JPS61246699A - 放射性同位元素１８ｆ製造用ターゲット装置 - Google Patents
放射性同位元素１８ｆ製造用ターゲット装置Info
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- JPS61246699A JPS61246699A JP8763485A JP8763485A JPS61246699A JP S61246699 A JPS61246699 A JP S61246699A JP 8763485 A JP8763485 A JP 8763485A JP 8763485 A JP8763485 A JP 8763485A JP S61246699 A JPS61246699 A JP S61246699A
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- Japan
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- target
- chamber
- radioactive isotope
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- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は放射性同位体ｇｌ造用ターゲッ）装置に係り、
特にターゲットチャンバー内に固体状放射性同位体を封
入してターゲット物質を繰返し使用することができる経
済的に有利な放射性同位体製造用ターゲット装置に関す
る。
特にターゲットチャンバー内に固体状放射性同位体を封
入してターゲット物質を繰返し使用することができる経
済的に有利な放射性同位体製造用ターゲット装置に関す
る。
従来の技術
放射性同位体の中で半減期が２．３日間までのものは医
療用として放射性同位体を含んで成る放射性薬剤が用い
られている。中でも半減期が１０９分と極めで短く化学
反応性に富む＋８ｐは前記目的のために好適であり、実
際に水溶液の状態で診断用薬剤の原料として用いられて
いる。
療用として放射性同位体を含んで成る放射性薬剤が用い
られている。中でも半減期が１０９分と極めで短く化学
反応性に富む＋８ｐは前記目的のために好適であり、実
際に水溶液の状態で診断用薬剤の原料として用いられて
いる。
従来ニのような放射性同位体の水溶液を製造する方法と
しては、サイクロトロンにより発生するイオンと−ムを
ターゲット液に照射して核反応（１”Ｏ（Ｐ、ｎ）’
”Ｆ）を介して製造していたが、イオンビームを照射す
ることによってターゲット液が発熱しターゲット液が沸
騰してしまい、それ故得られる放射性同位体の生成量や
収率の向上には限界があった。
しては、サイクロトロンにより発生するイオンと−ムを
ターゲット液に照射して核反応（１”Ｏ（Ｐ、ｎ）’
”Ｆ）を介して製造していたが、イオンビームを照射す
ることによってターゲット液が発熱しターゲット液が沸
騰してしまい、それ故得られる放射性同位体の生成量や
収率の向上には限界があった。
従って、本発明者等はこのような従来法の改良方法とし
て、ターゲットを系中で強制的に循環させ、この循環中
のターゲットにイオンビームを連綬的に照射すると共に
照射後のターゲット液に冷却を行ってタープ・ント液の
沸騰を防止し、連続的に放射性同位体を合成する装置（
特開昭６０−３６００号公開公報参照）を提案した。
て、ターゲットを系中で強制的に循環させ、この循環中
のターゲットにイオンビームを連綬的に照射すると共に
照射後のターゲット液に冷却を行ってタープ・ント液の
沸騰を防止し、連続的に放射性同位体を合成する装置（
特開昭６０−３６００号公開公報参照）を提案した。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら前記装置においてターゲット物質として用
いられるＨ２１１Ｑ等のターゲット物質は非常に嵩価な
物質であるために、前記装置ではＨ１８Ｑが有効に使用
されるよう収率を犠牲にして微少量のＨ，’ＩＯに陽子
照射を行うか、あるいは反応終了後のターゲット液から
Ｈ、”Ｏを回収して再使用するために複雑な回収操作を
行わなければならなかった。
いられるＨ２１１Ｑ等のターゲット物質は非常に嵩価な
物質であるために、前記装置ではＨ１８Ｑが有効に使用
されるよう収率を犠牲にして微少量のＨ，’ＩＯに陽子
照射を行うか、あるいは反応終了後のターゲット液から
Ｈ、”Ｏを回収して再使用するために複雑な回収操作を
行わなければならなかった。
問題点を解決するための手段
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、上下端部に
流体出入口を有するターゲットチャンバーと該ターゲッ
トチャンバー中に充填された粒状又は多孔質状の固体タ
ーゲットと該ターゲットチャンバーの冷却機構とから構
成されたことを特徴とする放射性同位体製造用ターデッ
）装置である。
流体出入口を有するターゲットチャンバーと該ターゲッ
トチャンバー中に充填された粒状又は多孔質状の固体タ
ーゲットと該ターゲットチャンバーの冷却機構とから構
成されたことを特徴とする放射性同位体製造用ターデッ
）装置である。
実施例
本発明の放射性同位体製造用ターゲット装置の一実施例
について以下図面に基づき具体的に説明する。
について以下図面に基づき具体的に説明する。
第１図は本発明実施例の放射性同位体製造用ターゲット
装置の側断面図であり、第２図は本発明の放射性同位体
製造用ターゲット装置を用いた強制循環式の放射性同位
体連続合成装置の全体的な構成を示す７０−チャートで
ある。
装置の側断面図であり、第２図は本発明の放射性同位体
製造用ターゲット装置を用いた強制循環式の放射性同位
体連続合成装置の全体的な構成を示す７０−チャートで
ある。
第１図において、１は粒径１００μｍ以下程度のＡ１、
”ｏ、顆粒のターゲット２が充填されたターゲットチャ
ンバーであり、該ターゲットチャンバー１は内筒中央部
を隔壁３ａにより仕切られた筒状のターゲット本体３と
該ターゲット本体３より外径を小にしてターゲット本体
３をポル）４ａ４ｂにより締着する円筒状７ランノ５に
挟まれた空隙部である。
”ｏ、顆粒のターゲット２が充填されたターゲットチャ
ンバーであり、該ターゲットチャンバー１は内筒中央部
を隔壁３ａにより仕切られた筒状のターゲット本体３と
該ターゲット本体３より外径を小にしてターゲット本体
３をポル）４ａ４ｂにより締着する円筒状７ランノ５に
挟まれた空隙部である。
該空隙部を構成する円筒状７ランジ５はす゛イクロトロ
ン等の陽子ビーム６の照射がうけらけるようにその中心
部が開口されており、開口部５ａが形成されている。更
にそのターゲット本体３側にはホイル押さえ７が嵌装さ
れている。
ン等の陽子ビーム６の照射がうけらけるようにその中心
部が開口されており、開口部５ａが形成されている。更
にそのターゲット本体３側にはホイル押さえ７が嵌装さ
れている。
また、該空隙部を構成するもう一方のターゲット本体３
は前記サイクロトロンの陽子ビーム６の照射を受ける反
対側（図中右側）には蓋体８を覆わせて冷却室９が形成
されており、該蓋体８には冷却水を供給するための管継
手１０ａとそれを排出するための管継手１０ｂとが形成
されている。
は前記サイクロトロンの陽子ビーム６の照射を受ける反
対側（図中右側）には蓋体８を覆わせて冷却室９が形成
されており、該蓋体８には冷却水を供給するための管継
手１０ａとそれを排出するための管継手１０ｂとが形成
されている。
更に、ターゲット本体３の上側と下側には前記空隙部の
ターゲットチャンバー１にターゲット液を供給、排出す
るための管路１１ａ、ｌｌｂが形成されており、該管路
１１ａ、ｌｌｂに連通してターゲット配管継手１２ａ、
１２ｂが各々螺着されている。これら配管継手１２ａ、
１２ｂの先には各々フィルター１３ａ、１３ｂが配設さ
れており、更にその先には熱交換器１４、バッファータ
ンク１５、シュリンノポンプ１６に４が配設されており
、両者はその先で連結して循環系路１７を構成している
。
ターゲットチャンバー１にターゲット液を供給、排出す
るための管路１１ａ、ｌｌｂが形成されており、該管路
１１ａ、ｌｌｂに連通してターゲット配管継手１２ａ、
１２ｂが各々螺着されている。これら配管継手１２ａ、
１２ｂの先には各々フィルター１３ａ、１３ｂが配設さ
れており、更にその先には熱交換器１４、バッファータ
ンク１５、シュリンノポンプ１６に４が配設されており
、両者はその先で連結して循環系路１７を構成している
。
前記円筒状７ランジ５とタープ７ト本体３のサイクロト
ロンの陽子ビーム６の照射を受ける側（図中左Ｉ）との
間には厚さ１０〜４０μ、好ましくは２０μのアルミニ
ウム製、ステンレスチール製等の金属薄膜１８が装着さ
れ、該金属薄膜１８は７ランノ５側のホイル押さえ７と
ターゲット本体３側のターデッ）Ｏリング１９によって
挟着され、金属薄膜１８を強固に張設すると共にターゲ
ットチャンバー１内のターゲット液が外部に漏水しない
よう構成されでいる。
ロンの陽子ビーム６の照射を受ける側（図中左Ｉ）との
間には厚さ１０〜４０μ、好ましくは２０μのアルミニ
ウム製、ステンレスチール製等の金属薄膜１８が装着さ
れ、該金属薄膜１８は７ランノ５側のホイル押さえ７と
ターゲット本体３側のターデッ）Ｏリング１９によって
挟着され、金属薄膜１８を強固に張設すると共にターゲ
ットチャンバー１内のターゲット液が外部に漏水しない
よう構成されでいる。
該ターゲットチャンバー１内にはＡ １２”Ｏ、やＳ
ｉ”０２、などの固体状放射性同位体の粒子をターゲッ
トチャンバー１中に充満させあるいはチャンバーの形状
に合わせて多孔質体に成形することによって得られた固
体状放射性同位体が封入されている。
ｉ”０２、などの固体状放射性同位体の粒子をターゲッ
トチャンバー１中に充満させあるいはチャンバーの形状
に合わせて多孔質体に成形することによって得られた固
体状放射性同位体が封入されている。
このようにして構成した放射性同位体製造用ターゲット
装置はサイクロトロンの陽子ビーム照射口２０に円筒状
７ランジ５の外径に装着される取り付けＯリング２１に
よって嵌装され、サイクロトロンの陽子ビーム６が照射
される。加速された陽子ビーム６は７ランノの射込み開
口部５ａを通過し、ホイル押さえ７のスリット部７ａを
通過して、更に前記１０〜４０μのアルミニウム製ホイ
ル等の金属薄膜１８を透過し、ターゲットチャンバー１
内のターゲット液に浸された放射性同位体の粒子からな
る固体状ターゲット２に照射されて陽電子放出による核
反応を起こさせる。それによって発生した熱を除去する
ために、ターゲットチャンバー１の前記射込み開口部５
ａと反対側（図中左側）に形成した冷却室９に冷却液を
流してターゲットチャンバー１内の熱を除去する。
装置はサイクロトロンの陽子ビーム照射口２０に円筒状
７ランジ５の外径に装着される取り付けＯリング２１に
よって嵌装され、サイクロトロンの陽子ビーム６が照射
される。加速された陽子ビーム６は７ランノの射込み開
口部５ａを通過し、ホイル押さえ７のスリット部７ａを
通過して、更に前記１０〜４０μのアルミニウム製ホイ
ル等の金属薄膜１８を透過し、ターゲットチャンバー１
内のターゲット液に浸された放射性同位体の粒子からな
る固体状ターゲット２に照射されて陽電子放出による核
反応を起こさせる。それによって発生した熱を除去する
ために、ターゲットチャンバー１の前記射込み開口部５
ａと反対側（図中左側）に形成した冷却室９に冷却液を
流してターゲットチャンバー１内の熱を除去する。
一方核反応によって生成した放射性同位体はターゲット
液を循環させることによってターゲットチャンバー１内
より取り出された後循環系内で分離される。その時にタ
ープ７ト液中に混合して固体状ターゲット２の粉末粒子
がターゲットチャンバー１より排出されないようフィル
ター１３ｂによって分別される。
液を循環させることによってターゲットチャンバー１内
より取り出された後循環系内で分離される。その時にタ
ープ７ト液中に混合して固体状ターゲット２の粉末粒子
がターゲットチャンバー１より排出されないようフィル
ター１３ｂによって分別される。
また、これら放射性同位体製造用ターゲット装置および
それに附属する循環系内は核反応によって生成する熱等
によって分解がスが発生したり、蒸気が発生するため通
常２〜３気圧の圧力に耐えられるような耐圧容器となっ
ている。
それに附属する循環系内は核反応によって生成する熱等
によって分解がスが発生したり、蒸気が発生するため通
常２〜３気圧の圧力に耐えられるような耐圧容器となっ
ている。
循環系路としては第２図に示す強制循環式の放射性同位
体連続合成装置２２等があり、該装置において照射され
て生成した放射性同位体を含むターゲット液はターゲッ
トチャンバー１より排出され、さらに熱交換器１４によ
り冷却され、バッファータンク１５で気水分離された後
一時保持される。
体連続合成装置２２等があり、該装置において照射され
て生成した放射性同位体を含むターゲット液はターゲッ
トチャンバー１より排出され、さらに熱交換器１４によ
り冷却され、バッファータンク１５で気水分離された後
一時保持される。
異常反応を起こした場合は安全弁２５が作動し安全装置
に導かれる。
に導かれる。
バッファータンク１５には液面センサー２６が装着され
液面がコントロールされており、バッフ７−タン・り１
５に貯蔵されるターゲット液はシュリンジポンプ１６の
作動により一方向弁１７ａ、１７ｂ及び電磁弁２３ｂ、
２３ｃを通過してターゲットチャンバー１に再循環され
る。該シュリンジポンプ１６は電磁弁２３ｄ、２３ｅの
交互の開閉動作によりコンプレッサーより送られてきた
空気を複動形エアシリング−２７に送ってピストン２８
を左右に作動してシェリンジボンブ１６側のピストンと
連結したピストンロッド２９により連動してターゲット
液を循環させる。
液面がコントロールされており、バッフ７−タン・り１
５に貯蔵されるターゲット液はシュリンジポンプ１６の
作動により一方向弁１７ａ、１７ｂ及び電磁弁２３ｂ、
２３ｃを通過してターゲットチャンバー１に再循環され
る。該シュリンジポンプ１６は電磁弁２３ｄ、２３ｅの
交互の開閉動作によりコンプレッサーより送られてきた
空気を複動形エアシリング−２７に送ってピストン２８
を左右に作動してシェリンジボンブ１６側のピストンと
連結したピストンロッド２９により連動してターゲット
液を循環させる。
該ターゲット循環液は陽子ビーム照射により生成した放
射性同位体を分離・回収するため電磁弁２３ｆを開いて
循環系外にて回収した後再度電磁弁２３．より供給され
る。
射性同位体を分離・回収するため電磁弁２３ｆを開いて
循環系外にて回収した後再度電磁弁２３．より供給され
る。
放射性同位体の分離・回収方法には下記のものがある。
・ 固体ターゲット２を一定時間照射した後、ターゲッ
ト循環液を電磁弁２３ｇより供給して再度照射を液循環
とともに行い、生成した放射性同位体をターゲット循環
液に回収する。
ト循環液を電磁弁２３ｇより供給して再度照射を液循環
とともに行い、生成した放射性同位体をターゲット循環
液に回収する。
・ ターゲット循環液を循環させながら固体ターゲット
を照射し、照射後ターゲット循環液を回収する。この際
、照射ビームがターゲット循環液により消費されるので
、収率は悪くなるが操作は簡単になる。
を照射し、照射後ターゲット循環液を回収する。この際
、照射ビームがターゲット循環液により消費されるので
、収率は悪くなるが操作は簡単になる。
・ 第２図の循環系は用いないで第１図の装置のみを使
用する。つまり固体ターゲット２を一定時間照射した後
、ターゲットチャンバー１に水等を導入して１３ａ、１
３ｂ後部を電磁弁等で閉塞する。
用する。つまり固体ターゲット２を一定時間照射した後
、ターゲットチャンバー１に水等を導入して１３ａ、１
３ｂ後部を電磁弁等で閉塞する。
この状態で再度照射し、水に溶は込んだ放射性同位体を
Ｎ２パージ等で回収する。
Ｎ２パージ等で回収する。
該ターゲット循環液としては例えば水が用いられる。
また、収率を向上させるため、冷却室の蓋体８上に超音
波発生器３０を装着し、ターゲットチャンバー１内に超
音波振動を与えることは推奨される。
波発生器３０を装着し、ターゲットチャンバー１内に超
音波振動を与えることは推奨される。
発明の効果
以上実施例等で詳述したごと（ターゲットチャンバー内
に固形状放射性同位体を封′大してターゲット液を循環
させてサイクロトロンの陽子ビームを照射させることに
よって、ターゲット物質を繰り返し使用で外るので高価
なターゲット物質を節約することができ、経済的に有利
な放射性同位体製造用ターゲット装置を提供することが
できる。
に固形状放射性同位体を封′大してターゲット液を循環
させてサイクロトロンの陽子ビームを照射させることに
よって、ターゲット物質を繰り返し使用で外るので高価
なターゲット物質を節約することができ、経済的に有利
な放射性同位体製造用ターゲット装置を提供することが
できる。
このように本発明は従来に例の無い優れた作用効果を奏
することができるのであって斯界に貢献するところが非
常に大である。
することができるのであって斯界に貢献するところが非
常に大である。
第１図は本発明の実施例の放射性同位体製造用ターゲッ
ト装置の断面図であり、第２図は本発明の放射性同位体
製造用ターゲット装置を用いた強制循環式の放射性同位
体連続合成装置ｃ置の全体的な構成を示す７０−チャー
トである。 １：ターデットチャンバー ２：固体ターゲット ３：ターデット本体 ４ ａｔ ４ ｂ：ポルト ５：円筒状７ランノ ５ａ：開口部 ６：陽子ビーム ７：ホイル押さえ ７ａ：ホイル押さえの開口部 ９：冷却室 １３ａｔｌ ａｂ：フィルター １４：熱交換器 １５：バッ７７−タンク １６：シュリンクポンプ １７：循環系路 １８二金属薄膜 １９：ターゲットＯリング ２０：サイクロトロンの陽子ビーム照射口２１：取付け
０リング ２２：放射性同位体連続合成装置 ２５：安全弁 ２６：［面センサ− ２７：複動形エアシリンダー ２８：ピストン ３０：超音波発生器
ト装置の断面図であり、第２図は本発明の放射性同位体
製造用ターゲット装置を用いた強制循環式の放射性同位
体連続合成装置ｃ置の全体的な構成を示す７０−チャー
トである。 １：ターデットチャンバー ２：固体ターゲット ３：ターデット本体 ４ ａｔ ４ ｂ：ポルト ５：円筒状７ランノ ５ａ：開口部 ６：陽子ビーム ７：ホイル押さえ ７ａ：ホイル押さえの開口部 ９：冷却室 １３ａｔｌ ａｂ：フィルター １４：熱交換器 １５：バッ７７−タンク １６：シュリンクポンプ １７：循環系路 １８二金属薄膜 １９：ターゲットＯリング ２０：サイクロトロンの陽子ビーム照射口２１：取付け
０リング ２２：放射性同位体連続合成装置 ２５：安全弁 ２６：［面センサ− ２７：複動形エアシリンダー ２８：ピストン ３０：超音波発生器
Claims (2)
- （１）上下端部に流体出入口を有するターゲットチャン
バーと該ターゲットチャンバー中に充填された粒状又は
多孔質状の固体ターゲットと該ターゲットチャンバーの
冷却機構とから構成されたことを特徴とする放射性同位
体製造用ターゲット装置。 - （２）粒状又は多孔質状の固体ターゲットがＡｌ＿２＾
１＾８Ｏ＿３である特許請求の範囲第１項記載の放射性
同位体製造用ターゲット装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60087634A JPH0640160B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | 放射性同位元素１８ｆ製造用ターゲット装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60087634A JPH0640160B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | 放射性同位元素１８ｆ製造用ターゲット装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61246699A true JPS61246699A (ja) | 1986-11-01 |
| JPH0640160B2 JPH0640160B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=13920406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60087634A Expired - Lifetime JPH0640160B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | 放射性同位元素１８ｆ製造用ターゲット装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640160B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0954196A (ja) * | 1995-08-17 | 1997-02-25 | Nihon Medi Physics Co Ltd | １８−ｆ製造ターゲット部材及びターゲットシステム |
| JP2003066200A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-03-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | 液体金属ターゲットを備えたｘ線源 |
| JP2005505751A (ja) * | 2001-06-11 | 2005-02-24 | イースタン アイソトープス インコーポレーテッド | Ｆ−１８フッ化物の製造方法および装置 |
| JP2006133138A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 放射性同位元素製造用ターゲット |
| JP2018519517A (ja) * | 2015-06-30 | 2018-07-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 振動装置を有するターゲットアセンブリおよび同位体生成システム |
| KR102063039B1 (ko) * | 2019-01-25 | 2020-01-07 | 한국원자력의학원 | 압력 제어 시스템을 포함하는 방사성 동위원소 생산용 유체타겟 |
| JP2021004807A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 株式会社日立製作所 | 放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125199A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-01 | ||
| JPS603600A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-09 | 住友重機械工業株式会社 | 強制循環式の放射性同位体連続合成方法とそれに用いる装置 |
-
1985
- 1985-04-25 JP JP60087634A patent/JPH0640160B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| KR102063039B1 (ko) * | 2019-01-25 | 2020-01-07 | 한국원자력의학원 | 압력 제어 시스템을 포함하는 방사성 동위원소 생산용 유체타겟 |
| JP2021004807A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 株式会社日立製作所 | 放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0640160B2 (ja) | 1994-05-25 |
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