 | 防汚性付与剤、防汚性コーティング剤組成物、防汚性被膜及びその被覆物品 |
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| US9957609B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP8877685A patent/JPH0629332B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JPH0629332B2 (ja) | 1994-04-20 |
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