JPS61243917A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドの製造方法

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Publication number
JPS61243917A
JPS61243917A JP8566085A JP8566085A JPS61243917A JP S61243917 A JPS61243917 A JP S61243917A JP 8566085 A JP8566085 A JP 8566085A JP 8566085 A JP8566085 A JP 8566085A JP S61243917 A JPS61243917 A JP S61243917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
passivation
magnetic head
slider
slider shape
head
Prior art date
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Pending
Application number
JP8566085A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Saito
斉藤　重夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPS61243917A publication Critical patent/JPS61243917A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
    • G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の技術分野〕 不発明は、高＠匿磁気記録技術分野のなかの、磁気ヘッ
ドのパシベーションの＃遣方法に関するものである。（
以下ｍａｉｍ気ヘッドという）〔発明の概要〕 本発明は、薄膜を用いて形成される傳ｌＩ＆！磁気ヘッ
ドのパシベーション″ｆ：、エツチング、あるいはマス
クスパッター等の方法で、薄膜磁気ヘッドのスライダー
形状にしたことによって、切断、研削。
研磨等のスライダー形状加工時における。パシベーショ
ンへのダメージを防止したものである。
〔従来の技術〕
簿膜磁気ヘッドは、セラミックのウェハー表面に、　ｌ
ｉｌ！性体・導電体・絶縁材料等の薄膜が積み重ねられ
て構成されている。
薄膜磁気ヘッドを用いたドライブでは、録再時における
コンタクト・スタート・ストップによる耐久性の面から
、前記薄膜を保護するためＶＣ１薄ｌｉ！ｍ気ヘッド製
造のプロセスにおいて、パシベーションを全面に塗布す
°るのは、周知の事実である。
一方、セラミックのウェハー上に形成された、薄膜磁気
ヘッドは、ダイヤモンドホイール等の工具で機械加工（
切断−研削・研摩加工等）されてスライダー形状になる
。
その際に、前記パシベーションも機械加工されることに
なる。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では、機械加工によりて、パシベーション
にクラックが入ったり、ひどいものは、はげてしまうと
いう問題があった。
そこで１本発明け、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、ダメージの無いパシベーシ
ョンを提供するところにある。
〔問題を解決するだめの手段〕
本発明の磁気ヘッドの製造方法は磁性体・導電体・絶縁
材料等の薄膜で構成される磁気ヘッドの保ｒａｌ！（以
下、パシベーションという、）を、エツチング、あるい
はマスクスパッター等の方法で。
磁気ヘッドのスライダー形状にしたことを特徴とする。
〔作用〕
本発明の上記の方法ｒこよれば、パシベーションのある
部分以外の場所を機械加工するため、パシベーションへ
のダメージカナい。
〔実施例〕 第１図は１本発明の実施例における磁気ヘッドパターン
平面図であって、エツチングあるいは。
マスクスパッター等によって、第１図−８８のようにパ
シベーションをスライダー形状にしておく。
次ＶＣ，第１図−８のパシベーションの形状１ｃ沿って
、薄膜磁気ヘッドのスライダー形状加工を行なう。
従って、窮１図−４の機械加工部分は切断加工・研削加
工・研磨加工等の機械加工をすることによって除去され
る。
薄膜Ｉ気ヘッドスライダ−の溝部およびスライダーの外
形形状は、ダイヤモンドホイールを用いて切断加工・研
削加工をすることによって寸法精度を確保する。
さらＶｃ、第１図−５のスキー面は、研削加工。
研磨加工によってスキー面の面精度を確保するとと４Ｖ
Ｃ，ａ気ヘッドのギャップデイブスを管理しながら仕上
げる。
薄膜磁気ヘッドのスライダーは、コンタクト・スタート
・ストップ時のクラッシュを防ぐために薄膜−気ヘッド
としてはパシベーションのクラック、ハゲ、脱落がない
ことが要求されるが５本実ａｆｌｌでは＆あらかじめパ
シベーションをエツチングあるいはマスクスパッター等
の方法でスライダー形状にしておいてからこの形状にあ
わせて前述の機械加工を行なった。
〔発明の効果〕
以上述べたようＶＣ，本発明によれば、第１図−４の機
械加工部分のみを加工することによって、パシベーショ
ンへダメージを与え無い効果を有す、る。
【図面の簡単な説明】
第１図は２本発明の磁気へッドパシペーション平面図。 第２図は、本発明の磁気へッドバシベーション断面図。 １・・・基板 ２−−・基板保ｉＩ！１！膜 ８・串・スライダー形状のパシベーション４・曖・機械
加工部分 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁性体・導電体・絶縁材料等の薄膜で構成される磁気ヘ
    ッドの保護膜（以下、パシベーシヨンという。）を、エ
    ッチング、あるいはマスクスパッター等の方法で、磁気
    ヘッドのスライダー形状にしたことを特徴とする磁気ヘ
    ッドの製造方法。
JP8566085A 1985-04-22 1985-04-22 磁気ヘツドの製造方法 Pending JPS61243917A (ja)

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