JPS61246607A - 膜厚測定方法 - Google Patents

膜厚測定方法

Info

Publication number
JPS61246607A
JPS61246607A JP8946485A JP8946485A JPS61246607A JP S61246607 A JPS61246607 A JP S61246607A JP 8946485 A JP8946485 A JP 8946485A JP 8946485 A JP8946485 A JP 8946485A JP S61246607 A JPS61246607 A JP S61246607A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film thickness
film
measured
thickness
spectral intensity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8946485A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Torikai
潤 鳥飼
Chikayasu Yamazaki
山崎 親康
Mutsumi Hayashi
睦 林
Ichiro Kumo
一郎 雲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP8946485A priority Critical patent/JPS61246607A/ja
Publication of JPS61246607A publication Critical patent/JPS61246607A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、薄膜の膜厚測定方法に関する。本発明に係る
方法は特に高精度に膜厚測定が行なえることを特徴とす
る。
(従来の技術) 従来より、薄膜の膜厚を測定する方法として光の干渉現
象を利用する方法が知られている(特開昭56−115
905号公報等)。この方法は、薄膜に入射角θで白色
平行光を入射し、薄膜からの反射光もしくは透過光を受
光し分光した場合に、第2図に示す様な分光強度の波形
が得られ、この分光強度の波形の隣合った極大点(もし
くは極小点)に対応する波長を求めることにより膜厚を
計騨出来る原理に基づいている。
以下、数式を用いて、この原理を説明する。
白色光を薄膜に入射角θで入射させると、フィルム内部
に入射せずに表面で反射する光と、フィルム内部に入射
した後フィルムの裏面で反射し表面より出て来る光に分
れる。
反射光には上記の光以外にもフィルム内部で多重反射し
た後に表面より出て来る光が存在するが、強度が弱いの
でここでは考慮しないことにする。
フィルム表面で反射した光と裏面で反射した光との間に
は光路差Δが生じ、Δは(1)式で示される。
Δ=2dFi7石V7\・・(1) そして、上記の二つの光が干渉することにより、分光強
度に強弱が発生するが、光路差Δが波長の整数倍に一致
する波長で分光強度が極小になり、(整数+1/2)倍
に一致する波長で分光強度が極大になる(これは裏面で
反射した光の位相が反転しているためでおり、透過光の
場合には位相の反転が生じないのでこの関係が逆になる
。)。
この様にして得られた分光強度波形において隣合った二
つの極大点(もしくは極小点)の波長をλ1、λ2とす
ると次の(2)式が成立する(ただし、λ1〉λ2)。
が極大点の時 (1) 、(2)式を整理すると次の(3)式が得られ
る。
すなわち、分光強度波形において隣合った二つの極大点
(もしくは極小点)の波長λ1、λ2を求めれば(3)
式に基づいて膜厚を計算することが出来る。
極大点に対応する波長を求める方法としては特開昭59
−135331号公報に記載された方法等が知られてい
る。この方法は、分光強度の波形の検出器としてイメー
ジセンサを用い、イメージセンサの出力をA/D変換し
てマイクロコンピュータに取込み、イメージセンサの各
セルに対応する出力を逐次比較して極大値を持つセルを
調べ、そのセルの前後の複数のセルの出力値より極大位
置を推定するものである。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、この方法は次の様な欠点を有している。
(a)電気的、光学的なノイズが重畳していると、その
ノイズを極値と誤判定してしまう。
(b)極大値がブロードなピークである場合には極大値
の近傍でA/D変換器の出力値がほぼ同一の値となり、
正しい極大位置を検出できない。
以上の欠点により公知の方法では、薄膜の膜厚測定の様
に分光波形の極大値の尖鋭度が膜厚によって大きく変化
するものには適用できなかった。
(問題点を解決するための手段) 本発明の目的は、上記従来の問題点を解消せんとするも
のであり、光の干渉現象を利用して薄膜の膜厚を測定す
る際に高精度に膜厚を測定できることを特徴としている
すなわち本発明は、薄膜に一定の入射角で白色光を照射
し、その反射光もしくは透過光を分光して分光強度の波
形を測定し、薄膜による干渉現象によって生ずる分光強
度の強弱の波長位置から膜厚を測定する方法において、 測定すべき薄膜の予想膜厚に応じて分光強度の波形の一
周期を所定の数で等分する様に分割ピッチを定め、その
分割ピッチ刻みの波長位置の分光強度に基づいて分光強
度の極大または極小の波長位置を定めて膜厚を測定する
事を特徴とする膜厚測定方法を提供するものである。
本発明に係る方法を反射光を受光するタイプの光干渉式
膜厚計に適用した場合について図を用いて説明する。な
お、以下に述べる説明では膜厚測定対象はフィルムとす
るが、当然のことながら本発明に係る方法はフィルムに
限定されるものではなく、ガラス薄膜その他の薄膜の膜
厚測定にも適応できるものである。
第1図は光干渉式膜厚測定系全体の概略構成を示すもの
であり、測定系は投光部、受光部、および演算処理部か
ら成っている。
投光部は光源1、平行光を形成するためのピンホール2
およびレンズ3で構成されている。
受光部は、平面回折格子4、結像レンズ5、イメージセ
ンサ6より構成されている。
また、データ処理部はバッファアンプ7、A/D変換器
8、マイクロコンピュータ9、イメージセンサ駆動回路
10.および本図では省略されている入出力装置、記憶
装置より構成されている。
膜厚を測定すべきフィルム11より反射されたレンズ3
からの平行光は平面回折格子4に入射されるが、平面回
折格子4で分光された光のうち、所定の波長範囲がイメ
ージセンサ6上に結像する様に結像レンズ5が置かれて
いる。
イメージセンサ6上に結像された分光強度の波形は、イ
メージセンサ駆動回路10により順次セル毎に続出され
る。
イメージセンサ6出力はバッフ7アンプ7を介してA/
D変換器8によりデジタル信号に変換された後、マイク
ロコンピュータ9に読込まれ演算処理が行なわれる。
次に本発明に係る方、法の要部となる演算処理のフロー
チャートを第3図に示す。
演算処理は大きく分けて、破線で囲んだ様に(a)、サ
ンプルを測定する前に行なっておくブランクデータの測
定 (b)、測定条件(予想膜厚)の入力 (C)、膜厚測定ルーチン の3部により構成されている。
ここで、ブランクデータとは第1図の測定系において測
定対象のフィルム11の代りに適当な反射板を置き測定
した光学系全体の分光特性の事である。
すなわち、通常の光学系では一般に光源、分光器、イメ
ージセンサ等が各々分光特性を持つので光学系全体とし
である分光パターンを持つ。このため、測定されたデー
タは光学系の分光特性に、薄膜の干渉によって生じる分
光波形が重畳したものとなって測定される。そこで、測
定対象のフィルム11の干渉に由来する分光強度の波形
を得るためには、あらかじめブランクデータを測定して
おき、サンプルにより得られた測定データを割返して光
学系全体の分光特性の影響を除く必要がある。
以下、実際の手順を説明する。
まず、ブランクデータの測定であるが、測定対象フィル
ムと同じ材質で作られ且つ干渉現象の影響を受けない程
度の充分厚い板を用意し、それをフィルムの位置に置き
測定する。
この時の反射板はミラーでもよいが、ミラーとサンプル
では反射率が大きく違うのでサンプル測定時のダイナミ
ックレンジが狭くなる。そのため、反射板はサンプルと
同一素材の板を用いた方がよい。
また、このブランク測定は測定開始前に行なうが、光源
ランプの経時変化などを補償するために定期的に再測定
することが好ましい。
次に測定条件の入力であるが、測定対象として予想され
るフィルムのおよその膜厚を入力し、この予想膜厚に基
づいて分割ピッチを計算する。
予想膜厚の設定は、真の膜厚をd。、予想膜厚をdとす
ると、 Q、5xd≦do≦1.5×d の関係を満足するd、すなわら、予想膜厚の±50%以
内程度に真の膜厚が存在する様に予想膜厚の設定を行な
う。この±50%の許容幅は後述する分割ピッチ決定よ
り由来するものである。
光強度の波形は山、谷の繰返し周期が膜厚が薄い場合は
長く、膜厚が厚い場合は短くなる。
例えば、分光器の波長範囲550〜850nmをイメー
ジセンサに入力する場合には、この波長範囲において0
.5μmのポリエステルフィルム(屈折率1.6)では
約1周期しか分光強度の波が存在しないが、5μmのポ
リエステルフィルムでは約10周期の分光強度の波が存
在することになる。
この様に膜厚によって分光強度の波の周期が大きく変化
するので一定の分割ピッチで極値を捜すのは薄いフィル
ムの場合にはピッチが細かすぎてノイズ成分を極値と判
定したり、厚いフィルムの場合にはピッチが粗すぎて極
値検出が出来なくなったりする。すなわち、各分光強度
の波形に応じて最適な分割ピッチが存在する訳である。
本発明者らは数多くの実験および詳細な検討から、その
分割ピッチは各分光強度の波形の1周期を4〜16等分
、好ましくは6〜12等分にするのが良いことを見出し
た。分割ピッチの決定の考え方は以下の通りである。
分光強度の波形において、一定の分割ピッチ毎のデータ
の1番目を5(I)とすると、の二つの条件、すなわち
差分データの符号が正から負へ変化する部分に極大値が
存在する。これは分割ピッチで(I−1)番目から(I
+1)番目の区間に極大値が存在することを示している
(極小値の場合も同様に類推できる。)。
1周期を2等分より大きく分割すれば(4)式に基づい
て極値の存在区間を知ることが出来る。しかし、分割ピ
ッチ毎のデータを用いて極値の位、置を内挿しようとす
ると大きな分割ピッチでは誤差が大きいので1周期を4
等分以上する必要がある。
また、内挿に使用するデータは第4(a)図に示す様に
分光強度波形の変曲点の前後のデータを用いるよりも第
4(b)図に示す様な変曲点を含まないデータを用いた
方が精度がよい。(4)式を満足する分割ピッチの区間
(I−1>から(I十1)に変曲点を含まない様にする
ためには、1周期を6等分より大きく分割する必要があ
る。
分割ピッチは一般的には細かい方がよいが、細かくして
もそれほど極値位置の内挿精度は向上せず、逆に細かく
し過ぎると従来法と同じ欠点を持つことになる。このた
め分割ピッチは1周期4〜16等分する様に選ぶのが好
ましい。
さらに予想膜厚と実際の膜厚が異なっていても実際の分
光波形の1周期を4〜16等分するためには分割ピッチ
を予想膜厚の6〜12等分になる様に選べば良い。この
時は、予想膜厚みの±50%以内に実際の膜厚があれば
良い。
例えば550〜850nmの波長領域を使用する場合に
おいては下記の様になる。
サンプルをポリエステルフィルムとし屈折率nを1.6
、入射角θをOとすると、 (a)d=0.5μmの時 (1)式よりΔ=1600nm (2)式を満足するKとλを求めると 1600nm=2x800nm  (2次の極小)16
00nm:3x533nm  (3次の極小)すなわち
、550〜850nmの波長域に約1周期の分光波形が
存在する。分割ピッチを1周期の約10等分とすると3
0nmになる。
(b)d=5μmの時 (1)式よりΔ=16000nm (2)式を満足するKとλを求めると 16000nr3=’19X842nn(19次の極小
)16000nm=20X800nm(20次の極小)
16000nm÷29x552nm(29次の極小)す
なわち、550〜850nmの波長域の間に約10周期
の分光波形が存在する。分割ピッチを1周期の約10等
分とすると分割ピッチは3止となるので約3nmピッチ
で極大位置を捜せば良い。
レンズ4の焦点距離を適当に選んで、550〜8501
mの波長領域をイメージセンサ上で2000セルに対応
させる場合には0.5μのフィルムでは約200セル刻
みで、5μの時は約20セル刻みで極値を捜す事になる
以上の様にして光学系の仕様をあらかじめ定めておけば
、予想膜厚に応じて一意的に分割ピッチを決定すること
が出来る。
次に膜厚測定ルーチンの説明を行なう。
第3図に示す様に膜厚測定ルーチンは次の手順で行なわ
れる。
(a)0分光強度測定 (b)、平滑化 (C)、正規化 (d)、差分データ作成 (e)、極値区間検出 (f)、極値位置内挿 ((1) 、 !DI厚演算 演算、各ブロックの機能を詳細に説明する。
分光強度測定ルーチンではマイクロコンピュータ9より
の指令によりイメージセンサ5の出力を順次A/D変換
器8を介して読取り測定データとする。
次に平滑化を行なう。平滑化には様々の手法があるが、
単純な移動平均の様に短時間で行なえるものが好ましい
。また、移動平均をとるポイント数を2n (n=1.
2、・・・)に選んでおけば割算をビットシフトで行な
える゛ので高速化の点で好ましい。また、この時イメー
ジセンサの有効部分以外の所を覆って光に感じない様に
したダークセルを作っておき各々の出力からこのダーク
セルの出力を差引けばイメージセンサの暗電流補償が行
なえるので好ましい。
この様にして平滑化されたデータを平滑化データと呼ぶ
。次に前もって測定しておいたブランクデータで平滑化
データをセル番号を対応させて割算する。この時、精度
を落さずに高速で割算を行なうために平滑化データを2
 倍(n=8.9、・・・、この操作もビットシフトで
行なう。)しておき整数どうしの割算とする。得られた
データを正規化データと呼ぶ。
次に差分データの作成であるが、前もって定めておいた
分割ピッチおきに正規化データをスキャンして差分デー
タを作る。正規化データの有効部分の最初に対応するセ
ルの番号を1とし、最後に対応するセルの番号をNとす
るとJ番目(1≦J≦(N−1>/h)の差分データD
 (J)は(5)式で定義される。
ここでS (N>はセル番号Nの正規化データであり、
hは分割ピッチである。
次に差分データに基づいて極値存在区間を検出する。極
大値は微分係数が正から負へ、極小値は負から正へ変化
した点であるので、(5)式で求めた差分データの符号
の変化より極値の存在区間が検出できる。第5図に差分
データ作成フローチャートを示す。
次に、極値存在区間の前後のデータを用いて極値位置を
内装することにより極値位置を検出する。
通常は差分データの符号が変化した分割ピッチ刻みの3
点のデータを用いて2次補間すれば充分である。この補
間により極値の位置をイメージセンサのセルの間も含め
て決定出来る。
この極値の位置を読換えるためには前もってイメージセ
ンサのセル番号と波長との対応関係を知る必要がある。
この対応はブランクデータ測定時に反射板の上に波長既
知の干渉フィルタを置いて測定し、そのピーク位置を求
めることにより知ることが出来る。
この様にして複数の極大波長、極小波長が判れば隣接す
る極大波長(もしくは極小波長)より(3)式に基づい
て膜厚を計算する。この時、複数の結果を演算してその
平均値を求めても良い。
また、非常に薄いフィルムの様に測定波長領域に1周期
以下しか分光波形が入らない場合には(3)式を変型し
て、極大波長と極小波長の組合せで膜厚を計算すること
が好ましい。
(作 用) 以上、詳述した様に本発明に係る方法は、光学系および
マイクロコンピュータ等の演算手段を用いて、予想膜厚
に応じて定められる分割ピッチ刻みで分光強度波形の差
分データを作成し、その差分データに基づいて極値存在
区間を捜して極値に対応する波長位置を求める。
(実施例) 以下、実施例で本発明の詳細な説明する。
光源としてハロゲンランプを使用し、平面回折格子は5
50〜850nmに充分感度のあるブレーズ波長:50
0n111溝数:1200本/l11m、有効領域: 
30mmx 30mmのものを用いた。
また、イメージセンサは2048セルで構成されるCC
Dタイプのものを用いた。A/D変換器はフルスケール
12ビツト(4096段階)のものを使用した。ざらに
平滑化は単純移動平均とし23=8点の移動平均とした
。また、正規化の際は平滑化データを210=1024
倍した後にブランクデータで割返した。
第6図にブランクデータの分光波形を示す。これより光
学系の特性が一様でないことが判る。
第7(a)、(b)図に、圧接法の膜厚測定結果が2.
7μのポリエステルフィルムを本発明の方法で膜厚測定
した場合の平滑化データ、および正規化データを示す。
本発明の方法による膜厚測定結果は2.84μであった
。第8(a)、(b)図は同じく、圧接法の膜厚測定結
果が9.2μのポリエステルフィルムを本発明の方法で
膜厚測定した場合の平滑化データ、および正規化データ
を示したものである。この膜厚測定結果は9.33μで
あった。
本実施例より本発明の方法を用いれば、予想膜厚に応じ
て分割ピッチが定められるので測定膜厚が変化しても高
精度に極値の波長を求めることが出来、高精度に膜厚を
測定することが出来ることが判る。
以上の手順はマイクロコンピュータにより全てコントロ
ールされ自動的に行なわれる。
測定されるサンプルが異なる場合には予想膜厚の入力か
ら再度行なえば良い。
(発明の効果) 以上説明した様に、本発明の膜厚測定方法は予想される
膜厚に応じて分割ピッチを決定し、その分割ピッチで極
値存在区間を捜した後に極値の位置を決定し、その推定
波長を用いて膜厚を演算する方法であるので0.3μ程
度の薄いフィルムから20μ程度の厚いフィルムまで高
精度な測定が行なえる。
さらに、本発明に係る方法を用いれば極値に対応する波
長の決定が迅速に行なえるので測定全体の高速化が行な
え、走行しているフィルムの幅方向の膜厚分布を測定す
るインライン測定にも適用する事が可能である。
なお、上記実施例においては、測定部が反射光を受光す
る方法について説明したが、測定部が透過光を受光する
方法でも全く同様である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る方法を実施するための光学系全体
の概略構成図、第2図は薄膜による分光強度の波形を示
す模式図、第3図は膜厚測定に必要な演算処理を示すフ
ローチャート、第4図(a)および(b)は、それぞれ
分割ピッチが4等分の場合と6等分の場合を示す図、第
5図は差分データを作成するフローチャート、第6図は
ブランクデータ、第7(a)、(b)図は、圧接法の膜
厚測定結果が2.7μのポリエステルフィルムを本発明
の方法で膜厚測定した場合の平滑化データ、および正規
化データを示す図、第8(a)、(b)図は、圧接法の
膜厚測定結果が9.2μのポリエステルフィルムを本発
明の方法で膜厚測定した場合の平滑化データ、および正
規化データを示した図である。 1・・・光源 2・・・レンズ 3・・・ピンホール 4・・・平面回折格子 5・・・結像レンズ 6・・・イメージセンサ 7・・・バッファアンプ 8・−A / D変換器 9・・・マイクロコンピュータ 10・・・イメージセンサ駆動回路 11・・・測定対象フィルム

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 薄膜に一定の入射角で白色光を照射し、その反射光もし
    くは透過光を分光して分光強度の波形を測定し、薄膜に
    よる干渉現象によつて生ずる分光強度の強弱の波長位置
    から膜厚を測定する方法において、 測定すべき薄膜の予想膜厚に応じて分光強度の波形の一
    周期を所定の数で等分する様に分割ピッチを定め、その
    分割ピッチ刻みの波長位置の分光強度に基づいて分光強
    度の極大または極小の波長位置を定めて膜厚を測定する
    事を特徴とする膜厚測定方法。
JP8946485A 1985-04-25 1985-04-25 膜厚測定方法 Pending JPS61246607A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8946485A JPS61246607A (ja) 1985-04-25 1985-04-25 膜厚測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8946485A JPS61246607A (ja) 1985-04-25 1985-04-25 膜厚測定方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61246607A true JPS61246607A (ja) 1986-11-01

Family

ID=13971428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8946485A Pending JPS61246607A (ja) 1985-04-25 1985-04-25 膜厚測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61246607A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01145504A (ja) * 1987-12-01 1989-06-07 Canon Inc 光学測定装置
JPH0726802B2 (ja) * 1988-02-24 1995-03-29 ヒューズ・エアクラフト・カンパニー 櫛形フィルタを用いる圧力/温度検出システム
JP2008298528A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Nec Corp 光学式膜厚モニター及びそれを用いた成膜装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01145504A (ja) * 1987-12-01 1989-06-07 Canon Inc 光学測定装置
JPH0726802B2 (ja) * 1988-02-24 1995-03-29 ヒューズ・エアクラフト・カンパニー 櫛形フィルタを用いる圧力/温度検出システム
JP2008298528A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Nec Corp 光学式膜厚モニター及びそれを用いた成膜装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5333049A (en) Apparatus and method for interferometrically measuring the thickness of thin films using full aperture irradiation
US5227861A (en) Apparatus for and method of evaluating multilayer thin film
EP0624775A1 (en) Apparatus and method for performing high spatial resolution thin film layer thickness metrology
EP0601580A1 (en) Apparatus and method for measuring the thickness of thin films
JPH0791921A (ja) 膜厚測定方法
KR100595348B1 (ko) 박막 또는 박층의 두께를 측정하기 위한 방법 및 장치
US5526117A (en) Method for the determination of characteristic values of transparent layers with the aid of ellipsometry
EP0299646A2 (en) Improved method and apparatus for sensing or determining one or more properties or the identity of a sample
KR20030091737A (ko) 막두께 측정방법 및 장치
JP3872559B2 (ja) ライブラリ安定演算法を用いた吸収スペクトル判定方法
JPS61246607A (ja) 膜厚測定方法
JPS59105508A (ja) 白色干渉膜厚測定方法
JPS6271804A (ja) 膜厚測定装置
JPS5940133A (ja) フ−リエ変換分光光度計
JPH01320409A (ja) 膜厚測定方法
JPH063364B2 (ja) 膜厚測定方法
JP4010281B2 (ja) 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
JPS58727A (ja) フ−リエ変換分光装置
JP2842241B2 (ja) 膜厚測定方法
JPH0654217B2 (ja) 干渉膜厚測定方法
JP2003065709A (ja) 透明平行平板の干渉縞解析方法
JP2002296012A (ja) 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
Wang et al. Ultrathin thickness and spacing measurement by interferometry and correction method
Wang et al. New correction method for FTIR online film-thickness measurement
JPS63109304A (ja) 膜厚測定装置