JPS63109304A - 膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定装置Info
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- JPS63109304A JPS63109304A JP25653686A JP25653686A JPS63109304A JP S63109304 A JPS63109304 A JP S63109304A JP 25653686 A JP25653686 A JP 25653686A JP 25653686 A JP25653686 A JP 25653686A JP S63109304 A JPS63109304 A JP S63109304A
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012951 Remeasurement Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、光の干渉を利用して膜厚を測定する装置に
関するものでおる。
関するものでおる。
[従来の技術]
光の干渉を利用して被測定対象の膜厚を測定するには、
被測定対象に光源よりの光を投光し、その透過光または
反射光を分光して干渉縞を検出器で検出し、被測定対象
の膜厚を測定しているが、被測定対象の屈折率nが波長
λにより変化する場合、正確な膜厚測定が困難となる問
題点があった。
被測定対象に光源よりの光を投光し、その透過光または
反射光を分光して干渉縞を検出器で検出し、被測定対象
の膜厚を測定しているが、被測定対象の屈折率nが波長
λにより変化する場合、正確な膜厚測定が困難となる問
題点があった。
これを解決するため、出願人は、特願昭61−1961
48号において、被測定対象の屈折率が波長依存性をも
っても、正確な膜厚測定を可能とした膜厚測定装置を提
供した。
48号において、被測定対象の屈折率が波長依存性をも
っても、正確な膜厚測定を可能とした膜厚測定装置を提
供した。
[この発明が解決しようとする問題点]しかしながら、
この方法でおっても、被測定対象の屈折率、屈折率の波
長依存係数(分散)をあらかじめ設定しなければならな
い。分散の小さい物、大まかな測定であれば屈折率のみ
あらかじめ測定しておけばよいが、より正確な測定で′
は分散の正確な値が必要でおる。屈折率のデータは比較
的知られているが、分散のデータは少い。また、プラス
チックフィルムでは、添加物の種類、割合、製造方法な
どにより屈折率・分散は異り、実際の測定対象物の屈折
率・分散か分らない場合か多い。
この方法でおっても、被測定対象の屈折率、屈折率の波
長依存係数(分散)をあらかじめ設定しなければならな
い。分散の小さい物、大まかな測定であれば屈折率のみ
あらかじめ測定しておけばよいが、より正確な測定で′
は分散の正確な値が必要でおる。屈折率のデータは比較
的知られているが、分散のデータは少い。また、プラス
チックフィルムでは、添加物の種類、割合、製造方法な
どにより屈折率・分散は異り、実際の測定対象物の屈折
率・分散か分らない場合か多い。
この発明の目的は、以上の点に鑑み、厚さが分っている
試料について、屈折率および分散を求め、膜厚を測定す
るようにした膜厚測定装置を提供することである。
試料について、屈折率および分散を求め、膜厚を測定す
るようにした膜厚測定装置を提供することである。
[問題点を解決するための手段]
この発明は、光源からの光を被測定対象に投光し、その
透過光または反射光を分光して干渉縞を検出器で検出し
、被測定対象の膜厚を求める装置において、検出器の干
渉縞パターンの少くとも2つの異る波長範囲についての
極値を与える波長または波数、次数差から求めた各膜厚
が等しいとして屈折率の波長依存係数を求め、被測定対
象の膜厚を演算するようにした膜厚測定装置でおる。
透過光または反射光を分光して干渉縞を検出器で検出し
、被測定対象の膜厚を求める装置において、検出器の干
渉縞パターンの少くとも2つの異る波長範囲についての
極値を与える波長または波数、次数差から求めた各膜厚
が等しいとして屈折率の波長依存係数を求め、被測定対
象の膜厚を演算するようにした膜厚測定装置でおる。
[実施例]
第1図は、この発明の一実施例を示す構成説明図でおる
。
。
図において、1は、光源で、光源1からの光は、レンズ
2によりハーフミラ−3を介してフィルムのような被測
定対象4に投光され、被測定対象4を透過または反射し
た光は、この図ではハーフミラ−3、レンズ5、チョッ
パのようなシャッタ手段6、しほり7、レンズ8を介し
て回折格子等の分光手段って分光され、レンズ10を介
してCCDのJ:うなイメージセンサの検出器11に入
射する。このイメージセンサの検出器11の各素子には
分光手段9で分光された各波長に対応した光か入射し、
干渉縞パターンの強度が検出される。検出器11の出力
は増幅器12で増幅され、演算手段13で所定の演算が
なされ、被測定対象4の膜厚dが演算される。
2によりハーフミラ−3を介してフィルムのような被測
定対象4に投光され、被測定対象4を透過または反射し
た光は、この図ではハーフミラ−3、レンズ5、チョッ
パのようなシャッタ手段6、しほり7、レンズ8を介し
て回折格子等の分光手段って分光され、レンズ10を介
してCCDのJ:うなイメージセンサの検出器11に入
射する。このイメージセンサの検出器11の各素子には
分光手段9で分光された各波長に対応した光か入射し、
干渉縞パターンの強度が検出される。検出器11の出力
は増幅器12で増幅され、演算手段13で所定の演算が
なされ、被測定対象4の膜厚dが演算される。
第2図で示すように、光源からの平行光線L1、L2は
、膜厚く厚さ)dで、屈折率が波長依存1生をもつ被測
定対象4の表面および裏面で反射し、両光線L1、L2
は、光学的光路差2 nd/CO3θ′をもち、この光
路差が光の波長の整数倍のとき干渉して第3図のような
干渉縞を形成する。
、膜厚く厚さ)dで、屈折率が波長依存1生をもつ被測
定対象4の表面および裏面で反射し、両光線L1、L2
は、光学的光路差2 nd/CO3θ′をもち、この光
路差が光の波長の整数倍のとき干渉して第3図のような
干渉縞を形成する。
第3図で示すような干渉縞パターンか得られたとし、測
定領域の極値を与える最小波長λ1、最大波長λ2につ
いて、干渉の各次数をm ” N s…、波長λ1、λ
2に対応する被測定対象4の屈折率をrz、n2とし、
次式が成り立つ。
定領域の極値を与える最小波長λ1、最大波長λ2につ
いて、干渉の各次数をm ” N s…、波長λ1、λ
2に対応する被測定対象4の屈折率をrz、n2とし、
次式が成り立つ。
(m+N)λ+ = 2n l d /CO3θ′(1
)mλ2 =2n 2d /cosθ′(2)(2)式
よりmを求め(1〉式に代入して整理すると となる。被測定対象4に垂直に投光するθ′=Oのとき
はCOSθ′−1で(3)式は となる。このように、波長λi、λ2、極値の次数差N
、波長λ1、λ2に対応する屈折率n1、n2から、被
測定対象4の膜厚が(3)、(4)式より求まる。
)mλ2 =2n 2d /cosθ′(2)(2)式
よりmを求め(1〉式に代入して整理すると となる。被測定対象4に垂直に投光するθ′=Oのとき
はCOSθ′−1で(3)式は となる。このように、波長λi、λ2、極値の次数差N
、波長λ1、λ2に対応する屈折率n1、n2から、被
測定対象4の膜厚が(3)、(4)式より求まる。
ここで、波長λの逆数である波数νで(4)式を表わす
と、次式となる(R大波数ν1=1/λ・、最少波数ν
2=1/λ2)。
と、次式となる(R大波数ν1=1/λ・、最少波数ν
2=1/λ2)。
ここで、屈折率nが波数νの1次式で近似されるものと
し、波数ν。での屈折率をn。とすると、n = n□
(1+α(シーシo)) (6)となる。α
は、屈折率の波長依存性を示す波長依存係数(分散係数
)で、シーン0でn’ = rloで、ν。は基準波数
である。
し、波数ν。での屈折率をn。とすると、n = n□
(1+α(シーシo)) (6)となる。α
は、屈折率の波長依存性を示す波長依存係数(分散係数
)で、シーン0でn’ = rloで、ν。は基準波数
である。
(6)式を(5)式に代入して整理すると次式となる。
d =N/(2(シ1−シ2)n□
・(1+α(シ1+シ2−シ0 ))) (7)と
ころで、noとαが既知でおると仮定して、本来の波数
範囲(波長範囲)を2分割し、それぞれの波数範囲で膜
厚測定すると、各膜厚d1、d2は次式となる。各波数
範囲は、シ11〜シ12、シイ1〜シ22とし、各次数
差はN+ 、N2とした。
ころで、noとαが既知でおると仮定して、本来の波数
範囲(波長範囲)を2分割し、それぞれの波数範囲で膜
厚測定すると、各膜厚d1、d2は次式となる。各波数
範囲は、シ11〜シ12、シイ1〜シ22とし、各次数
差はN+ 、N2とした。
d + = N+ /(2(シ11−シ12)nO・(
1+α(シ11+シ12−シQ ))H8)d 2 =
N2 /(2(シ21−シ22)nO・(1+α(シ
21+シ22−シo))) (9)同一箇所を測定して
いるので、dl とd2とは等しくなり、+L=62よ
り次式が得られる。
1+α(シ11+シ12−シQ ))H8)d 2 =
N2 /(2(シ21−シ22)nO・(1+α(シ
21+シ22−シo))) (9)同一箇所を測定して
いるので、dl とd2とは等しくなり、+L=62よ
り次式が得られる。
α=(N2(シ11−シ12)
−N1 (シ21−シ22))
/ (N+ (L’21 M22)I’21+1−
’2’2 )、’0 )−N2 〈シ11−シ12)
(シラ1+シ12−シ0))このαの右辺は、すべて測
定可能な値で必るので、既知のサンプルについてαは求
まる。
’2’2 )、’0 )−N2 〈シ11−シ12)
(シラ1+シ12−シ0))このαの右辺は、すべて測
定可能な値で必るので、既知のサンプルについてαは求
まる。
また、n□は、真の厚さdSが与えられれば、(8)式
、(9)式のいずれか、または、全波数範囲で測りなお
した結果から求めることができる。
、(9)式のいずれか、または、全波数範囲で測りなお
した結果から求めることができる。
(8)式を用いると、n□は、
n□ =N + /(2ds(シ11−シ12)・(1
+α(シ11+シ12−シo))) (11)で求め
られる。
+α(シ11+シ12−シo))) (11)で求め
られる。
このようにして求めたα、n□等を(6)式に用い、任
意波数(波長)の屈折率nl、n2、・・・が求まり、
(5)式等より膜厚が求まる。
意波数(波長)の屈折率nl、n2、・・・が求まり、
(5)式等より膜厚が求まる。
つまり、あらかじめ、分光手段9により検出器11の各
素子に入射する波長は決まっているので、検出器11の
各素子番号と波長(波数)との関係を演算手段13のメ
モリに記憶し設定してあく。
素子に入射する波長は決まっているので、検出器11の
各素子番号と波長(波数)との関係を演算手段13のメ
モリに記憶し設定してあく。
また、波長に対する屈折率の関係も表または式の形で同
様にメモリに記憶しておく。たとえば、測定で求めた上
記のα、n□を用いた(6)式のようなものでおる。
様にメモリに記憶しておく。たとえば、測定で求めた上
記のα、n□を用いた(6)式のようなものでおる。
そして、測定時、検出器11の各素子の出力を順次読み
出し、第3図で示すように、測定範囲内で極値を与える
素子番号からメモリを利用して波長λ1、λ2(波数ν
1、ν2)を求め、このλ1、λ2(ν1、ν2〉に対
応する屈折率n1、n2をメモリの(6〉式等から求め
、(へ値の数の差から次数差Nを求め、(3)、(4)
、(5)式または(7)1.(8)、(9)のような演
算を行って被測定対象4の膜厚dを求める。 ところで
、被測定対象4の膜厚のバラツキにより干渉縞パターン
がずれて重なり、弱い部分が生じることがある。これを
避けるため、検出器11の各波長についての出力のうち
極大値と極小値との差が所定の値以上のときの極値につ
いての出力から上記のように膜厚を測定するようにする
。このことにより、不確実で、弱い干渉縞を拾うことな
く、強い確実な干渉縞から被測定対象4の膜厚dを測定
できる。
出し、第3図で示すように、測定範囲内で極値を与える
素子番号からメモリを利用して波長λ1、λ2(波数ν
1、ν2)を求め、このλ1、λ2(ν1、ν2〉に対
応する屈折率n1、n2をメモリの(6〉式等から求め
、(へ値の数の差から次数差Nを求め、(3)、(4)
、(5)式または(7)1.(8)、(9)のような演
算を行って被測定対象4の膜厚dを求める。 ところで
、被測定対象4の膜厚のバラツキにより干渉縞パターン
がずれて重なり、弱い部分が生じることがある。これを
避けるため、検出器11の各波長についての出力のうち
極大値と極小値との差が所定の値以上のときの極値につ
いての出力から上記のように膜厚を測定するようにする
。このことにより、不確実で、弱い干渉縞を拾うことな
く、強い確実な干渉縞から被測定対象4の膜厚dを測定
できる。
また、検出器11に電荷蓄積型躍像素子CODのような
イメージセンサを用いると、被測定対象4が移動してい
て、その厚さ等がずれると、やや異った干渉縞パターン
か検出器11の各素子に一走査周期内に入射して合成さ
れ、全体としてコントラストが悪くなる。
イメージセンサを用いると、被測定対象4が移動してい
て、その厚さ等がずれると、やや異った干渉縞パターン
か検出器11の各素子に一走査周期内に入射して合成さ
れ、全体としてコントラストが悪くなる。
このため、モータによりセクタが回転するヂョツパのよ
うなシャッタ手段6により入射光を断続して1回の測定
時間を制限し、検出器11への入射光の変動の影響を少
くし、干渉縞のコントラストが悪くなるのを防止し、測
定を確実なものとする。
うなシャッタ手段6により入射光を断続して1回の測定
時間を制限し、検出器11への入射光の変動の影響を少
くし、干渉縞のコントラストが悪くなるのを防止し、測
定を確実なものとする。
[発明の効果]
以上述べたように、この発明は、波長に対応した屈折率
を決める波長依存係数(分散)を測定から求め、必らか
しめメモリに記憶して用いるようにしているので、被測
定対象の屈折率が波長依存性をもっても、正確に膜厚の
測定が可能となる。
を決める波長依存係数(分散)を測定から求め、必らか
しめメモリに記憶して用いるようにしているので、被測
定対象の屈折率が波長依存性をもっても、正確に膜厚の
測定が可能となる。
第1図、第2図は、この発明の一実施例を示す構成説明
図、第3図は、干渉縞の説明図でおる。
図、第3図は、干渉縞の説明図でおる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被測定対象に光を投光する光源と、被測定対象から
の透過光または反射光を分光手段で分光し干渉縞を検出
する検出器と、この検出器の干渉縞パターンの少くとも
2つの異る波長範囲についての極値を与える波長または
波数、次数差から求めた各膜厚が等しいとして屈折率の
波長依存係数を求め、被測定対象の膜厚を演算する演算
手段とを備えたことを特徴とする膜厚測定装置。 2、前記検出器として、イメージセンサを用いたことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25653686A JPS63109304A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25653686A JPS63109304A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 膜厚測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63109304A true JPS63109304A (ja) | 1988-05-14 |
JPH0435683B2 JPH0435683B2 (ja) | 1992-06-11 |
Family
ID=17293987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25653686A Granted JPS63109304A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63109304A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009149951A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 製膜装置の膜厚調整方法 |
JP2012504752A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | ピーター ヴォルターズ ゲーエムベーハー | 円盤状加工物の厚さを測定する方法 |
-
1986
- 1986-10-27 JP JP25653686A patent/JPS63109304A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009149951A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 製膜装置の膜厚調整方法 |
JP2012504752A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | ピーター ヴォルターズ ゲーエムベーハー | 円盤状加工物の厚さを測定する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0435683B2 (ja) | 1992-06-11 |
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