WO2022225051A1 - 液晶デバイス用透明基材、及び調光シート - Google Patents

液晶デバイス用透明基材、及び調光シート Download PDF

Info

Publication number
WO2022225051A1
WO2022225051A1 PCT/JP2022/018569 JP2022018569W WO2022225051A1 WO 2022225051 A1 WO2022225051 A1 WO 2022225051A1 JP 2022018569 W JP2022018569 W JP 2022018569W WO 2022225051 A1 WO2022225051 A1 WO 2022225051A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
liquid crystal
surface roughness
light control
base material
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/018569
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
裕介 ▲高▼橋
大輔 山下
Original Assignee
凸版印刷株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 凸版印刷株式会社 filed Critical 凸版印刷株式会社
Priority to CN202280027612.2A priority Critical patent/CN117120919A/zh
Priority to EP22791822.4A priority patent/EP4328661A1/en
Publication of WO2022225051A1 publication Critical patent/WO2022225051A1/ja
Priority to US18/487,433 priority patent/US20240061291A1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1334—Constructional arrangements; Manufacturing methods based on polymer dispersed liquid crystals, e.g. microencapsulated liquid crystals
    • G02F1/13347—Constructional arrangements; Manufacturing methods based on polymer dispersed liquid crystals, e.g. microencapsulated liquid crystals working in reverse mode, i.e. clear in the off-state and scattering in the on-state
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements
    • G02F1/133565—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements inside the LC elements, i.e. between the cell substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133742—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers for homeotropic alignment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2363/00—Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • C08J2363/02—Polyglycidyl ethers of bis-phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/02—Homopolymers or copolymers of acids; Metal or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2479/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2461/00 - C08J2477/00
    • C08J2479/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2479/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2483/04—Polysiloxanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G02F1/133723—Polyimide, polyamide-imide
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements

Definitions

  • the present disclosure relates to a transparent base material for liquid crystal devices and a light control sheet.
  • a reverse type light control sheet has a relatively low haze when no voltage is applied between the pair of conductive layers, and a relatively high haze when a voltage is applied between the pair of conductive layers.
  • a reverse type light control sheet a light control layer containing liquid crystal molecules, a pair of conductive layers (transparent electrodes) sandwiching the light control layer in the thickness direction of the light control layer, and a light control layer and a conductive layer Some are provided with alignment films respectively located between them (see, for example, Patent Document 1).
  • the alignment layer vertically aligns the liquid crystal molecules when no voltage is applied between the pair of conductive layers.
  • the liquid crystal molecules are randomly oriented, causing multiple reflections of incident light at the interface between the polymer and the liquid crystal.
  • the light control sheet and the transparent base material provided with the orientation layer are required to be manufactured using a roll-to-roll apparatus from the viewpoint of enabling mass production of the light control sheet.
  • the transparent substrate is manufactured using a roll-to-roll device
  • the transparent substrate is conveyed by the roll-to-roll device, and the transparent substrate is wound using the roll-to-roll device.
  • an external force acts on the transparent substrate and the alignment layer provided on the transparent substrate, and this may cause physical damage to the alignment layer.
  • a transparent substrate having an orientation layer poses a new problem because the transparent substrate is manufactured using a roll-to-roll apparatus.
  • the transparent base material for a liquid crystal device of the present disclosure is a transparent base material for a liquid crystal device that includes an alignment layer that regulates the alignment direction of liquid crystal molecules contained in a liquid crystal layer included in the liquid crystal device, and an underlying layer on which the alignment layer is formed.
  • the transparent base material for a liquid crystal device comprises a first surface and a second surface opposite to the first surface, the first surface being a surface including the alignment layer;
  • the second surface is a surface included in the underlayer, the surface of the underlayer in contact with the alignment layer has a hardness of F or higher in a pencil hardness test, and the surface roughness Ra1 of the first surface is 20 nm. and the sum Ra1+Ra2 of the surface roughness Ra1 of the first surface and the surface roughness Ra2 of the second surface is 5 nm or more.
  • the light control sheet of the present disclosure includes a light control layer that is in contact with the first surface of the transparent substrate for a liquid crystal device and contains liquid crystal molecules.
  • the strength of the orientation layer can be increased.
  • the sum Ra1+Ra2 of the surface roughness Ra1 of the first surface and the surface roughness Ra2 of the second surface is 5 nm or more. Therefore, it is possible to reduce the frictional force generated between the first surface and the second surface, thereby suppressing defects in the orientation layer.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface is set to 20 nm or less while dispersing the surface roughness on the first surface and the second surface.
  • the second surface may have a surface roughness Ra2 of 100 nm or less. According to the above configuration, scattering on the second surface can be suppressed in a liquid crystal device using the transparent substrate for a liquid crystal device.
  • the sum Ra1+Ra2 of the surface roughness Ra1 of the first surface and the surface roughness Ra2 of the second surface may be 120 nm or less. According to the above configuration, scattering on the second surface can be suppressed in a liquid crystal device using the transparent substrate for a liquid crystal device while maintaining the alignment regulating force of the alignment layer.
  • the underlying layer includes a supporting base material, a hard coat layer, a conductive layer and an alignment layer, and the hard coat layer is positioned between the supporting base material and the alignment layer.
  • the orientation layer can be reinforced by the hard coat layer.
  • the hard coat layer contains a plurality of particles, and the diameter of the particles or the diameter of the aggregated particles composed of the plurality of particles is determined by the thickness of the hard coat layer and the thickness of the conductive layer. It may be greater than the sum of the thickness and the thickness of the alignment layer.
  • the particles contained in the hard coat layer protrude from the first surface contained in the orientation layer.
  • the surface roughness can be controlled by adjusting the particle content.
  • At least part of the particles contained in the base layer may protrude from at least one of the first surface and the second surface of the transparent base material for a liquid crystal device. According to the above configuration, the surface roughness can be controlled by adjusting the content of the particles contained in the underlayer.
  • the alignment layer may contain a silicone-based resin or a polyimide-based resin. According to the above configuration, the strength of the alignment layer itself can be increased.
  • the present disclosure can suppress physical damage in the alignment layer included in the transparent base material for liquid crystal devices.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the transparent base material for liquid crystal devices included in the light control sheet of the first embodiment.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a state of storing the transparent base material for a liquid crystal device of the first embodiment.
  • FIG. 1 A first embodiment of a transparent substrate for a liquid crystal device and a light control sheet will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
  • the light control sheet 10 includes a first base material 11, a second base material 12, and a light control layer 13.
  • the light control layer 13 contains liquid crystal molecules.
  • the light control layer 13 is an example of a liquid crystal layer.
  • the liquid crystal molecules may be held in a polymer network liquid crystal (PNLC) type or a polymer dispersed liquid crystal (PDLC) type.
  • PNLC polymer network liquid crystal
  • PDLC polymer dispersed liquid crystal
  • Liquid crystal molecules have negative dielectric anisotropy. In other words, the liquid crystal molecules are n-type.
  • Each of the first base material 11 and the second base material 12 is an example of a transparent base material for liquid crystal devices.
  • Each base material 11, 12 has transparency to visible light.
  • Each substrate 11, 12 includes an alignment layer. The alignment layer regulates the alignment direction of liquid crystal molecules included in the light control layer 13 .
  • Each base material 11 , 12 is in contact with the light control layer 13 .
  • the surface in contact with the light control layer 13 is the first surface.
  • FIG. 2 shows a cross-sectional structure of a first substrate 11, which is an example of a transparent substrate for liquid crystal devices.
  • the layers provided on the second base material 12 are common to the layers provided on the first base material 11. is doing. Therefore, while the structure of the first base material 11 will be described in detail below, the detailed description of the structure of the second base material 12 will be omitted.
  • the first base material 11 has a first surface 11S1 and a second surface 11S2 opposite to the first surface 11S1.
  • the first surface 11S1 is a surface included in the alignment layer 21 .
  • the second surface 11S2 is a surface included in the underlying layer 11A.
  • the first surface 11S1 and the second surface 11S2 face each other.
  • the first base material 11 includes an alignment layer 21 and a base layer 11A on which the alignment layer 21 is formed.
  • the surface of the base layer 11A opposite to the second surface 11S2 is the surface 11A1 in contact with the alignment layer 21.
  • the base layer 11A includes a support base material 24, a hard coat layer 23, a conductive layer 22, and an easy slip layer 26.
  • Surface 11A1 is included in conductive layer 22 .
  • the support substrate 24 has a first surface 24A and a second surface 24B. The first surface 24A and the second surface 24B face each other.
  • a hard coat layer 23, a conductive layer 22, and an orientation layer 21 are laminated in this order on the first surface 24A.
  • FIG. 2 schematically shows the thickness of each layer.
  • the supporting base material 24 is made of synthetic resin, for example. Synthetic resins may be, for example, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • the support substrate 24 can have a thickness of, for example, 16 ⁇ m or more and 250 ⁇ m or less.
  • the supporting base material 24 has transparency to visible light.
  • the support base material 24 may have not only a single-layer structure but also a multi-layer structure. When the supporting substrate 24 has a multilayer structure, the supporting substrate 24 comprises a first layer made of a first material and a second layer made of a second material different from the first material. you can
  • the hard coat layer 23 is located between the supporting substrate 24 and the conductive layer 22 .
  • the strength of the hard coat layer 23 is higher than that of the support base material 24 . Therefore, the strength of the surface of the alignment layer 21 formed on the underlayer 11A is higher than when the underlayer 11A does not include the hard coat layer 23 .
  • the hard coat layer 23 may be made of, for example, an organic material, a silicon material containing silicon, or an inorganic material.
  • the organic material is a synthetic resin such as melamine resin, urethane resin, or acrylic resin.
  • the silicon-based material may be a silane compound such as a silicone-based hard coat material.
  • the inorganic material may be a metal oxide.
  • the hard coat layer 23 can have a thickness of, for example, 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the hard coat layer 23 has transparency to visible light.
  • the hard coat layer 23 is not limited to a single layer structure, and may have a multilayer structure. When the hard coat layer 23 has a multilayer structure, the hard coat layer 23 includes a first layer made of a first material and a second layer made of a second layer different from the first material. you can
  • the hard coat layer 23 may contain a plurality of particles 23P.
  • the particles 23P are added separately from the hard coating agent that is the main component of the hard coating layer 23, and may be made of a material different from the hard coating agent.
  • the particles 23P may be made of, for example, a synthetic resin or a silica-based inorganic material.
  • the cross-sectional shape of the particles 23P may be circular, elliptical, or other shapes.
  • the diameter D1 of at least some of the particles 23P is equal to the thickness T1 of the hard coat layer 23, the thickness T2 of the conductive layer 22, and the thickness T3 of the orientation layer 21 is greater than the sum of (T1+T2+T3) (D1>T1+T2+T3).
  • the thicknesses of the hard coat layer 23, the conductive layer 22, and the orientation layer 21 are the thicknesses of the portions where the particles 26P are not located. Therefore, at least part of the particles 23P contained in the hard coat layer 23 protrude outside from the first surface 11S1. Therefore, the surface roughness of the first surface 11S1 is large. If the hard coat layer 23 contains particles 23P having an elliptical cross-sectional shape or particles 23P of various sizes, only some of the particles 23P may protrude from the first surface 11S1.
  • the conductive layer 22 is positioned between the hard coat layer 23 and the orientation layer 21 in the thickness direction of the first base material 11 . Therefore, when a voltage is applied to the conductive layer 22 , an electric field having a strength capable of driving the liquid crystal molecules is generated between the conductive layer 22 of the first base material 11 and the conductive layer of the second base material 12 . easily formed between
  • Conductive layer 22 is formed of, for example, a transparent conductive oxide (TCO).
  • TCO transparent conductive oxide
  • the TCO can be, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO2), indium zinc oxide (IZO), and indium - gallium-zinc oxide (IGZO).
  • ITO indium tin oxide
  • ZnO zinc oxide
  • SnO2 tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • IGZO indium - gallium-zinc oxide
  • the conductive layer 22 can have a thickness of, for example, 5 nm or more and 100 nm or less.
  • the conductive layer 22 has transparency to visible light.
  • the alignment layer 21 is a vertical alignment film.
  • the alignment layer 21 orients the liquid crystal molecules such that the long axes of the liquid crystal molecules are perpendicular to the plane in which the alignment layer 21 extends.
  • the angle formed by the alignment layer 21 and the long axes of the liquid crystal molecules may deviate from the right angle as long as it can be regarded as a substantially right angle.
  • the alignment layer 21 is a silicone-based resin or polyimide-based resin having a siloxane bond consisting of silicon and oxygen as a skeleton and an organic group bonded to silicon. By forming the alignment layer 21 from these resins, the thermal stability and chemical stability of the alignment layer 21 can be enhanced.
  • the alignment layer 21 is made of, for example, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol (PVA), or the like.
  • the surface of the alignment layer 21 may be subjected to rubbing treatment.
  • the thickness of the alignment layer 21 may be, for example, 20 nm or more and 500 nm or less.
  • the alignment layer 21 is transparent to visible light.
  • a slippery layer 26 is formed on the second surface 24B of the support base material 24 .
  • the synthetic resin may be, for example, any one of melamine-based resin, urethane-based resin, and acrylic-based resin.
  • the slippery layer 26 can have a thickness of, for example, 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. In addition, the thickness of the slippery layer 26 is the thickness of the portion where the particles 26P are not located.
  • the slippery layer 26 has transparency to visible light.
  • the slippery layer 26 may contain a plurality of particles 26P.
  • the particles 26P may be made of synthetic resin, for example. Alternatively, an inorganic material such as a silica-based material may be used for the particles 26P.
  • the particles 23P contained in the hard coat layer 23 and the particles 26P contained in the slippery layer 26 may be made of the same material, or may be made of different materials.
  • the particles 26 ⁇ /b>P are added separately from the coating material of the slippery layer 26 , and may be made of a material different from the main component of the slippery layer 26 . Also, the particles 23P and 26P may have the same size or may have different sizes.
  • the diameter D2 of at least some of the particles 26P included in the easy-to-lubricate layer 26 is larger than the thickness T4 of the easy-to-lubricate layer 26 (D2>T4).
  • the diameter T4 of the easy-to-lubricate layer 26 (D2>T4).
  • a plurality of particles 26 ⁇ /b>P aggregate at least part of the aggregated particles made up of the plurality of particles should have a diameter larger than the thickness T ⁇ b>4 of the slippery layer 26 . Therefore, at least part of the particles 26P contained in the slippery layer 26 or at least part of the aggregated particles protrude outside from the second surface 11S2. Therefore, the surface roughness of the second surface 11S2 is large.
  • the support base material 24 is thin and highly flexible, it is not suitable for a single-wafer manufacturing method. Therefore, the roll-to-roll method is used for manufacturing the first base material 11 and the second base material 12 and for manufacturing the light control sheet using the first base material 11 and the second base material 12 .
  • the roll-to-roll method defects occur in the alignment layer 21 due to friction between contact portions of the wound base material, pressing force exerted by those portions on each other, and the like.
  • the inventors increased the strength of the alignment layer 21 in order to suppress defects in the alignment layer 21 . Further, the frictional force is reduced by increasing the surface roughness of the first surface 11S1 and the second surface 11S2 to improve slipperiness. At this time, if only the surface roughness of the second surface 11S2 is increased, the haze becomes excessively large when the light control sheet 10 is driven to be transparent. Therefore, the inventors have found that by dispersing the surface roughness on the first surface 11S1 and the second surface 11S2, it is possible to reduce the frictional force and the haze during transparent driving.
  • the first base material 11 and the second base material 12 satisfy at least the following condition 1 satisfy ⁇ 3.
  • the surface 11A1 of the base layer 11A has a hardness of F or higher in a pencil hardness test.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 included in the alignment layer 21 is more than 0 nm and 20 nm or less (0 nm ⁇ Ra1 ⁇ 20 nm).
  • the pencil hardness test was conducted by a method based on JIS K 5600-5-4: 1999 "General test method for paint-Part 5: Mechanical properties of coating film-Section 4: Scratch hardness (pencil method)".
  • the hardness of the surface 11A1 of the base layer 11A is realized by the hard coat layer 23
  • the pencil hardness of the surface of the hard coat layer 23 in contact with the conductive layer 22 is F or higher.
  • the pencil hardness of the alignment layer 21 itself in contact with the surface 11A1 of the underlayer 11A is lower than F.
  • the orientation layer 21 is laminated on the hard coat layer 23 via the conductive layer 22, thereby developing a pencil hardness of F or higher.
  • the surface roughness Ra1 is the arithmetic mean roughness Ra of the first surface 11S1.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 is increased. Excessive increase in haze due to this can be suppressed.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 exceeds 20 nm (20 nm ⁇ Ra1), the alignment regulation force of the alignment layer 21 for aligning the liquid crystal molecules partially decreases.
  • the liquid crystal molecules are randomly aligned in the portion where the alignment regulation force is lowered, it is visually recognized as a locally opaque portion even when the light control sheet 10 is driven to be transparent. Furthermore, since the height difference of the uneven shape of the alignment layer 21 is increased, the external force tends to be concentrated on the top of the convex shape and the bottom of the concave shape. As a result, defects are likely to occur when an external force is applied to the alignment layer 21 .
  • the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 is preferably 2 nm or more.
  • the surface roughness Ra2 is the arithmetic mean roughness Ra of the second surface 11S2.
  • the surface roughness Ra1+Ra2 of the surface roughnesses of the first surface 11S1 and the second surface 11S2 can be reduced.
  • the sum of surface roughnesses Ra1+Ra2 is less than 5 nm (Ra1+Ra2 ⁇ 5 nm)
  • the frictional force generated between the first surface 11S1 and the second surface 11S2 increases, and defects in the alignment layer 21 tend to occur.
  • the first surface 11S1 and the second surface 11S2 are in close contact with each other, and blocking is likely to occur.
  • the first surface 11S1 and the second surface 11S2 that are in close contact with each other are forcibly peeled off, causing defects in the orientation layer 21 .
  • first base material 11 and the second base material 12 preferably satisfy the following conditions 4 and 5 in addition to the conditions 1 to 3.
  • the surface roughness Ra2 of the second surface 11S2 included in the slippery layer 26 is more than 0 nm and 100 nm or less (0 ⁇ Ra2 ⁇ 100 nm).
  • the haze of the light control sheet 10 is the external haze, which is scattering at the interface between the first base material 11 and air and the interface between the second base material 12 and air, and the difference in refractive index between the particles 26P and the slippery layer 26. and the internal haze caused by factors of the internal structure of the light control sheet 10 such as a decrease in the orientation force of the orientation layer 21 as described above.
  • the surface roughness of the second surface 11S2 changes the external haze. That is, the scattering of visible light on the second surface 11S2 increases, and the haze of the first base material 11 and the second base material 12 increases.
  • the surface roughness Ra2 of the second surface 11S2 exceeds 100 nm, the transparency when the light control sheet 10 is driven to be transparent can ensure practicality depending on the application, but the haze exceeds 15%.
  • condition 5 When Condition 1 is satisfied and the sum Ra1+Ra2 of the surface roughnesses of the first surface 11S1 and the second surface 11S2 is 120 nm, the light control sheet 10 during transparent driving can maintain the alignment regulating force of the alignment layer 21. haze can be suppressed from increasing excessively. Specifically, the haze of the light control sheet 10 during transparent driving can be set to 15% or less. When the sum Ra1+Ra2 of the surface roughnesses of the first surface 11S1 and the second surface 11S2 exceeds 120 nm, the haze during transparent driving exceeds 15%.
  • the action of the first base material 11 will be described with reference to FIG.
  • the first base material 11 is conveyed along the longitudinal direction of the first base material 11 by a roll-to-roll device.
  • tension is applied to the first base material 11 along the longitudinal direction, and the first base material 11 is transported along the longitudinal direction while being in contact with the guide rolls of the roll-to-roll device. Therefore, when the first surface 11S1 of the first base material 11 contacts the guide roll, friction occurs between the first surface 11S1 included in the orientation layer 21 and the guide roll.
  • a defect is a portion of the alignment layer 21 that is deficient, such as partially peeled off or damaged, and is unable to exert its alignment regulating force.
  • the first base material 11 since the first base material 11 has a strip shape, it can be used when the first base material 11 is transported from a roll-to-roll device to another device, or when the first base material 11 is stored. , the first base material 11 has a roll shape wound around the core C. FIG. 3
  • the first base material 11 when the first base material 11 is wound around the core C, pressure is generated in the thickness direction of the base material. This is because the action of winding the base film such as the first base material 11 around the core C is a repetition of the momentary action of pressing the base film against the core C.
  • the frictional force or pressing force acting on the first surface 11S1 exceeds the strength of the first surface 11S1
  • defects will occur in the portion of the alignment layer 21 where the frictional force or pressing force acts.
  • the first substrate 11 may have a slight amount of waviness. When the first base material 11 is wavy, the undulated portion presses the portion in contact with the rugged portion. Also in this case, if the frictional force or pressing force acting on the first surface 11S1 exceeds the strength of the first surface 11S1, defects will occur in the portion of the alignment layer 21 where the frictional force or pressing force acts.
  • the alignment layer 21 is formed on the underlayer 11A having a hardness of F or higher in a pencil hardness test, the strength of the alignment layer 21 can be increased. Further, the sum Ra1+Ra2 of the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 and the surface roughness Ra2 of the second surface 11S2 is 5 nm or more. Therefore, the frictional force generated between the first surface 11S1 and the second surface 11S2 can be reduced, and damage to the alignment layer 21 can be suppressed. Further, the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 is set to 20 nm or less while distributing the surface roughness to the first surface 11S1 and the second surface 11S2.
  • the hard coat layer 23 having a hardness of F or higher in a pencil hardness test is positioned. Therefore, even if the orientation layer 21 is extremely thin and thus has a low strength, the orientation layer 21 can be reinforced by the hard coat layer 23 .
  • the diameter of at least part of the particles 23P contained in the hard coat layer 23 or the diameter of at least part of the aggregated particles composed of a plurality of particles 23P is equal to the thickness of the hard coat layer 23, the thickness of the conductive layer 22 and the greater than the sum of the thicknesses of the alignment layers 21; For this reason, the particles 23P contained in the hard coat layer 23 or aggregated particles composed of a plurality of particles 23P protrude from the first surface 11S1 contained in the orientation layer 21. As shown in FIG. Thereby, the surface roughness Ra1 of the first surface 11S1 can be increased. Further, by adjusting the content of the particles 23P, it is possible to control the surface roughness Ra1.
  • the alignment layer 21 contains silicone-based resin or polyimide-based resin, the thermal stability and chemical stability of the alignment layer 21 can be enhanced.
  • the underlayer 11A in the above embodiment includes the hard coat layer 23 .
  • the underlying layer 11A does not need to include the hard coat layer 23.
  • the supporting base material 24 may have such high strength that the first surface 11S1 has a pencil hardness of F or higher.
  • the underlayer 11A in the above-described embodiment includes particles 23P contained in the hard coat layer 23 .
  • the underlayer 11A does not have to include the particles 23P.
  • the alignment layer 21, the conductive layer 22, and the support base 24 should have surface roughness large enough to satisfy conditions 2 and 3 for the surface roughness R1a of the first surface 11S1.
  • the base layer 11A in the above-described embodiment includes an easy-to-slip layer 26 .
  • the second surface 11S2 satisfies at least Condition 3
  • the underlying layer 11A does not have to include the slippery layer .
  • the supporting substrate 24 may include the second surface 11S2, and the surface roughness Ra2 of the second surface 11S2 may satisfy Condition 3.
  • another film such as a protective film may be attached to the second surface 24B side of the support base material 24 to satisfy the surface roughness Ra2 of 11S2.
  • a protective film may be attached to the second surface 24B side of the support base material 24 to satisfy the surface roughness Ra2 of 11S2.
  • the degree of freedom in designing the supporting substrate 24 can be increased, although the protective film must be peeled off when using the light control film.
  • the base layer 11A in the above embodiment includes particles 26P contained in the slippery layer 26 .
  • the underlayer 11A does not have to include the particles 26P.
  • the supporting base material 24 may have a large surface roughness to the extent that the surface roughness R2a of the second surface 11S2 satisfies the condition 3.
  • the conductive layer 22 may be positioned between the supporting base material 24 and the hard coat layer 23 in the thickness direction of the underlying layer 11A. Even in this case, since the underlying layer 11A has the hard coat layer 23, it is possible to obtain the effect according to (1) described above. In this case, since the distance between the conductive layer 22 and the first surface 11S1 is increased in the thickness direction of the base layer 11A, a high voltage may be applied by driving the liquid crystal molecules.
  • the liquid crystal device is embodied as a reverse type light control sheet 10 that has a low linear transmittance when energized and a high linear transmittance when not energized.
  • the liquid crystal device may be embodied as a normal type light control sheet in which the linear transmittance of visible light increases when energized and decreases when not energized.
  • the normal type light control sheet includes, for example, a light control sheet comprising a light control layer containing a p-type liquid crystal between a pair of alignment layers having a horizontal alignment control force, or a pair of alignment layers having a vertical alignment force.
  • a light control sheet having a light control layer containing an n-type liquid crystal has a first base material, a light control layer and a second base material between a pair of polarizing plates.
  • a liquid crystal device to which the transparent base material for a liquid crystal device of the present disclosure is applied is not limited to the light control sheet described above as long as it has an alignment layer.
  • it may be a liquid crystal display device.
  • a lubricating layer paint for forming a lubricating layer was prepared. 0.02% by weight of acrylic particles (Techpolymer SSX-102, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) having an average particle size of 2 ⁇ m were added to a highly crosslinked acrylic hard coating agent (Riodurus LCH6701, manufactured by Toyochem Co., Ltd.). Further, methyl ethyl ketone was added to the hard coat paint to adjust the solid content concentration including acrylic particles to 50% by weight.
  • a film (Cosmoshine A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) made of polyethylene terephthalate (PET) (Cosmoshine is a registered trademark) was prepared.
  • the total thickness of the PET film was 125 ⁇ m.
  • the adjusted paint for slippery layer was applied with a gravure coater. At that time, the coating was applied so that the thickness of the part of the hardened slippery layer where no acrylic particles were present was 1.5 ⁇ m.
  • the PET film on which the slippery layer was formed was wound up in-line to obtain a film roll wound with the slippery layer-attached film.
  • a hard coat layer was formed on the surface of the film with the slippery layer opposite to the surface on which the slippery layer was formed.
  • a hard coat paint (first paint) was prepared. 0.02% by weight of acrylic particles (Techpolymer SSX-102, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) having an average particle size of 2 ⁇ m were added to a highly crosslinked acrylic resin hard coating agent (Riodurus LCH6701, manufactured by Toyochem Co., Ltd.). Furthermore, methyl ethyl ketone was added to the hard coat paint to adjust the solid content concentration to 50% by weight.
  • the prepared hard coat paint was applied by a gravure coater to the surface opposite to the surface on which the slippery layer was formed in the film with the slippery layer. At that time, the hard coat layer was applied so that the thickness of the portion where the acrylic particles were not present in the hard coat layer was 1.5 ⁇ m. After drying the PET film with the slippery layer coated with the hard coat paint at a temperature of 60° C. for 1 minute, the hard coat layer was cured by exposure using a high-pressure mercury lamp at an exposure dose of 300 mJ/cm 2 . Then, the film on which the hard coat layer was formed was wound up in-line to obtain a film roll wound with the film with the hard coat layer.
  • a conductive layer was formed on the hard coat layer.
  • a roll sputtering apparatus equipped with a mixed sintered target of indium oxide (90% by weight) and tin oxide (10% by weight) was used for forming the conductive layer.
  • a film roll was set in this roll sputtering device, and the inside of the device was evacuated to 0.4 Pa. After that, argon gas and oxygen gas were introduced into the apparatus. Then, film formation was carried out at a substrate temperature of 40° C. and a pressure of 0.4 Pa, which is the temperature applied to the film. As a result, a conductive layer having a thickness of 50 nm was formed on the underlying layer.
  • the conductive layer was crystallized by heat-treating the PET film with the conductive layer formed thereon at a temperature of 140° C. for 90 minutes. This film with the conductive layer was wound into a roll.
  • ⁇ Preparation of alignment layer> An orientation layer was then laminated to the conductive layer. Alignment was performed by adjusting the alignment layer paint (Sunever SE-H682, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) (Sunever is a registered trademark) mainly composed of polyamic acid with a solvent so that the solid content was 5% by weight. A coating liquid for forming a layer was obtained.
  • the solvent the weight ratio of propylene glycol monomethyl ether and ⁇ -butyl lactone was set as follows.
  • Propylene glycol monomethyl ether: ⁇ -butyl lactone 8:2
  • the film with the conductive layer was pulled out from the film roll, and the orientation layer coating material was applied onto the conductive layer using a roll coater. Then, the film coated with the alignment layer coating material was dried at a temperature of 150° C. for 5 minutes to form an alignment layer having a thickness of 100 nm. As a result, the paint containing polyamic acid as a main raw material becomes an alignment layer containing polyimide as a main skeleton.
  • the film laminated with the orientation layer was wound up into a roll and collected. Thus, a film including an underlayer was obtained. A set of two film rolls obtained by winding the underlayer-attached film is prepared.
  • the transparent substrate for liquid crystal devices was stored for 7 days in a clean room maintained at 23° C. and a relative humidity of 50% RH. This underlayer-attached film was used as a sample of a single film.
  • the arithmetic average roughness of the first surface included in the alignment layer was measured using a white light interferometer (VertScan R3300h Lite, manufactured by Ryoka Systems Co., Ltd.). At this time, the field of view having a rectangular shape and having a width of 1.408 mm and a length of 1.885 mm was used as an object for measurement of the arithmetic mean roughness. Also, the arithmetic mean roughness was measured by a method according to JIS B 0601:2013. This arithmetic mean roughness was defined as the surface roughness Ra1 of the first surface. The surface roughness Ra1 of the first surface in Example 1 was 4 nm.
  • the film roll was viewed from its side, and the end face of the wound base material was visually recognized.
  • the end surface of the base material was not wound in a circular shape close to a perfect circle, but was wound in a polygonal shape, it was determined that sticking or swelling occurred. If the front and back surfaces of the base material stick together or swell, the base material itself may be deformed when the base material is pulled out from the film roll, or in the worst case, the film may break.
  • NG bad
  • OK sticking or swelling on the front and back of the base material could not be confirmed
  • a light control layer was produced between a pair of films with orientation layers. 17.5 parts by weight of an ultraviolet curable coating agent (Loctite 3736, manufactured by Henkel) and 17.5 parts by weight of 1,9-nonanediol methacrylate were mixed. Furthermore, this mixture was mixed with 65 parts by weight of an n-type liquid crystal composition (MLC-6608, manufactured by Merck & Co.) to obtain a light control layer coating material.
  • an ultraviolet curable coating agent Lictite 3736, manufactured by Henkel
  • MLC-6608 manufactured by Merck & Co.
  • Bead spacers containing divinylbenzene as a main component and having a particle size of 6 ⁇ m were dispersed in isopropyl alcohol. This spacer dispersant was applied to the first surface of the film with the orientation layer so that the area occupied by the bead spacers was 1.5%. Then, the film coated with the spacer dispersant was dried at a temperature of 100° C. and wound up.
  • the film with the orientation layer was pulled out from the first film roll on which the film with the orientation layer was wound with the bead spacers dispersed, and the light control layer paint was applied onto the orientation layer with a die head coater.
  • the light control layer coating material was cured by irradiating the light control layer coating material with ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp in which light rays having a wavelength of 350 nm or less were cut off.
  • the illuminance was 20 mW/cm 2
  • the irradiation time was 30 seconds
  • the temperature was 25°C.
  • a film with an orientation layer pulled out from the second film roll was superimposed on the light control layer and joined. As a result, a light control sheet was obtained in which the light control layer was sandwiched between a pair of oriented layer-attached films.
  • Example 2 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 1.00% by weight.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 5 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 40 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 45 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 3 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 3.00% by weight.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 4 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 97 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 101 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 4 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added in the hard coat layer was changed to 0.025% by weight.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 6 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 5 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 11 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 5 In Example 1, the addition amount of the acrylic particles in the hard coat layer was changed to 0.025% by weight, and the addition amount of the acrylic particles in the slippery layer was changed to 1.00% by weight. A film alone and a light control sheet were produced in the same manner.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 9 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 35 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 44 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 6 In Example 1, the amount of acrylic particles added to the hard coat layer was changed to 0.025% by weight, and the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 3.00% by weight. A film alone and a light control sheet were produced in the same manner.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 6 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 100 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 106 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 7 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added in the hard coat layer was changed to 0.45% by weight.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 18 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 5 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 23 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 1 was the same as Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the hard coat layer was changed to 0.45% by weight, and the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 1.00% by weight.
  • a film alone and a light control sheet were produced in the same manner.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 17 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 50 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 67 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 9 In Example 1, the addition amount of the acrylic particles in the hard coat layer was changed to 0.45% by weight, and the addition amount of the acrylic particles added to the slippery layer was changed to 3.00% by weight. A film alone and a light control sheet were produced in the same manner.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 19 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 99 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 118 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 10 In Example 1, instead of the first paint as the acrylic resin hard coat layer paint, the second paint (Riodulas TP-203X coating agent, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was used, and no acrylic particles were added to the hard coat layer. A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the sliding layer was changed to 3.00% by weight.
  • the acrylic resin used in Example 10 has a lower degree of cross-linking than the acrylic resin used in Example 1.
  • Example 10 the surface roughness Ra1 of the first surface was 2 nm, the surface roughness Ra2 of the second surface was 98 nm, and the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 100 nm. Further, the pencil hardness of the surface of the underlayer was HB.
  • Example 11 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 4.00% by weight.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 4 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 125 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 129 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 12 In Example 1, the film alone and the preparation were prepared in the same manner as in Example 1, except that no acrylic particles were added to the hard coat layer, and the amount of acrylic particles added to the slippery layer was changed to 3.00% by weight. A light sheet was produced.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 3 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 98 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 101 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 13 In Example 1, the film alone and the preparation were prepared in the same manner as in Example 1, except that no acrylic particles were added to the hard coat layer and the amount of acrylic particles added to the easy-to-slip layer was changed to 0.10% by weight. A light sheet was produced.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 2 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 5 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 7 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Comparative example 1 A single film and a light control sheet were produced in the same manner as in Example 1, except that acrylic particles were not added to both the hard coat layer and the slippery layer.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 1 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 2 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 3 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Comparative example 2 A single film and a light control sheet were prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of acrylic particles added to the hard coat layer was changed to 0.839% by weight and the acrylic particles were not added to the slippery layer. made.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 31 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 2 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 33 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was H.
  • Example 1 was the same as Example 1, except that a conductive layer and an orientation layer were provided on the support substrate without providing a hard coat layer, and the amount of acrylic particles added to the slippery layer was 3.00% by weight. A film alone and a light control sheet were produced in the same manner.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface was 2 nm
  • the surface roughness Ra2 of the second surface was 98 nm
  • the sum of the surface roughness Ra1 and the surface roughness Ra2 was 100 nm.
  • the pencil hardness of the surface of the underlayer was 2B.
  • FIG. 4 shows the number of defects and haze of each light control sheet.
  • (H) Number of Defects in Light Control Film The light control film was cut into a size of 1 m ⁇ 1 m and used as a sample. Without applying a driving voltage to the sample, light from a three-wavelength light source of 1000 lux or more was irradiated, and the number of defective portions was visually counted. Defective locations were defined as locations having a maximum diameter of 2 mm or more among locations that appeared cloudy from the surroundings when the light control film was visually observed. If the number of defects in the alignment layer is large, the alignment regulating force becomes insufficient during transparent driving, and the liquid crystal molecules are not vertically aligned but are randomly aligned. As a result, the incident light is scattered and appears cloudy. A sample with less than 50 defects was judged to be excellent, and a sample with 50 or more defects was judged to be defective.
  • the surface roughness Ra1 of the first surface is 30 nm, which does not satisfy Condition 2.
  • the transparent base material for liquid crystal devices had a large number of defective portions, and cloudy portions and transparent portions were mixed. .
  • a sample having a uniform haze that can be measured with a haze meter could not be obtained, and measurement of optical properties such as haze was difficult. Therefore, measurement was not possible.
  • the number of defects in the light control sheet was 50 or more, and the number of defects was large, so the sheet was judged to be unsatisfactory. This is probably because the alignment regulation force of the alignment layer was lowered due to the large surface roughness Ra1 of the first surface. For this reason, the overall evaluation was set as a defective product.
  • Comparative Example 3 does not have a hard coat layer, so the hardness of the first surface is low and Condition 1 is not satisfied. Further, when producing a light control sheet by drawing out the transparent base material for liquid crystal devices from this film roll, the transparent parts were selected and the haze was measured because the transparent base material for liquid crystal devices had many defective portions. It was clear that the number of defects in the light control sheet was 50 or more, which was too many, so counting was abandoned. It is believed that this is because the alignment layer has a low strength, so that the alignment layer is peeled off when the transparent base material for liquid crystal devices is wound into a roll, transported, pulled out, or the like. For this reason, the overall evaluation was set as a defective product.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

液晶デバイス用透明基材が備える配向層における物理的な損傷を抑える。液晶デバイスである調光シートが備える調光層が含む液晶分子の配向方向を規制する配向層（２１）と、配向層（２１）が形成される下地層（１１Ａ）とを含む液晶デバイス用透明基材の一つである第１基材（１１）であって、第１面（１１Ｓ１）と、第１面（１１Ｓ１）とは反対側の第２面（１１Ｓ２）とを備え、第１面（１１Ｓ１）は、配向層（２１）が含む面であり、第２面（１１Ｓ２）は、下地層（１１Ａ）が含む面であり、下地層（１１Ａ）のうち配向層（２１）と接する表面（１１Ａ１）は鉛筆硬度試験において表面粗さＲａ１が２０ｎｍ以下であり、表面粗さＲａ１及び第２面（１１Ｓ２）の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である。

Description

液晶デバイス用透明基材、及び調光シート
　本開示は、液晶デバイス用透明基材、及び調光シートに関する。
　リバース型の調光シートは、一対の導電層間に電圧が印加されていない状態において相対的に低いヘイズを有し、一対の導電層間に電圧が印加されている状態において相対的に高いヘイズを有する。リバース型の調光シートの一例として、液晶分子を含む調光層、調光層の厚さ方向において調光層を挟む一対の導電層（透明電極）、および、調光層と導電層との間にそれぞれ位置する配向膜を備えるものがある（例えば、特許文献１を参照）。この調光シートでは、一対の導電層間に電圧が印加されていない状態において、配向層が液晶分子を垂直配向させる。一対の導電層間に電圧が印加されている状態においては、液晶分子はランダムに配向し、入射光を高分子と液晶との界面で多重反射させる。
特開２０１８－４５１３５号公報
　ところで、調光シート、および、配向層を備える透明基材には、調光シートの量産化を可能にする観点から、ロールツーロール装置を用いた製造が可能であることが求められている。ロールツーロール装置を用いて透明基材が製造される場合には、ロールツーロール装置による透明基材の搬送時、ロールツーロール装置を用いた透明基材の巻き取り時、および、巻き取られた透明基材の運搬時などにおいて、透明基材、ひいては、透明基材が備える配向層に対して外力が作用し、これによって、配向層に物理的な損傷が生じる場合がある。このように、配向層を備える透明基材には、ロールツーロール装置を用いて透明基材を製造するがゆえの新たな課題が生じている。
　なお、こうした事項は、調光シート用の透明基材に限らず、ロールツーロール装置を用いて製造される他の液晶デバイス用の透明基材にも共通する。
　本開示の液晶デバイス用透明基材は、液晶デバイスが備える液晶層が含む液晶分子の配向方向を規制する配向層と、前記配向層が形成される下地層とを含む液晶デバイス用透明基材であって、前記液晶デバイス用透明基材は、第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを備え、前記第１面は、前記配向層が含む面であり、
　前記第２面は、前記下地層が含む面であり、前記下地層のうち前記配向層と接する面は鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有し、前記第１面の表面粗さＲａ１が２０ｎｍ以下であり、前記第１面の表面粗さＲａ１及び前記第２面の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である。
　本開示の調光シートは、上記の前記液晶デバイス用透明基材の前記第１面に接し、液晶分子を含む調光層を備える。
　上記構成によれば、鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有する下地層の上に配向層を形成するため、配向層の強度を高めることができる。また、第１面の表面粗さＲａ１及び第２面の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である。このため、第１面及び第２面の間に生じる摩擦力を低減し、配向層の欠損を抑制することができる。また、第１面及び第２面に表面粗さを分散しつつ、第１面の表面粗さＲａ１が２０ｎｍ以下とする。このため、第２面の表面粗さを大きくすることでのヘイズの過度な上昇を抑制しつつ、配向層の配向規制力を良好に維持することができる。よって、液晶デバイス用透明基材が備える配向層における物理的な損傷を抑えることができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記第２面の表面粗さＲａ２が１００ｎｍ以下であってもよい。
　上記構成によれば、液晶デバイス用透明基材を用いた液晶デバイスにおいて第２面における散乱を抑制することができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記第１面の表面粗さＲａ１及び前記第２面の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍ以下であってもよい。
　上記構成によれば、配向層の配向規制力を維持しつつ、液晶デバイス用透明基材を用いた液晶デバイスにおいて第２面における散乱を抑制することができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記下地層は、支持基材、ハードコート層、導電層及び配向層を含み、前記ハードコート層は前記支持基材及び前記配向層の間に位置する。
　上記構成によれば、配向層が極めて薄いために強度が小さくなる場合であっても、ハードコート層によって配向層を補強することができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記ハードコート層は、複数の粒子を含み、前記粒子の直径又は前記複数の粒子からなる凝集粒子の直径は、前記ハードコート層の厚さ、前記導電層の厚さ及び前記配向層の厚さの和よりも大きくてもよい。
　上記構成によれば、ハードコート層に含有される粒子が、配向層に含まれる第１面から突出する。これにより、粒子の含有量を調整することにより、表面粗さを制御することができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記第１面及び前記第２面の少なくとも一方から、前記下地層に含まれる粒子の少なくとも一部が突出してもよい。
　上記構成によれば、下地層に含まれる粒子の含有量を調整することにより表面粗さを制御することができる。
　上記液晶デバイス用透明基材について、前記配向層は、シリコーン系樹脂又はポリイミド系樹脂を含んでいてもよい。
　上記構成によれば、配向層自体の強度を高めることができる。
　本開示は、液晶デバイス用透明基材が備える配向層における物理的な損傷を抑えることができる。
第１実施形態の調光シートの構造を模式的に示す断面図。 第１実施形態の調光シートが備える液晶デバイス用透明基材の構造を示す断面図。 第１実施形態の液晶デバイス用透明基材を保管する際の状態を示す斜視図。 実施例及び比較例の評価結果を示す表。
　図１から図３を参照して、液晶デバイス用透明基材、および、調光シートの第１実施形態を説明する。
　［調光シート］
　図１を参照して調光シートを説明する。
　図１が示すように、調光シート１０は、第１基材１１、第２基材１２、および、調光層１３を備えている。調光層１３は、液晶分子を含んでいる。調光層１３は、液晶層の一例である。調光層１３において、液晶分子の保持形式は、ポリマーネットワーク型（ＰＮＬＣ：Polymer Network Liquid Crystal）でもよいし、高分子分散型（ＰＤＬＣ：Polymer Dispersed Liquid Crystal）でもよい。液晶分子は、負の誘電異方性を有している。言い換えれば、液晶分子はｎ型である。
　第１基材１１および第２基材１２の各々は、液晶デバイス用透明基材の一例である。各基材１１，１２は、可視光に対する透過性を有する。各基材１１，１２は、配向層を含む。配向層は、調光層１３が含む液晶分子の配向方向を規制する。各基材１１，１２は、調光層１３に接している。各基材１１，１２において、調光層１３に接する面が、第１面である。
　［液晶デバイス用透明基材］
　図２を参照して液晶デバイス用透明基材を説明する。
　図２は、液晶デバイス用透明基材の一例である第１基材１１の断面構造を示している。なお、第２基材１２は、調光シート１０の厚さ方向における位置が第１基材１１とは異なる一方で、第２基材１２が備える層は第１基材１１が備える層と共通している。そのため以下では、第１基材１１の構造を詳しく説明する一方で、第２基材１２の構造の詳しい説明を省略する。
　第１基材１１は、第１面１１Ｓ１と、第１面１１Ｓ１とは反対側の第２面１１Ｓ２とを備えている。第１面１１Ｓ１は、配向層２１が含む面である。第２面１１Ｓ２は、下地層１１Ａが含む面である。第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２は対向している。
　第１基材１１は、配向層２１と、配向層２１が形成される下地層１１Ａとを含んでいる。下地層１１Ａのうち、第２面１１Ｓ２と反対側となる面は、配向層２１と接する表面１１Ａ１である。下地層１１Ａは、支持基材２４、ハードコート層２３、導電層２２、易滑層２６を含んでいる。表面１１Ａ１は、導電層２２に含まれる。支持基材２４は、第１面２４Ａと第２面２４Ｂとを有する。第１面２４Ａと第２面２４Ｂとは互いに対向している。第１面２４Ａにはハードコート層２３、導電層２２、配向層２１が順に積層されている。なお、便宜上、図２では各層の厚さを模式的に示している。
　支持基材２４は、例えば合成樹脂から形成される。合成樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、および、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などであってよい。支持基材２４は、例えば、１６μｍ以上２５０μｍ以下の厚さを有することができる。支持基材２４は、可視光に対する透過性を有する。なお、支持基材２４は、単層構造に限らず、多層構造を有してもよい。支持基材２４が多層構造を有する場合には、支持基材２４は、第１材料から形成された第１層と、第１材料とは異なる第２材料から形成された第２層とを備えてよい。
　ハードコート層２３は、支持基材２４と導電層２２との間に位置する。ハードコート層２３の強度は、支持基材２４の強度よりも高い。そのため、下地層１１Ａがハードコート層２３を含まない場合に比べて、下地層１１Ａ上に形成された配向層２１の表面の強度が高くなる。
　ハードコート層２３は、例えば、有機系材料、ケイ素を含むシリコン系材料、および、無機系材料のいずれかによって形成されてよい。有機系材料は合成樹脂であり、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂のいずれかであってよい。シリコン系材料は、シリコーン系ハードコート材料等のシラン化合物であってよい。無機系材料は、金属酸化物であってよい。ハードコート層２３は、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下の厚さを有することができる。ハードコート層２３は、可視光に対する透過性を有する。ハードコート層２３は、単層構造に限らず、多層構造を有してもよい。ハードコート層２３が多層構造を有する場合には、ハードコート層２３は、第１材料から形成される第１層と、第１材料とは異なる第２層から形成された第２層とを備えてよい。
　また、ハードコート層２３は、複数の粒子２３Ｐを含んでいてもよい。粒子２３Ｐは、ハードコート層２３の主成分であるハードコート剤とは別に添加されたものであり、ハードコート剤とは異なる材料からなるものであってもよい。粒子２３Ｐは、例えば合成樹脂、又はシリカ系の無機材料によって形成されていてもよい。粒子２３Ｐの断面形状は円形や楕円形であってもよく、その他の形状であってもよい。ハードコート層２３に含まれる複数の粒子２３Ｐのうち、少なくとも一部の粒子２３Ｐの直径Ｄ１は、ハードコート層２３の厚さＴ１、導電層２２の厚さＴ２、及び配向層２１の厚さＴ３の和（Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きい（Ｄ１＞Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３）。ハードコート層２３、導電層２２、配向層２１の厚さは、粒子２６Ｐが位置しない部分における厚さである。よって、ハードコート層２３に含有される粒子２３Ｐの少なくとも一部が、第１面１１Ｓ１から外部に突出する。このため、第１面１１Ｓ１の表面粗さは大きい。なお、ハードコート層２３が、断面形状が楕円である粒子２３Ｐや、多様な大きさの粒子２３Ｐを含む場合には、粒子２３Ｐのうちの一部のみが第１面１１Ｓ１から突出してもよい。
　導電層２２は、第１基材１１の厚さ方向において、ハードコート層２３と配向層２１との間に位置している。このため、導電層２２に対して電圧が印加された場合に、液晶分子の駆動を可能とする強度を有した電界が、第１基材１１の導電層２２と第２基材１２の導電層との間に形成されやすい。
　導電層２２は、例えば透明導電性酸化物（ＴＣＯ）から形成される。ＴＣＯは、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、および、インジウム‐ガリウム‐亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）などであってよい。導電層２２は、例えば、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さを有することができる。導電層２２は、可視光に対する透過性を有する。
　配向層２１は、垂直配向膜である。配向層２１は、配向層２１が広がる平面に対して液晶分子の長軸が直交するように液晶分子を配向させる。なお、配向層２１と液晶分子の長軸とが形成する角度は、実質的に直角であると見なせる範囲において直角に対するずれを有してもよい。配向層２１は、ケイ素と酸素からなるシロキサン結合を骨格とし、ケイ素に有機基が結合したシリコーン系樹脂、又はポリイミド系樹脂である。配向層２１をこれらの樹脂から形成することで配向層２１の熱的安定性及び化学的安定性を高めることができる。配向層２１は、例えば、ポリアミック酸、ポリイミド、および、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などから形成される。配向層２１の表面には、ラビング処理が施されてもよい。配向層２１の厚さは、例えば２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であってよい。配向層２１は、可視光に対する透過性を有する。
　支持基材２４の第２面２４Ｂには、易滑層２６が形成されている。合成樹脂は、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂のいずれかであってよい。易滑層２６は、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下の厚さを有することができる。なお、易滑層２６の厚さは、粒子２６Ｐが位置しない部分における厚さである。易滑層２６は、可視光に対する透過性を有する。
　易滑層２６は、複数の粒子２６Ｐを含んでいてもよい。粒子２６Ｐは、例えば合成樹脂によって形成されていてもよい。又は、粒子２６Ｐは、シリカ系材料等の無機材料を用いてもよい。ハードコート層２３に含有される粒子２３Ｐと易滑層２６に含有される粒子２６Ｐとは同じ材料で形成されていてもよいし、異なる材料から形成されていてもよい。粒子２６Ｐは、易滑層２６の塗膜材料とは別に添加されたものであり、易滑層２６の主成分と異なる材料からなるものであってもよい。また、粒子２３Ｐ，２６Ｐは、同じ大きさであってもよいし、異なる大きさであってもよい。粒子２６Ｐを一次粒子として用いる場合、易滑層２６に含まれる複数の粒子２６Ｐのうち少なくとも一部の粒子２６Ｐの直径Ｄ２は、易滑層２６の厚さＴ４よりも大きい（Ｄ２＞Ｔ４）。複数の粒子２６Ｐが凝集する場合、複数の粒子からなる凝集粒子の少なくとも一部が、易滑層２６の厚さＴ４よりも大きい直径を有していればよい。よって、易滑層２６に含有される粒子２６Ｐの少なくとも一部又は凝集粒子の少なくとも一部が、第２面１１Ｓ２から外部に突出する。このため、第２面１１Ｓ２の表面粗さは大きい。
　次に、第１基材１１の特性について説明する。
　支持基材２４は、薄く且つ柔軟性が高いため、枚葉式での製造方法に適していない。このため、第１基材１１及び第２基材１２の製造や、第１基材１１及び第２基材１２を用いた調光シートの製造には、ロールツーロール方式が用いられる。しかし、ロールツーロール方式では、巻き取られた基材の接触部分間の摩擦や、それらの部分が互いに及ぼし合う押圧力等により、配向層２１の欠陥が生じる。
　このため、発明者らは、配向層２１の欠陥を抑制するために、配向層２１の強度を高めた。また、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さを大きくして滑り性を良くすることで摩擦力を低減した。このとき、第２面１１Ｓ２の表面粗さのみを大きくすると、調光シート１０の透明駆動時においてヘイズが過度に大きくなる。このため、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２に表面粗さを分散させることで、摩擦力の低減及び透明駆動時のヘイズを低減できることを見出した。
　配向層２１の強度を高めること、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２に表面粗さを分散させてもたせることを両立させるため、第１基材１１及び第２基材１２は少なくとも以下の条件１～３を満たす。
　（条件１）下地層１１Ａの表面１１Ａ１は、鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有している。
　（条件２）配向層２１が含む第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１が０ｎｍ超２０ｎｍ以下である（０ｎｍ＜Ｒａ１≦２０ｎｍ）。
　（条件３）第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である（５ｎｍ≦Ｒａ１＋Ｒａ２）。
　条件１について説明する。下地層１１Ａの表面１１Ａ１の高い硬度は、下地層１１Ａに含まれるハードコート層２３によって実現される。配向層２１は、その厚さがナノオーダーであるため、強度が小さい。第１基材１１によれば、高い鉛筆硬度がハードコート層２３によって実現されるから、配向層２１が、液晶分子の配向を規制する規制力を好適に備えつつ、高い強度を有することが可能となる。下地層１１Ａの表面１１Ａ１の鉛筆硬度試験における硬度がＦより小さくなると、配向層２１の強度が低下して、摩擦力や、第１面１１Ｓ１の法線方向への押し込み力によって配向層２１の欠陥が発生しやすくなる。
　なお、鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９「塗料一般試験方法－第５部：塗膜の機械的性質－第４節：引っかき硬度（鉛筆法）」に準拠した方法によって行われる。また、下地層１１Ａの表面１１Ａ１の硬度は、ハードコート層２３によって実現されるため、ハードコート層２３のうち導電層２２と接する面の鉛筆硬度もＦ以上である。下地層１１Ａの表面１１Ａ１に接する配向層２１自体の鉛筆硬度はＦよりも低い。しかし、膜厚を適切な範囲とすることによって、配向層２１が導電層２２を介してハードコート層２３に積層されることでＦ以上の鉛筆硬度を発現する。
　条件２について説明する。表面粗さＲａ１は、第１面１１Ｓ１の算術平均粗さＲａである。第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１を条件２で規定する範囲とし、必要な表面粗さを第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２に分散させることで、第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２を大きくすることによるヘイズの過度な上昇を抑制することができる。第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１が２０ｎｍを超えると（２０ｎｍ＜Ｒａ１）、配向層２１が液晶分子を配向させるための配向規制力が、部分的に低下する。配向規制力が低下した部分においては液晶分子がランダムに配向するため、調光シート１０の透明駆動時においても局所的に白濁した部分として視認される。さらに、配向層２１の凹凸形状の高低差が大きくなるため、凸形状の頭頂部や凹形状の底部に外力が集中しやすくなる。その結果、配向層２１に外力が加わった場合に欠陥が生じやすくなる。第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１を条件２に規定した範囲にすることにより、配向層２１の配向規制力を確保して調光シート１０のヘイズを適切に制御することが可能となり、配向層２１の欠陥を低減することができる。なお、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２に表面粗さを分散させる上では、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１は２ｎｍ以上であることが好ましい。
　条件３について説明する。表面粗さＲａ２は、第２面１１Ｓ２の算術平均粗さＲａである。第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２を条件３で規定する範囲とすることで、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の間に発生する摩擦力を低減することができる。表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍを下回ると（Ｒａ１＋Ｒａ２＜５ｎｍ）、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の間に発生する摩擦力が大きくなり、配向層２１の欠陥が発生しやすくなる。また、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の接触面積が大きくなることにより、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２が密着して剥がれにくくなるブロッキングが生じやすくなる。これにより、フィルムロールからフィルムを引き出したときに、密着した第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２が強制的に剥がされることにより配向層２１の欠陥が生じてしまう。
　さらに、第１基材１１及び第２基材１２は、条件１～３に加え、以下の条件４，５を満たすことが好ましい。
　（条件４）易滑層２６が含む第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２が０ｎｍ超１００ｎｍ以下である（０＜Ｒａ２≦１００ｎｍ）。
　（条件５）表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍ以下である（Ｒａ１＋Ｒａ２≦１２０ｎｍ）。
　条件４について説明する。第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２を条件４で規定する範囲とすることで、透明駆動時における調光シート１０の透明度を高めることができる。駆動時の調光シート１０のヘイズは２０％以下が好ましい。透明駆動時の透明性が特に求められる用途によって１５％以下であると好ましい場合がある。透明駆動時のヘイズが２０％を超えると調光シート１０を介して物体が肉眼で識別しにくくなる。調光シート１０のヘイズは、第１基材１１と空気との界面及び第２基材１２と空気との界面での散乱である外部ヘイズ、粒子２６Ｐと易滑層２６との屈折率の差や上述したような配向層２１の配向力の低下等といった調光シート１０の内部構造の要因で生じる内部ヘイズとに応じて決まる。このうち、第２面１１Ｓ２の表面粗さは外部ヘイズを変化させる。つまり、第２面１１Ｓ２での可視光の散乱が大きくなり、第１基材１１及び第２基材１２のヘイズは高くなる。第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２が１００ｎｍを超えると、調光シート１０を透明駆動した場合の透明度は、用途に応じては実用性を確保できるが、ヘイズが１５％を上回る。
　条件５について説明する。条件１を満たした上で、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍであると、配向層２１の配向規制力を維持しつつ、透明駆動時における調光シート１０のヘイズが過度に上昇することを抑制することができる。具体的には、透明駆動時における調光シート１０のヘイズを１５％以下とすることができる。第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍを超えると、透明駆動時のヘイズが１５％を超える。
　［作用］
　図３を参照して、第１基材１１の作用を説明する。
　第１基材１１を用いて調光シート１０が製造される際には、第１基材１１が、第１基材１１の長手方向に沿って、ロールツーロール装置によって搬送される。このとき、第１基材１１には、長手方向に沿って張力が加わり、かつ、第１基材１１が、ロールツーロール装置が備えるガイドロールに接しながら長手方向に沿って搬送される。そのため、第１基材１１の第１面１１Ｓ１がガイドロールに接する場合には、配向層２１が含む第１面１１Ｓ１とガイドロールとの間において摩擦が生じる。第１面１１Ｓ１に作用する摩擦力が第１面１１Ｓ１の強度を超えた場合には、配向層２１のうち、摩擦力が作用した部分に物理的な損傷である欠陥が生じる。また、第１基材１１の第２面１１Ｓ２がガイドロールに接する場合には、易滑層２６が含む第２面１１Ｓ２とガイドロールとの間において摩擦が生じる。欠陥は、配向層２１の一部が剥離したり損壊したりする等、欠損し、配向規制力を発揮できなくなった部分である。
　図３が示すように、第１基材１１は帯状を有するから、第１基材１１をロールツーロール装置から他の装置に運搬する際、または、第１基材１１を保管する際などには、第１基材１１はコアＣに巻き付けられたロール状を有する。
　第１基材１１がコアＣに巻き付けられた場合には、第１基材１１の第１面１１Ｓ１と第２面１１Ｓ２との間において摩擦が生じる。第１面１１Ｓ１に作用する摩擦力が第１面１１Ｓ１の強度を超えた場合には、配向層２１のうち、摩擦力が作用した部分に欠陥が生じる。また、第１基材１１が運搬される際には、第１基材１１に振動が加えられるから、第１基材１１の第１面１１Ｓ１の一部と、当該一部に接している第２面１１Ｓ２の一部との間において摩擦が生じる。
　また第１基材１１がコアＣに巻き付けられた場合には、基材の厚み方向へ圧力が生じる。第１基材１１等の基材フィルムをコアＣに巻き付けるという動作は、基材フィルムをコアＣに押付けるという瞬間的動作の繰り返しだからである。この時、第１面１１Ｓ１に作用する摩擦力や押圧力が第１面１１Ｓ１の強度を超えると、配向層２１のうち、摩擦力や押圧力が作用した部分に欠陥が生じる。さらに、第１基材１１には若干量の波打ちが生じることがある。第１基材１１に波打ちが生じると、波打ちが生じた凹凸部分が、凹凸部分に接する部分を押圧する。この場合にも、第１面１１Ｓ１に作用する摩擦力や押圧力が第１面１１Ｓ１の強度を超えると、配向層２１のうち、摩擦力や押圧力が作用した部分に欠陥が生じる。
　この点、条件１～３が満たされることにより、配向層２１の欠陥が抑制される。また、条件２が満たされることにより、透明駆動時の調光シート１０のヘイズを小さくすることができる。
　本実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
　（１）鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有する下地層１１Ａの上に配向層２１を形成するため、配向層２１の強度を高めることができる。また、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１及び第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である。このため、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２の間に生じる摩擦力を低減し、配向層２１の欠損を抑制することができる。また、第１面１１Ｓ１及び第２面１１Ｓ２に表面粗さを分散しつつ、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１が２０ｎｍ以下とする。このため、第２面１１Ｓ２の表面粗さを大きくすることでのヘイズの過度な上昇を抑制しつつ、配向層２１の配向規制力を良好に維持することができる。よって、調光シート１０が備える配向層２１における物理的な損傷を抑えることができる。
　（２）第２面１１Ｓ２の表面粗さが１００ｎｍ以下であるため、第１基材１１及び第２基材１２を用いた調光シート１０において第２面１１Ｓ２における散乱を抑制することができる。
　（３）表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍ以下であるため、配向層２１の配向規制力を維持しつつ、第１基材１１及び第２基材１２を用いた調光シート１０において第２面１１Ｓ２における光の散乱を抑制することができる。
　（４）支持基材２４及び配向層２１の間に、鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有するハードコート層２３が位置する。このため、配向層２１が極めて薄いために強度が小さくなる場合であっても、ハードコート層２３によって配向層２１を補強することができる。
　（５）ハードコート層２３に含まれる粒子２３Ｐの少なくとも一部の直径又は複数の粒子２３Ｐからなる凝集粒子の少なくとも一部の直径が、ハードコート層２３の厚さ、導電層２２の厚さ及び配向層２１の厚さの和よりも大きい。このため、ハードコート層２３に含有される粒子２３Ｐが、又は複数の粒子２３Ｐからなる凝集粒子が、配向層２１に含まれる第１面１１Ｓ１から突出する。これにより、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１を大きくすることができる。また、粒子２３Ｐの含有量を調整することで、表面粗さＲａ１を制御することが可能となる。
　（６）配向層２１は、シリコーン系樹脂又はポリイミド系樹脂を含むため、配向層２１の熱的安定性及び化学的安定性を高めることができる。
　［変形例］
　上記実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。また、以下の各変形例及び上記実施形態は、組み合わせて実施してもよい。
　［下地層］
　・上記実施形態における下地層１１Ａはハードコート層２３を備えている。これに代えて、第１面１１Ｓ１が条件１，２を満たせば、下地層１１Ａはハードコート層２３を備えなくてもよい。この場合には、例えば、支持基材２４が、第１面１１Ｓ１がＦ以上の鉛筆硬度を有する程度に高い強度を有すればよい。
　・上記実施形態における下地層１１Ａはハードコート層２３に含有される粒子２３Ｐを備えている。これに代えて、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲａ１が条件２，３を満たせば、下地層１１Ａは粒子２３Ｐを備えなくてもよい。この場合には、配向層２１、導電層２２及び支持基材２４が、第１面１１Ｓ１の表面粗さＲ１ａが条件２，３を満たす程度に大きい表面粗さを有していればよい。
　・上記実施形態における下地層１１Ａは易滑層２６を備えている。これに代えて、第２面１１Ｓ２が少なくとも条件３を満たせば、下地層１１Ａは易滑層２６を備えなくてもよい。この場合には、例えば、支持基材２４が第２面１１Ｓ２を含み、第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２が条件３を満たしていればよい。加えて、支持基材２４が含む第２面１１Ｓ２が条件４，５を満たすことが好ましい。
　また支持基材２４の第２面２４Ｂ面側に保護フィルムといった別フィルムを貼合し１１Ｓ２の表面粗さＲａ２を満たすような形態でも良い。この場合、調光フィルム使用時に保護フィルムを剥離する必要があるものの支持基材２４の設計自由度を挙げることができる。
　・上記実施形態における下地層１１Ａは易滑層２６に含有される粒子２６Ｐを備えている。これに代えて、第２面１１Ｓ２の表面粗さＲａ２が少なくとも条件３を満たせば、下地層１１Ａは粒子２６Ｐを備えなくてもよい。この場合には、支持基材２４が、第２面１１Ｓ２の表面粗さＲ２ａが条件３の範囲を実現させる程度に大きい表面粗さを有していればよい。
　・導電層２２は、下地層１１Ａの厚さ方向において、支持基材２４とハードコート層２３との間に位置してもよい。この場合であっても、下地層１１Ａがハードコート層２３を有するから、上述した（１）に準じた効果を得ることはできる。なお、この場合には、下地層１１Ａの厚さ方向において、導電層２２と第１面１１Ｓ１との間の距離が拡張されるから、液晶分子の駆動により高い電圧を有する場合がある。
　［調光シート］
　・上記実施形態では、液晶デバイスを、通電時に直線透過率が低くなり非通電時に直線透過率が高くなるリバース型の調光シート１０に具体化した。これに代えて、液晶デバイスは、通電時に可視光の直線透過率が高くなり非通電時に直線透過率が低くなるノーマル型の調光シートとして具体化してもよい。ノーマル型の調光シートとしては、例えば水平配向規制力を有する１対の配向層の間にｐ型液晶を含む調光層を備える調光シート、又は垂直配向力を有する１対の配向層の間にｎ型液晶を含む調光層を備える調光シート等がある。ｎ型液晶を含む調光層を備える調光シートは、１対の偏光板の間に第１基材、調光層及び第２基材を有する。
　［液晶デバイス］
　・本開示の液晶デバイス用透明基材が適用される液晶デバイスは、配向層を備えるものであれば、上述した調光シートに限られない。例えば、液晶表示デバイス（Liquid Crystal Display）であってもよい。
　［実施例］
　図４を参照して実施例及び比較例について具体的に説明する。なお、これらの実施例は本開示を限定するものとは限らない。
　［実施例１］
　＜易滑層の作製＞
　まず易滑層を形成するための易滑層用塗料を調整した。高架橋度アクリル系ハードコート剤（リオデュラスLCH6701、トーヨーケム株式会社製）に、平均粒子径２μｍのアクリル粒子（テクポリマーＳＳＸ‐１０２、積水化成品工業株式会社製）を０．０２重量％添加した。さらに、ハードコート塗料に、メチルエチルケトンを加え、アクリル粒子を含む固形分濃度が５０重量％となるように調整した。
　ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）からなるフィルム（コスモシャインＡ４３００、東洋紡株式会社製）（コスモシャインは登録商標）を準備した。ＰＥＴフィルムの全体厚みは１２５μｍとした。そのＰＥＴフィルムの片面に、調整した易滑層用塗料をグラビアコーターで塗布した。その際、硬化した易滑層のうちアクリル粒子が存在しない部分の厚さが１．５μｍとなるように塗布した。易滑層用塗料を塗布したＰＥＴフィルムを８０℃の温度で１分間にわたり乾燥した後、高圧水銀灯を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、易滑層を硬化させた。そして、易滑層が形成されたＰＥＴフィルムをインラインで巻き取り、易滑層付きフィルムを捲回したフィルムロールを得た。
　＜ハードコート層の作製＞
　次に易滑層付きフィルムのうち、易滑層が形成された面に対して反対側となる面にハードコート層を形成した。まずハードコート塗料（第１塗料）を調整した。高架橋度アクリル樹脂ハードコート剤（リオデュラスLCH6701、トーヨーケム株式会社製）に、平均粒子径２μｍのアクリル粒子（テクポリマーＳＳＸ‐１０２、積水化成品工業株式会社製）を０．０２重量％添加した。さらに、ハードコート塗料に、メチルエチルケトンを加え、固形分濃度が５０重量％となるように調整した。
　易滑層付きフィルムのうち、易滑層が形成された面に対して反対側の面に、調整したハードコート塗料をグラビアコーターで塗布した。その際、硬化したハードコート層のうちアクリル粒子が存在しない部分の厚さが１．５μｍとなるように塗布した。ハードコート塗料を塗布した易滑層付きＰＥＴフィルムを６０℃の温度で１分間にわたり乾燥した後、高圧水銀灯を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、ハードコート層を硬化させた。そして、ハードコート層が形成されたフィルムをインラインで巻き取り、ハードコート層付きフィルムを捲回したフィルムロールを得た。
　＜導電層の作製＞
　次に、ハードコート層に導電層を形成した。導電層の成膜には、酸化インジウム（９０重量％）と酸化スズ（１０重量％）の混合焼結ターゲットを備えたロールスパッタ装置を用いた。このロールスパッタ装置に、フィルムロールをセットし、装置内を０．４Ｐａとなるまで排気した。その後、アルゴンガス及び酸素ガスを装置に導入した。そして、フィルムに加わる温度である基材温度を４０℃とし、圧力０．４Ｐａとして成膜を行った。これにより、下地層に厚み５０ｎｍの導電層を形成した。さらに導電層を形成したＰＥＴフィルムを、１４０℃の温度で９０分間加熱処理することで導電層を結晶化させた。この導電層付きのフィルムをロール状に巻き取った。
　＜配向層の作製＞
　次に導電層に配向層を積層した。ポリアミック酸を主材料とする配向層用塗料（サンエバー　ＳＥ－Ｈ６８２、日産化学株式会社製）（サンエバーは登録商標）を固形分が５重量％となるように溶媒を用いて調整することによって、配向層を形成するための塗液を得た。なお、溶媒では、プロピレングリコールモノメチルエーテルとγブチルラクトンとの重量比を以下のように設定した。
　プロピレングリコールモノメチルエーテル：γブチルラクトン＝８：２
　フィルムロールから導電層付きフィルムを引き出し、配向層用塗料を導電層上にロールコータを用いて塗布した。そして、配向層用塗料を塗布したフィルムを、１５０℃の温度で５分間乾燥して１００ｎｍの厚さを有した配向層を形成した。これにより、ポリアミック酸を主原料とする塗料は、ポリイミドを主骨格とする配向層となる。配向層が積層されたフィルムをロール状に巻き取って回収した。これにより、下地層を含むフィルムを得た。下地層付フィルムを巻き取ったフィルムロールは２ロール１セットとして準備する。液晶デバイス用透明基材を２３℃かつ相対湿度が５０％ＲＨに保たれたクリーンルーム内で７日間保管した。この下地層付きフィルムを、フィルム単体のサンプルとした。
　＜液晶デバイス用透明基材の特性＞
　フィルムロールから下地層付きフィルムを引き出し、所定の大きさにカットした後、以下の評価を行った。
　（Ａ）第１面の表面粗さＲａ１の測定
　配向層が含む第１面について、白色干渉計（VertScan R3300h Lite、株式会社菱化システム製）を用い、算術平均粗さを測定した。この際に、長方形状を有する視野であって、幅が１．４０８であり、長さが１．８８５ｍｍである視野を、算術平均粗さの測定対象とした。また、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２０１３に準じた方法によって、算術平均粗さを測定した。そして、この算術平均粗さを第１面の表面粗さＲａ１とした。実施例１における第１面の表面粗さＲａ１は、４ｎｍであった。
　（Ｂ）第２面の表面粗さＲａ２の測定
　易滑層２６が含む第２面について表面粗さＲａ２を測定した。第２面の表面粗さＲａ２は、第１面の表面粗さＲａ１と同様に測定した。実施例１における第２面の表面粗さＲａ２は、３ｎｍであった。
　（Ｃ）表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和
　第１面の表面粗さＲａ１及び第２面の表面粗さＲａ２の和を求めた。実施例１における表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は、７ｎｍであった。
　（Ｄ）鉛筆硬度の測定
　下地層のうち配向層に接する表面に対して鉛筆硬度試験を行った。この際に、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９「塗膜一般試験方法－第５部：塗膜の機械的性質－第４節：引っかき硬度（鉛筆法）」に準拠した方法を用いた。実施例１における鉛筆硬度はＨであった。
　（Ｅ）フィルムロールの外観
　フィルムロールに、基材の表裏の貼り付きや膨らみが生じていないかどうか、フィルムロールの巻姿を目視で観察した。標準には、基材の表裏の貼り付きや膨らみが生じていないフィルムロールを用いた。フィルムロールの巻姿が標準に比べて変形している場合には、フィルムロールに基材の表裏の貼り付きや膨らみが生じていると判定した。例えば、フィルムロールをその正面から見て基材の表面を視認した。このとき、基材の表裏の貼り付きは周囲に比べて過剰に透明な箇所として確認された。又は、フィルムロールをその側面から見て、捲回された基材の端面を視認した。このとき、基材の端面が真円に近い円形状をなす状態で捲回されず多角形状をなす態で捲回されている場合、貼り付きや膨らみが生じていると判定した。基材の表裏の貼り付きや膨らみが発生していると、基材をフィルムロールから引き出したときに、基材自体が変形したり、最悪の場合フィルムが破れる等の事態が生じうる。基材の表裏の貼付きや膨らみが生じている場合には、不良（ＮＧ）とし、基材の表裏の貼付きや膨らみが確認できない場合は優良（ＯＫ）とした。
　＜調光シートの作製＞
　下地層付きフィルムを捲回したフィルムロールを、２３℃の温度且つ５０％の相対湿度に保たれたクリーンルームに７日間保管した。その後、フィルムロールを次の工程を行う場所に運搬した。
　１対の配向層付きフィルムの間に調光層を作製した。紫外線硬化型コーティング剤（ロックタイト３７３６、ヘンケル社製）１７．５重量部、１，９－ノナンジオールメタクリレート１７．５重量部を混合した。さらに、この混合物に、６５重量部のｎ型液晶組成物（ＭＬＣ－６６０８、メルク社製）を混合し、調光層用塗料を得た。
　イソプロピルアルコールに、ジビニルベンゼンを主成分とする粒径が６μｍのビーズスペーサを分散させた。このスペーサ分散剤を、配向層付きフィルムの第１面にビーズスペーサの専有面積が１．５％となるように塗布した。そして、スペーサ分散剤を塗布したフィルムを１００℃の温度で乾燥させ、このフィルムを巻き取った。
　ビーズスペーサが散布された配向層付きフィルムを捲回した第１のフィルムロールから、配向層付きフィルムを引き出し、配向層上に調光層塗料をダイヘッドコーターで塗布した。次いで、窒素雰囲気下で、３５０ｎｍ以下の波長の光線をカットした高圧水銀灯により紫外線を調光層塗料に照射して調光層塗料を硬化させた。このとき、照度を２０ｍW／ｃｍ２、照射時間を３０秒、温度を２５℃とした。さらに、第２のフィルムロールから引き出した配向層付きフィルムを調光層に重ねて接合させた。これにより、調光層が１対の配向層付きフィルムによって挟まれた調光シートを得た。
　（実施例２）
　実施例１において、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を１．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例２における第１面の表面粗さＲａ１は５ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は４０ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は４５ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例３）
　実施例１において、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例３における第１面の表面粗さＲａ１は４ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は９７ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１０１ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例４）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．０２５重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例４における第１面の表面粗さＲａ１は６ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は５ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１１ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例５）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．０２５重量％に変更し、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を１．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例５における第１面の表面粗さＲａ１は９ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は３５ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は４４ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例６）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．０２５重量％に変更し、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例６における第１面の表面粗さＲａ１は６ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は１００ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１０６ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例７）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．４５重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例７における第１面の表面粗さＲａ１は１８ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は５ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は２３ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例８）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．４５重量％に変更し、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を１．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例８における第１面の表面粗さＲａ１は１７ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は５０ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は６７ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例９）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．４５重量％に変更し、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例９における第１面の表面粗さＲａ１は１９ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は９９ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１１８ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例１０）
　実施例１において、アクリル樹脂ハードコート層塗料として第１塗料に代えて第２塗料（リオデュラスTP-203Xコート剤、東洋インキ株式会社製）を用い、ハードコート層にアクリル粒子を添加せず、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。なお、実施例１０で用いたアクリル樹脂は、実施例１で用いたアクリル樹脂よりも架橋度が低い。実施例１０における第１面の表面粗さＲａ１は２ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は９８ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１００ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨＢであった。
　（実施例１１）
　実施例１において、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を４．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例１１における第１面の表面粗さＲａ１は４ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は１２５ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１２９ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例１２）
　実施例１において、ハードコート層にアクリル粒子を添加せず、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例１２における第１面の表面粗さＲａ１は３ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は９８ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１０１ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（実施例１３）
　実施例１において、ハードコート層にアクリル粒子を添加せず、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を０．１０重量％に変更した以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。実施例１３における第１面の表面粗さＲａ１は２ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は５ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は７ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（比較例１）
　実施例１において、ハードコート層及び易滑層の両方にアクリル粒子を添加しない以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。比較例１における第１面の表面粗さＲａ１は１ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は２ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は３ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（比較例２）
　実施例１において、ハードコート層のアクリル粒子の添加量を０．８３９重量％に変更し、易滑層にアクリル粒子を添加しない以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。比較例２における第１面の表面粗さＲａ１は３１ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は２ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は３３ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度はＨであった。
　（比較例３）
　実施例１において、ハードコート層を設けずに、支持基材に導電層及び配向層を設け、易滑層に添加するアクリル粒子の添加量を３．００重量％とした以外は実施例１と同様の方法によってフィルム単体及び調光シートを作製した。比較例３における第１面の表面粗さＲａ１は２ｎｍ、第２面の表面粗さＲａ２は９８ｎｍ、表面粗さＲａ１及び表面粗さＲａ２の和は１００ｎｍであった。また、下地層の表面の鉛筆硬度は２Ｂであった。
　＜調光シートの評価＞
　実施例１～１３及び比較例１～３の調光シートの評価を行った。各調光シートの欠陥数及びヘイズは図４に示す。
　（Ｆ）ヘイズの測定
　実施例１～１３及び比較例１～３の液晶デバイス用透明基材について、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６：２０００「プラスチック－透明材料のヘーズの求め方」に準拠した方法でヘイズを測定した。ヘイズが１．０％以下であるものを優良とし、１．０％超であるものを不良（ＮＧ）とした。
　（Ｇ）ヘイズの測定
　実施例および比較例の調光シートから、Ａ３サイズの試験片を切り出した。各試験片において、各ＩＴＯ層の一部を外部に露出させ、これによって調光シートに電圧を印加するための端子を形成した。そして、各試験片について、電圧が印加されていない状態でのヘイズを測定した。また、露出させた導電層を鰐口クリップで挟み込み、交流電源装置（ＰＣＲ－３０００ＷＥ、菊水電子工業株式会社製）を用いて一対の導電層の間に６０Ｈｚの周波数で４０Ｖの交流電圧を印加した。そして、電圧を印加しながらヘイズメーター（スガ試験機製NDH-7000SP）を用いてヘイズを測定した。ヘイズを測定する際には、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６：２０００「プラスチック－透明材料のヘーズの求め方」に準拠した方法を用いた。透明駆動時のヘイズが１５％以下であるものを優良とし、１５％超であるものを不良とした。また、不透明駆動時のヘイズが１５％以下であるものを良品とし、１５％超であるものを不良とした。
　（Ｈ）調光フィルムの欠陥数
　調光フィルムを１ｍ×１ｍの大きさにカットしてサンプルとした。駆動電圧をサンプルに印加せず、１０００ルクス以上の三波長光源の光を照射し、目視にて欠陥箇所の数を数えた。欠陥箇所は、調光フィルムを目視したときに周囲より白濁してみえる箇所のうち最大直径が２ｍｍ以上の箇所とした。配向層の欠陥数が多いと透明駆動時に配向規制力が不足することにより、液晶分子が垂直に配向せずランダムに配向することになる。これにより、入射光が散乱し白濁して見える。欠陥数が５０未満であるものを優良とし、欠陥数が５０以上のものを不良とした。
　（総合評価）
　（Ｈ）の評価が優良であるものを良品と判定し、（Ｈ）の評価が不良であるものを不良品とした。
　＜評価結果＞
　比較例１は、表面粗さの和Ｒａ１＋Ｒａ２が３ｎｍであり条件３を満たさない。巻姿に、貼付きや膨れ等の現象が確認されたため、不良として評価とした。これは、第１面及び第２面が平滑すぎるために基材の表裏で貼付きが発生したためと考えられる。また、配向層の欠陥数は５０以上であり、欠陥が多く不良とした。これは基材の表裏で貼付きが発生し、基材を引き出す際に配向層の剥離が発生したためと考えられる。よって総合評価では比較例１の基材及び調光シートは不良品とした。
　比較例２は、第１面の表面粗さＲａ１は３０ｎｍであり条件２を満たさない。また、このフィルムロールから液晶デバイス用透明基材を引き出して作成した調光シートを作製する際、液晶デバイス用透明基材の欠陥部の数が多く、白濁部と透明部とが混在していた。このため、ヘイズメーターで測定できるだけのヘイズが均一なサンプルを得ることができず、ヘイズ等の光学特性の測定は困難であった。このため測定不可とした。また、調光シートの欠陥数は５０以上であり、欠陥数が多いため不良とした。これは、第１面の表面粗さＲａ１が大きいために配向層の配向規制力が低下したためと考えられる。このため、総合評価は不良品とした。
　比較例３は、ハードコート層を有さないため第１面の硬度が低くなり条件１を満たさない。また、このフィルムロールから液晶デバイス用透明基材を引き出して作成した調光シートを作製する際、液晶デバイス用透明基材の欠陥部が多かったため、透明部分を選別してヘイズを測定した。調光シートの欠陥数は５０個以上であることが明らかであり、多すぎたため、カウントを断念した。これは、配向層の強度が小さいため、液晶デバイス用透明基材をロール状に巻いたとき、運搬するとき又は引き出したとき等に、配向層が剥離したものと考えられる。このため、総合評価は不良品とした。
　１０…調光シート
　１１…第１基材
　１１Ａ…下地層
　１２…第２基材
　１３…調光層
　２１…配向層
　２２…導電層
　２３…ハードコート層
　２４…支持基材
　２５…接着層
　２６…易滑層

Claims (8)

  1. 　液晶デバイスが備える液晶層が含む液晶分子の配向方向を規制する配向層と、前記配向層が形成される下地層とを含む液晶デバイス用透明基材であって、
    　第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを備え、
    　前記第１面は、前記配向層が含む面であり、
    　前記第２面は、前記下地層が含む面であり、
    　前記下地層のうち前記配向層と接する面は鉛筆硬度試験においてＦ以上の硬度を有し、
    　前記第１面の表面粗さＲａ１が２０ｎｍ以下であり、
    　前記第１面の表面粗さＲａ１及び前記第２面の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が５ｎｍ以上である
    　液晶デバイス用透明基材。
  2. 　前記第２面の表面粗さＲａ２が１００ｎｍ以下である
    　請求項１に記載の液晶デバイス用透明基材。
  3. 　前記第１面の表面粗さＲａ１及び前記第２面の表面粗さＲａ２の和Ｒａ１＋Ｒａ２が１２０ｎｍ以下である
    　請求項１又は２に記載の液晶デバイス用透明基材。
  4. 　前記下地層は、支持基材、ハードコート層、導電層及び前記配向層を含み、
    　前記ハードコート層は前記支持基材及び前記配向層の間に位置する
    　請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶デバイス用透明基材。
  5. 　前記ハードコート層は複数の粒子を含み、
    　前記粒子の直径又は前記複数の粒子からなる凝集粒子の直径は、前記ハードコート層の厚さ、前記導電層の厚さ及び前記配向層の厚さの和よりも大きい
    　請求項４に記載の液晶デバイス用透明基材。
  6. 　前記第１面及び前記第２面の少なくとも一方から、前記下地層に含まれる粒子の少なくとも一部が突出する
    　請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶デバイス用透明基材。
  7. 　前記配向層は、シリコーン系樹脂又はポリイミド系樹脂を含む
    　請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶デバイス用透明基材。
  8. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の液晶デバイス用透明基材と、
    　前記液晶デバイス用透明基材の前記第１面に接し、液晶分子を含む調光層を備える
    　調光シート。
PCT/JP2022/018569 2021-04-22 2022-04-22 液晶デバイス用透明基材、及び調光シート WO2022225051A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202280027612.2A CN117120919A (zh) 2021-04-22 2022-04-22 液晶设备用透明基材、以及调光片
EP22791822.4A EP4328661A1 (en) 2021-04-22 2022-04-22 Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet
US18/487,433 US20240061291A1 (en) 2021-04-22 2023-10-16 Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-072532 2021-04-22
JP2021072532A JP2022167036A (ja) 2021-04-22 2021-04-22 液晶デバイス用透明基材、及び調光シート

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US18/487,433 Continuation US20240061291A1 (en) 2021-04-22 2023-10-16 Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022225051A1 true WO2022225051A1 (ja) 2022-10-27

Family

ID=83723094

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/018569 WO2022225051A1 (ja) 2021-04-22 2022-04-22 液晶デバイス用透明基材、及び調光シート

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240061291A1 (ja)
EP (1) EP4328661A1 (ja)
JP (1) JP2022167036A (ja)
CN (1) CN117120919A (ja)
WO (1) WO2022225051A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024034687A1 (ja) * 2022-08-12 2024-02-15 大日本印刷株式会社 調光部材、調光部材の製造方法、調光体

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07239484A (ja) * 1994-02-25 1995-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd 液晶光学素子
JPH07270763A (ja) * 1994-04-01 1995-10-20 Pilot Corp:The 液晶表示素子
JPH10111500A (ja) * 1996-03-25 1998-04-28 Teijin Ltd 透明電極基板及びそれを用いた液晶表示素子
JP2001221998A (ja) * 1991-08-01 2001-08-17 Seiko Epson Corp 液晶表示素子及び電子機器
JP2006154158A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Hitachi Displays Ltd 液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子
WO2011068128A1 (ja) * 2009-12-02 2011-06-09 日産化学工業株式会社 電極保護膜形成剤
JP2014095896A (ja) * 2012-10-12 2014-05-22 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびその用途
JP2015007732A (ja) * 2013-06-26 2015-01-15 凸版印刷株式会社 ハードコートフィルム
JP2018045135A (ja) 2016-09-15 2018-03-22 凸版印刷株式会社 調光フィルム、及びそれを用いた調光装置並びにスクリーン
JP2019174760A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 三菱ケミカル株式会社 液晶セル積層体

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101915499B1 (ko) * 2016-06-07 2018-11-08 주식회사 엘지화학 입자의 도포방법

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001221998A (ja) * 1991-08-01 2001-08-17 Seiko Epson Corp 液晶表示素子及び電子機器
JPH07239484A (ja) * 1994-02-25 1995-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd 液晶光学素子
JPH07270763A (ja) * 1994-04-01 1995-10-20 Pilot Corp:The 液晶表示素子
JPH10111500A (ja) * 1996-03-25 1998-04-28 Teijin Ltd 透明電極基板及びそれを用いた液晶表示素子
JP2006154158A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Hitachi Displays Ltd 液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子
WO2011068128A1 (ja) * 2009-12-02 2011-06-09 日産化学工業株式会社 電極保護膜形成剤
JP2014095896A (ja) * 2012-10-12 2014-05-22 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびその用途
JP2015007732A (ja) * 2013-06-26 2015-01-15 凸版印刷株式会社 ハードコートフィルム
JP2018045135A (ja) 2016-09-15 2018-03-22 凸版印刷株式会社 調光フィルム、及びそれを用いた調光装置並びにスクリーン
JP2019174760A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 三菱ケミカル株式会社 液晶セル積層体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024034687A1 (ja) * 2022-08-12 2024-02-15 大日本印刷株式会社 調光部材、調光部材の製造方法、調光体

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022167036A (ja) 2022-11-04
US20240061291A1 (en) 2024-02-22
EP4328661A1 (en) 2024-02-28
CN117120919A (zh) 2023-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8525405B2 (en) Electronic devices with flexible glass polarizers
US8672493B2 (en) Display device and optical film
WO2011027905A1 (ja) 光拡散フィルムおよびその製造方法、光拡散性偏光板、ならびに液晶表示装置
WO2011027903A1 (ja) 光拡散フィルムおよびその製造方法、光拡散性偏光板、ならびに液晶表示装置
WO2012046790A1 (ja) 光拡散フィルムおよびその製造方法、光拡散性偏光板、ならびに液晶表示装置
US20240061291A1 (en) Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet
WO2011162133A1 (ja) 光拡散性偏光板および液晶表示装置
JP2015157411A (ja) ガスバリアフィルム及びその製造方法
JP2012078420A (ja) 光拡散性偏光板および液晶表示装置
CN114144702B (zh) 防眩性硬涂薄膜、防眩性硬涂薄膜的制造方法、光学构件和图像显示装置
WO2018225463A1 (ja) 上用光拡散シートおよびそれを備えたバックライトユニット
WO2012060457A1 (ja) 光拡散フィルムおよびその製造方法、光拡散性偏光板、ならびに液晶表示装置
JP2011079219A (ja) ガスバリアフィルムおよびその製造方法
JP2009103884A (ja) 打ち抜き可能な耐擦傷性複層レンズフイルム
TWI519827B (zh) A light diffusion film and a method for producing the same, a coating liquid for use, and a polarizing plate using the same, and a liquid crystal display device
US6985295B2 (en) Light diffusing film
WO2022225058A1 (ja) 液晶デバイス用透明基材、および、調光シート
US20230417956A1 (en) Polyester film, polarizing plate and image display device
JP5827811B2 (ja) 液晶表示装置
WO2012074123A1 (ja) 光学フィルムおよび液晶表示装置
WO2011162132A1 (ja) 光拡散性偏光板および液晶表示装置
KR20170092892A (ko) Lcd 백라이트용 갈림개선 광확산 시트
KR20150139682A (ko) 메탈 메시용 기재필름
CN118550007A (zh) 光学膜的制造方法、光学膜、光学部件的制造方法、图像显示装置的制造方法、光学部件以及图像显示装置
KR20190059490A (ko) 휘도 증강용 광학 복합 시트

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22791822

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2022791822

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022791822

Country of ref document: EP

Effective date: 20231122