JPS61233531A - 透明導電膜付マツトフイルム - Google Patents
透明導電膜付マツトフイルムInfo
- Publication number
- JPS61233531A JPS61233531A JP7443185A JP7443185A JPS61233531A JP S61233531 A JPS61233531 A JP S61233531A JP 7443185 A JP7443185 A JP 7443185A JP 7443185 A JP7443185 A JP 7443185A JP S61233531 A JPS61233531 A JP S61233531A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- transparent conductive
- conductive film
- plastic film
- present
- Prior art date
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
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- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透明導電膜付マットフィルムに関する。更に
詳しくは、電気光学的表示素子特に液晶表示素子に使用
される透明電極基板用材料として好適な透明導電膜付マ
ットフィルムに関するものである。
詳しくは、電気光学的表示素子特に液晶表示素子に使用
される透明電極基板用材料として好適な透明導電膜付マ
ットフィルムに関するものである。
最近プラスチックフィルムに透明導電膜を形成し、液晶
表示素子の透明電極基板として用いることによシ、衝撃
に強く、軽い液晶表示装置を作成しようとする試みが盛
んに行なわれている。しかしながら、プラスチックフィ
ルムを基板とする場合、フィルムには、ダイラインと称
される押出成膜時に発生する、フィルム長手方向に無数
の線条が存在する。この線条は、液晶表示の品位を著し
く低下させる為に、本発明者らによって、ダイラインの
ないプラスチックフィルムが開発された。
表示素子の透明電極基板として用いることによシ、衝撃
に強く、軽い液晶表示装置を作成しようとする試みが盛
んに行なわれている。しかしながら、プラスチックフィ
ルムを基板とする場合、フィルムには、ダイラインと称
される押出成膜時に発生する、フィルム長手方向に無数
の線条が存在する。この線条は、液晶表示の品位を著し
く低下させる為に、本発明者らによって、ダイラインの
ないプラスチックフィルムが開発された。
（特願昭５９−６５０７４号、５９−１０６５９４号）
しかし、それらの方法は、特殊な押出装置を必要とし、
また、製造技術的にも高度なものとなシ、したがって、
それらの方法によって得られるプラスチックフィルムは
、高価なものとなる。
しかし、それらの方法は、特殊な押出装置を必要とし、
また、製造技術的にも高度なものとなシ、したがって、
それらの方法によって得られるプラスチックフィルムは
、高価なものとなる。
本発明は、それらの方法によらず、通常のダイラインの
存在するプラスチックフィルムを用いて、表示品位の高
い液晶表示体が得られることを、プラスチックフィルム
をマット処理することで解決されることを見い出し、さ
らに、表示品位以外の要求性能を満足させるべく鋭意検
討の結果、達成されたものである。
存在するプラスチックフィルムを用いて、表示品位の高
い液晶表示体が得られることを、プラスチックフィルム
をマット処理することで解決されることを見い出し、さ
らに、表示品位以外の要求性能を満足させるべく鋭意検
討の結果、達成されたものである。
本発明は、一方の面の表面粗さがＲｍａｘ値において、
０．１μ以下の平滑性を有しており、他方の面が粗面化
されているプラスチックフィルムの、平滑性を有してい
る面上に酸化インジウムを主成分とする透明導電性を有
する薄膜層が形成されて成ることを特徴とする透明導電
膜付マットフィルムである。
０．１μ以下の平滑性を有しており、他方の面が粗面化
されているプラスチックフィルムの、平滑性を有してい
る面上に酸化インジウムを主成分とする透明導電性を有
する薄膜層が形成されて成ることを特徴とする透明導電
膜付マットフィルムである。
本発明に言うプラスチックフィルムとは、一般的な溶融
押出成膜法によって作成されるフィルムであシ、組成と
しては、イリサルホン、ぼりエーテルサルホン、ポリカ
ーボネート、ボリアリレート等の単一組成であってもよ
いし、二種類以上の混合物であってもよい。本発明の目
的である液晶表示素子用としては、透光性、光学的等方
性、耐熱性等において、ダリエーテルサルホンが最も好
ましい。また、添加物として、少量の滑剤、安定剤、紫
外線吸収剤が含まれていてもさしつかえないが、後に述
べる様に、透明導電膜を形成する面は、表面粗さがＲｍ
ａｘにして、０．１μ以下でなければ、信頼性に優れた
透明導電膜が形成されない為、無機物粒子等のスリップ
剤の添加については、注意が必要である。表面粗さがＲ
ｍａｘＫ して０．１μを超える面となった場合には、
コーティング等によシ、表面の平滑化が必要となる。
押出成膜法によって作成されるフィルムであシ、組成と
しては、イリサルホン、ぼりエーテルサルホン、ポリカ
ーボネート、ボリアリレート等の単一組成であってもよ
いし、二種類以上の混合物であってもよい。本発明の目
的である液晶表示素子用としては、透光性、光学的等方
性、耐熱性等において、ダリエーテルサルホンが最も好
ましい。また、添加物として、少量の滑剤、安定剤、紫
外線吸収剤が含まれていてもさしつかえないが、後に述
べる様に、透明導電膜を形成する面は、表面粗さがＲｍ
ａｘにして、０．１μ以下でなければ、信頼性に優れた
透明導電膜が形成されない為、無機物粒子等のスリップ
剤の添加については、注意が必要である。表面粗さがＲ
ｍａｘＫ して０．１μを超える面となった場合には、
コーティング等によシ、表面の平滑化が必要となる。
このようにして得られたプラスチックフィルムの一方の
面を粗面化する方法としては、ロールエンボッシング、
サンドブラスト、化成処理、艶消プレス、艶消コーティ
ング等が選ばれるが、特に、プラスチックフィルムの製
膜工程と、同一ラインで加工が可能で、設備的にも簡単
なロールエンボッシングによる粗面化が好ましい。
面を粗面化する方法としては、ロールエンボッシング、
サンドブラスト、化成処理、艶消プレス、艶消コーティ
ング等が選ばれるが、特に、プラスチックフィルムの製
膜工程と、同一ラインで加工が可能で、設備的にも簡単
なロールエンボッシングによる粗面化が好ましい。
本発明の、透明導電膜は、上に述べたプラスチックフィ
ルムの、粗面化された面ズなく、平滑な面に形成される
ことに％徴を有している。これは透明導電膜の信頼性に
関わシ、特に、本発明の目的とする液晶表示素子の電極
基板として用いられる為には、平滑性が表面粗さにおい
てＲｒｎａｘにして０．１μ以下である面上に形成され
た透明導電膜でなければ、該素子製造工程におけるノぞ
ターニング工程や、ラビング工程によって、断線不良が
著しく多発することがわかったことによる。透明導電膜
の組成は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物で
あシ、特に、副成分が酸化スズである。
ルムの、粗面化された面ズなく、平滑な面に形成される
ことに％徴を有している。これは透明導電膜の信頼性に
関わシ、特に、本発明の目的とする液晶表示素子の電極
基板として用いられる為には、平滑性が表面粗さにおい
てＲｒｎａｘにして０．１μ以下である面上に形成され
た透明導電膜でなければ、該素子製造工程におけるノぞ
ターニング工程や、ラビング工程によって、断線不良が
著しく多発することがわかったことによる。透明導電膜
の組成は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物で
あシ、特に、副成分が酸化スズである。
一般的に１． Ｔ、 Ｏ，と称されているものが好適で
ある。
ある。
この透明導電膜の形成法としては、一般的な真空蒸着法
やスノぞツタリング法を用いることができる。
やスノぞツタリング法を用いることができる。
特に、インジウムを主成分とする合金ターゲットを用い
、酸素・アルゴン混合ガスプラズマによってスノξツタ
リングする反応性ＤＣマグネトロンスノぞツタリング法
が、製造コスト的に有利である。また、導電性の高い透
明導電膜の形成が必要な場合は、１．Ｔ、０．をターゲ
ットに用いなければならないこともある。
、酸素・アルゴン混合ガスプラズマによってスノξツタ
リングする反応性ＤＣマグネトロンスノぞツタリング法
が、製造コスト的に有利である。また、導電性の高い透
明導電膜の形成が必要な場合は、１．Ｔ、０．をターゲ
ットに用いなければならないこともある。
透明導電膜の厚さは、必要とされる導電性によって決定
されるが、本発明の目的とする液晶表示素子用どしては
、シート抵抗値にして１０〜１゜００９７口の範囲で使
用される。したがって、厚さは１００〜ＩＱ０．００人
の範囲で選ばれる。この場合にも表面の平滑性が表面粗
さのＲｍａｘ値にして、０、１μよシ大きいと、透明導
電膜の厚さが１００λに近い場合、表面がこすられるこ
とによシ消り取られ断線原因となシ、また透明導電膜の
厚さがＩＱＯＯＯλに近い場合プラスチックフィルムを
曲げることくよシ、ひび割れが生じやすく断線原因とな
る。
されるが、本発明の目的とする液晶表示素子用どしては
、シート抵抗値にして１０〜１゜００９７口の範囲で使
用される。したがって、厚さは１００〜ＩＱ０．００人
の範囲で選ばれる。この場合にも表面の平滑性が表面粗
さのＲｍａｘ値にして、０、１μよシ大きいと、透明導
電膜の厚さが１００λに近い場合、表面がこすられるこ
とによシ消り取られ断線原因となシ、また透明導電膜の
厚さがＩＱＯＯＯλに近い場合プラスチックフィルムを
曲げることくよシ、ひび割れが生じやすく断線原因とな
る。
本発明に言う表面粗さのＲｍａｘ値とは、ＪＩＳＢＯ６
５１−１９７６に規定されている触針式表面粗さ測定器
を用いて測定することができる。
５１−１９７６に規定されている触針式表面粗さ測定器
を用いて測定することができる。
次に、本発明の透明導電膜付マットフィルムを図面によ
って説明する。
って説明する。
第１図は、本発明の透光性電導性マットフィルムの一つ
の例を示す。（１）は片面が、表面粗さのＲｆｆＩａｘ
値にして、０．１μ以下である平滑面（７）で、他の面
が粗面（６）化されたプラスチックフィルムであ！り、
（２）は、（１）の平滑面上に形成された透明導電膜で
ある。
の例を示す。（１）は片面が、表面粗さのＲｆｆＩａｘ
値にして、０．１μ以下である平滑面（７）で、他の面
が粗面（６）化されたプラスチックフィルムであ！り、
（２）は、（１）の平滑面上に形成された透明導電膜で
ある。
第２図、第３図は、本発明の別の形態である。
即ち１第２図は、平滑化塗膜（３）によって、本発明に
必要とされる表面粗さのＲｍａｘ値が０．１μ以下であ
る平滑性に面を調節し、透明導電膜（２）を形成してい
る。また、第３図は、艶消コーティング層（４）によっ
て、粗面化した例である。
必要とされる表面粗さのＲｍａｘ値が０．１μ以下であ
る平滑性に面を調節し、透明導電膜（２）を形成してい
る。また、第３図は、艶消コーティング層（４）によっ
て、粗面化した例である。
なお％Ｒｍａｘ値の測定にあたっては、プラスチックフ
ィルム基材の厚み変動やうねシによる影響を除去する必
要があシ、ＪＩＳ Ｂ ０６５１−１９７６で記述され
ているカットオフ波長を、０．２５ｍに設定することが
好ましい。
ィルム基材の厚み変動やうねシによる影響を除去する必
要があシ、ＪＩＳ Ｂ ０６５１−１９７６で記述され
ているカットオフ波長を、０．２５ｍに設定することが
好ましい。
ポリエーテルサルホン樹脂（住友化学■ピクトレックス
■）を、溶融押出法によシ、Ｔ−ダイよシ押出して、表
面粗さがＲｍａｘ値にして０．０２μである鏡面研磨さ
れた冷却ドラム上にキャスティングし、同時に１加熱さ
れたエンボスロールによって冷却ドラムに接しない側の
面を、艶消加工することＫより、連続的にプラスチック
フィルムを、ロール状に巻取って製造した。本プラスチ
ックフィルムの冷却ドラム側の面は、表面粗さがＲｍａ
ｘ値にして０．０１μであった。表面粗さの測定には、
■小板研究所製万能表面形状測定機ＳＥ −３Ａを使用
し、０．２μの触針によシ、カットオフ回路を通さず、
チャート送り比率１００倍にて、２０偲の長さのチャー
トを記録し、その間の最大変位を、Ｒｍａｘ値とした。
■）を、溶融押出法によシ、Ｔ−ダイよシ押出して、表
面粗さがＲｍａｘ値にして０．０２μである鏡面研磨さ
れた冷却ドラム上にキャスティングし、同時に１加熱さ
れたエンボスロールによって冷却ドラムに接しない側の
面を、艶消加工することＫより、連続的にプラスチック
フィルムを、ロール状に巻取って製造した。本プラスチ
ックフィルムの冷却ドラム側の面は、表面粗さがＲｍａ
ｘ値にして０．０１μであった。表面粗さの測定には、
■小板研究所製万能表面形状測定機ＳＥ −３Ａを使用
し、０．２μの触針によシ、カットオフ回路を通さず、
チャート送り比率１００倍にて、２０偲の長さのチャー
トを記録し、その間の最大変位を、Ｒｍａｘ値とした。
ただし、プラスチックフィルム試料のうね夛や、異物の
付着による局所的な変位は除外した。このプラスチック
フィルムの平滑面に、１０重量−のスズを含むインジウ
ム合金をターゲットとし、酸素を１０モルチ含んだアル
ゴン混合ガスプラズマによって、■マグネトロン法によ
り、透明導電膜を、３００人の厚さに形成した。シート
抵抗は２００Ω／口であった。この透明導電膜付マット
フィルムを用いて、液晶表示素子を作成したところ、線
間１００μ、線巾２００μの細線１２本から成るナスト
ノζターンにおいても、断線は１０セル中、皆無であっ
た。
付着による局所的な変位は除外した。このプラスチック
フィルムの平滑面に、１０重量−のスズを含むインジウ
ム合金をターゲットとし、酸素を１０モルチ含んだアル
ゴン混合ガスプラズマによって、■マグネトロン法によ
り、透明導電膜を、３００人の厚さに形成した。シート
抵抗は２００Ω／口であった。この透明導電膜付マット
フィルムを用いて、液晶表示素子を作成したところ、線
間１００μ、線巾２００μの細線１２本から成るナスト
ノζターンにおいても、断線は１０セル中、皆無であっ
た。
本発明によらず、平滑性が表面粗さのＲｍａｘ値にして
、０，１μよ〕大きい面上に、透明導電膜を形成した場
合には、上述のテストノぞターンによシ、断線が生じ、
その頻度は平滑性が悪くなるのに対応して増大の傾向が
見られた。
、０，１μよ〕大きい面上に、透明導電膜を形成した場
合には、上述のテストノぞターンによシ、断線が生じ、
その頻度は平滑性が悪くなるのに対応して増大の傾向が
見られた。
また、テストノぞターンの表示品位についても、本発明
によらない粗面化が行なわれていないプラスチックフィ
ルムを用いた場合には１ダイラインにより、細線、６タ
ーンがゆがんで見える現象があったが、本発明によるプ
ラスチックフィルムを用いた場合は、全体にソフトな感
じになシ、表示がすっきシと見やすくなった。
によらない粗面化が行なわれていないプラスチックフィ
ルムを用いた場合には１ダイラインにより、細線、６タ
ーンがゆがんで見える現象があったが、本発明によるプ
ラスチックフィルムを用いた場合は、全体にソフトな感
じになシ、表示がすっきシと見やすくなった。
第１図、第２図、第３図は、本発明の透明導電膜付マッ
トフィルムの断面−である。
トフィルムの断面−である。
Claims (1)
- 一方の面の表面粗さがＲｍａｘ値において０．１μ以下
の平滑性を有しており、他方の面が粗面化されているプ
ラスチックフィルムの、平滑性を有している面上に、酸
化インジウムを主成分とする透明導電性を有する薄膜層
が形成されて成る透明導電膜付マットフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7443185A JPS61233531A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | 透明導電膜付マツトフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7443185A JPS61233531A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | 透明導電膜付マツトフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233531A true JPS61233531A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13547019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7443185A Pending JPS61233531A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | 透明導電膜付マツトフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233531A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02227913A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Nitto Denko Corp | 透明導電性積層体 |
| JP2001158059A (ja) * | 1999-12-06 | 2001-06-12 | Bando Chem Ind Ltd | オーバーラミネート用フィルム及び該オーバーラミネート用フィルムで被覆された印刷構造物 |
| JP2001212878A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-08-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、およびこれを用いた高分子フィルムシート |
| US6568978B2 (en) | 2000-03-31 | 2003-05-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrode substrate, method for producing the same, and display device including the same |
-
1985
- 1985-04-10 JP JP7443185A patent/JPS61233531A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02227913A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Nitto Denko Corp | 透明導電性積層体 |
| JP2001158059A (ja) * | 1999-12-06 | 2001-06-12 | Bando Chem Ind Ltd | オーバーラミネート用フィルム及び該オーバーラミネート用フィルムで被覆された印刷構造物 |
| JP2001212878A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-08-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、およびこれを用いた高分子フィルムシート |
| US6568978B2 (en) | 2000-03-31 | 2003-05-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrode substrate, method for producing the same, and display device including the same |
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